DE102010046963A1 - Multi-Chip Package - Google Patents
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Abstract
Chipmodul aufweisend ein Substrat, elektronische Bauelemente, wobei die elektronischen Bauelemente auf einer ersten Seite des Substrats angeordnet sind, eine isolierende Schicht die auf die erste Seite des Substrats und auf die elektronischen Bauelemente aufgebracht ist, wobei in der isolierenden Schicht Kontaktöffnungen angeordnet sind, die eine elektrische Kontaktierung der elektronischen Bauelemente ermöglichen und wobei auf der isolierenden Schicht und in den Kontaktöffnungen eine elektrisch leitende Schicht angeordnet ist, die die elektronischen Bauelemente miteinander elektrisch verbindet.
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft eine effiziente Verschaltung mehrerer elektrischer Bauelemente zu einem Multi-Chip Modul.
- Bisher wurde die Verschaltung von mehreren elektrischen Bauelementen oder Chips auf einem Substrat zu einem Multichip-Modul mittels Drahtverbindungen im sogenannten Wirebond-Verfahren realisiert. Dabei werden die elektrischen Kontakte auf den Oberseiten der Chips mit Kontaktflächen auf dem Substrat oder mit Kontaktflächen auf anderen Chips verbunden. Als Materialien für die Drahtverbindung eignen sich insbesondere Gold, Aluminium und Kupfer. Nachteil dieser Drahtbondtechnologie ist die eingeschränkte Zuverlässigkeit dieser Verbindungstechnologie und somit kann es zu einem Versagen des gesamten Bauteils kommen. Ferner ist das Drahtbonden ein serieller Prozess, der relativ lange Zeit in Anspruch nimmt ist somit teuer. Zudem ist der Platzbedarf um die Verbindungen herstellen zu können nicht unerheblich. Die Drahtbondtechnologie verhindert somit eine Optimierung der Bauteilgröße.
- Eine Möglichkeit dieses Problem zu lösen besteht darin, beispielsweise bis zu 330 μm dicke Aluminiumdrähte mittels Ultraschall als Verbindung zwischen den Chipkontaktstellen und anderen Verbindungselementen auf einer DCB-Keramik vorzugsweise in mehrfach paralleler Weise zu Bonden. DCB-Keramik steht für Direct Copper Bonding Keramik und bezeichnet einen Prozess bei dem Kupfer und Keramisches Material bei hohen Temperaturen verschmolzen werden. DCB-Keramiken bieten den Vorteil hoher mechanischer Stabilität bei gleichzeitiger exzellenter thermischer und elektrischer Leitfähigkeit und guter Wärmeleitung. Die wünschenswerte optimale Langzeitstabilität kann mit dieser Technik jedoch nicht erreicht werden, da beispielsweise an den Bondstellen Risse auftreten können. Die
DE 3119239 A1 beschreibt demgegenüber einen Mehrschichtaufbau von Large-Scale-Integration (LSI) Halbleiterbauelementen. Hier ist bedingt durch sehr geringe Spannungen und Spannungsunterschiede zwischen den einzelnen internen Verschaltungen kein Erfordernis zur gegenseitigen Isolattion der einzelnen Kontaktleitungen bzw. elektrischen Verbindungen untereinander gegeben. - Der vorliegenden Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, eine effiziente und kostengünstige Verschaltung mehrerer Bauelemente bereitzustellen.
- Diese Aufgabe wird durch eine elektrische Schaltung mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
- Ein Ausführungsbeispiel eines Chipmoduls weist ein Substrat, und elektronische Bauelemente auf, wobei die elektronischen Bauelemente auf einer ersten Seite des Substrats angeordnet sind. Weiterhin weist das Chipmodul eine isolierende Schicht auf, die auf die erste Seite des Substrats und auf die elektronischen Bauelemente aufgebracht ist, wobei in der isolierenden Schicht Kontaktöffnungen angeordnet sind, die eine elektrische Kontaktierung der elektronischen Bauelemente ermöglichen und wobei auf der isolierenden Schicht und in den Kontaktöffnungen eine elektrisch leitende Schicht angeordnet ist, die die elektronischen Bauelemente miteinander elektrisch verbindet. Dadurch wird die Ausfallwahrscheinlichkeit des Chipmodules drastisch reduziert und die Zuverlässigkeit des Chipmodules deutlich erhöht. Auch die Kosten in der Fertigung sind durch das geschilderte Chipmodul deutlich niedriger.
- In einer vorteilhaften Ausführungsform des Chipmoduls ist die elektrisch leitende Schicht mittels eines Galvanikprozesses auf der isolierenden Schicht abgeschieden. Dieser Prozess bietet den Vorteil, dass er Stand der Technik in der Fertigung darstellt und daher schnell und kostengünstig ist.
- In einer weiteren Ausführungsform des Chipmoduls sind die elektronischen Bauelemente mittels einer weiteren auf dem Substrat aufgebrachten elektrisch leitenden Schicht miteinander verbunden. Dadurch können die elektronischen Bauelemente direkt auf einer DCB-Keramik aufgebracht werden und dies gewährleistet eine kostengünstige Fertigung, da DCB-Keramik überall im Handel erhältlich ist.
- In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform des Chipmoduls ist die leitende Schicht und die weitere leitende Schicht mittels der Kontaktöffnungen miteinander elektrisch verbunden sind. Dies bietet den Vorteil gegenüber der Bondtchnologie, dass die elektronischen Bauteile von beiden Seiten beliebig kontaktierbar sind und erhöht zugleich die Zuverlässigkeit des Chipmoduls.
- In einem vorteilhaften Ausführungsbeispiel weist das Substrat des Chipmoduls eine DCB-Keramik auf. DCB-Keramiken sind im Fachhandel leicht und kostengünstig erhältlich und können in der Fertigung leicht und kostengünstig verarbeitet werden. DCB-Keramiken bieten gegenüber den herkömmlichen Substraten den Vorteil, dass sie sehr stabil sind und sie besitzen hervorragende isolierende und wärmeleitende Eigenschaften.
- In einer Ausführungsform des Chipmoduls weist die isolierende Schicht Epoxidharz auf. Epoxidharz wird in der Fertigung der Halbleiterindustrie als guter und kostengünstiger Isolator verarbeitet.
- In einer Ausführungsform weist die isolierende Schicht des Chipmoduls Glasfasern und/oder Füllpartikel auf. Dadurch kann die die Isolierende Schicht verstärkt werden und führt zu einer insgesamt besseren Stabilität des gesamten Moduls.
- In einer vorteilhaften Ausführungsform ist die isolierende Schicht mittels Laminierung mit dem Substrat verbunden. Laminierung wird unter anderem in der Gehäusefertigung als kostengünstige und schnelle Verbindungstechnologie eingesetzt.
- In einer vorteilhaften Ausführungsform sind auf der leitenden Schicht des Chipmoduls elektrische Kontakte zur Kontaktierung des Chipmoduls angeordnet. Dies bietet den Vorteil, dass das Chipmodul sehr einfach von außen zu elektrisch kontaktierbar ist.
- In einer vorteilhaften Ausführungsform sind die elektrischen Kontakte mittels Lot mit der leitenden Schicht verbunden. Lotverbindungen gewährleisten eine sehr gute elektrische Verbindung und sind einfach und schnell herzustellen.
- In einer vorteilhaften Ausführungsform ist das Chipmodul zumindest teilweise mit Pressmasse umhüllt ist. Die Pressmasse gewährleistet die hohe Gesamtstabilität des Chipmodules und verhindert ein Auseinanderbrechen der elektronischen Bauelemente im Alterungsprozess.
- In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform sind die elektronischen Bauelemente mittels Lot mit der DCB-Keramik verbunden. Lotverbindungen gewährleisten eine sehr gute elektrische Verbindung und sind einfach und kostengünstig zu realisieren.
- Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend, Bezug nehmend auf die beiliegenden Figuren, näher erläutert. Die Erfindung ist jedoch nicht auf die konkret beschriebenen Ausführungsformen beschränkt, sondern kann in geeigneter Weise modifiziert und abgewandelt werden. Es liegt im Rahmen der Erfindung, einzelne Merkmale und Merkmalskombinationen einer Ausführungsform mit Merkmalen und Merkmalskombinationen einer anderen Ausführungsform geeignet zu kombinieren, um zu weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsformen zu gelangen.
- Bevor im Folgenden die Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung an Hand der Figuren näher erläutert werden, wird darauf hingewiesen, dass gleiche Elemente in den Figuren mit den gleichen oder ähnlichen Bezugszeichen versehen sind und dass eine wiederholte Beschreibung dieser Elemente weggelassen wird. Ferner sind die Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht. Der Schwerpunkt liegt vielmehr auf der Erläuterung des Grundprinzips.
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1 zeigt eine Ausführungsform eines Chipmoduls im Querschnitt. -
2 zeigt ein Multichip Modul100 in Wirebond-Technologie20 . -
3 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Chipmoduls in der Draufsicht. -
4 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Chipmoduls im Querschnitt. -
1 zeigt ein Multichip Modul99 . In dieser Ausführungsform sind die Chips10 auf einer Seite eines Substrats50 angeordnet. Das Substrat weist vorzugsweise Keramik auf. Die elektronischen Bauelemente10 , beispielsweise integrierte Schaltungen, Chips oder Transistoren, sind auf dem Substrat50 ,60 angeordnet. Die elektronischen Bauelemente können hier beispielsweise auch sogenannte Bare Dies sein, die kein Gehäuse aufweisen und dann weiterverarbeitet werden. Die elektronischen Bauelemente10 werden hierbei vorzugsweise mittels Lot oder auch mittels Nanopaste mit dem Substrat, vorzugsweise DCB-Keramik, verbunden. Auf die DCB-Keramik50 und die elektronischen Bauelement wird eine dünne isolierend Schicht40 aufgebracht. Die isolierende Schicht40 umfasst vorzugsweise Epoxidharz und kann mit Glasfasern und/oder Füllpartikeln verstärkt sein. Mit einem Laser oder Ätztechnik werden Kontaktlöcher25 , auch als Vias bezeichnet, in diese isolierende Schicht40 gebohrt. Vorzugsweise in einem Galvanikprozess wird eine leitfähige Schicht25 auf der isolierenden Schicht40 abgeschieden. Die leitende Schicht25 kann vorzugsweise Kupfer aufweisen. Durch die Galvanisierung werden auch die Vias mit Kupfer gefüllt. Mittels der leitenden Schicht und den Vias sind die beiden Chips elektrisch miteinander verbunden. -
2 zeigt ein Multichip Modul100 . In diesem Ausführungsbeispiel sind vier Chips10 auf einem leitenden Substrat50 angeordnet. Die Chips10 sind mittels Bonddrähten20 miteinander verbunden. Ferner sind zur elektrischen Kontaktierung der Chips von außen 10 Kontakte30 angeordnet. -
3 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines Multichip Moduls200 . Die Chips10 selbst sind in dieser Ansicht nicht erkennbar, da sie von einer leitenden Schicht22 bedeckt sind. Die Chips sind auf einem Substrat50 und einer leitenden Schicht angeordnet. Am Rand des Chipmoduls ist eine isolierende Schicht40 erkennbar. Das Multichip Modul ist mittels Kontakten30 elektrisch kontaktierbar. -
4 zeigt ein zum Multichip Modul wie in1 gezeigt weitergebildetes Ausführungsbeispiel eines Multichip Modules300 . In dieser Ausführungsform sind die Chips10 auf einer Seite eines Substrats50 angeordnet und bilden in dieser Ausführungsform eine sogenannte Halbbrückenschaltung. Halbbrückenschaltungen finden insbesondere in der Ansteuerung von induktiven Lasten, wie beispielsweise Elektromotoren Verwendung. Das Substrat weist vorzugsweise Keramik auf – auf der in dieser Ausführungsform zwei leitende Schichten angeordnet sind. Vorzugsweise weisen die leitenden Schichten60 Kupfer auf. Die elektronischen Bauelemente10 , beispielsweise integrierte Schaltungen, Chips oder Transistoren, sind auf dem Substrat50 ,60 angeordnet. Auch hier werden vorzugsweise Bare Dies, die kein Gehäuse besitzen, zu einem Multichipmodul verbunden. Die elektronischen Bauelemente10 werden hierbei vorzugsweise mittels Lot oder auch mittels Nanopaste mit dem Substrat, vozugsweise DCB-Keramik, verbunden. Auf die DCB-Keramik50 ,60 und die elektronischen Bauelement wird eine dünne isolierend Schicht40 aufgebracht. Die isolierende Schicht40 umfasst vorzugsweise Epoxidharz und kann mit Glasfasern und/oder Füllpartikeln verstärkt sein. Mit einem Laser oder Ätztechnik werden Kontaktlöcher25 , auch als Vias bezeichnet, in diese isolierende Schicht40 gebohrt. Vorzugsweise in einem Galvanikprozess wird eine leitfähige Schicht25 auf der isolierenden Schicht40 abgeschieden. Die leitende Schicht25 kann vorzugsweise Kupfer aufweisen. Durch die Galvanisierung werden auch die Vias mit Kupfer gefüllt. Anschliessend kann mittels Ätzung oder Lasern die leitende Schicht25 gemäß der vorgesehenen Schaltung strukturiert werden. Mittels der leitenden Schicht und der Vias können die elektronischen Bauelemente kontaktiert und miteinander elektrisch verbunden werden. Auf die leitende Schicht werden nun elektrische Kontakte30 zur Kontaktierung des Chipmodules von außen angeordnet. Die elektrischen Kontakte können ebenfalls gelötet werden. In einem weiteren Schritt wird das Chipmodul mit Pressmasse70 umhüllt (gemoldet). - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
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- DE 3119239 A1 [0003]
Claims (11)
- Chipmodul aufweisend: Ein Substrat, elektronische Bauelemente, wobei die elektronischen Bauelemente auf einer ersten Seite des Substrats angeordnet sind, eine isolierende Schicht die auf die erste Seite des Substrats und auf die elektronischen Bauelemente aufgebracht ist, wobei in der isolierenden Schicht Kontaktöffnungen angeordnet sind, die eine elektrische Kontaktierung der elektronischen Bauelemente ermöglichen und wobei auf der isolierenden Schicht und in den Kontaktöffnungen eine elektrisch leitende Schicht angeordnet ist, die die elektronischen Bauelemente miteinander elektrisch verbindet.
- Chipmodul nach Anspruch 1, wobei die elektrisch leitende Schicht mittels Galvanisierung auf der isolierenden Schicht abgeschieden ist.
- Chipmodul nach Anspruch 1 oder 2, wobei die elektronischen Bauelemente mittels einer weiteren auf dem Substrat aufgebrachten elektrisch leitenden Schicht miteinander verbunden sind.
- Chipmodul nach Anspruch 3, wobei die leitende Schicht und die weitere leitende Schicht mittels der Kontaktöffnungen miteinander elektrisch verbunden sind.
- Chipmodul nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Substrat eine DCB-Keramik aufweist.
- Chipmodul nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die isolierende Schicht Epoxidharz aufweist.
- Chipmodul nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die isolierende Schicht Glasfasern und/oder Füllpartikel aufweist.
- Chipmodul nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die isolierende Schicht mittels Laminierung mit dem Substrat verbunden ist.
- Chipmodul nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei auf der leitenden Schicht elektrische Kontakte zur Kontaktierung des Chipmoduls angeordnet sind.
- Chipmodul nach Anspruch 9, wobei die elektrischen Kontakte mittels Lot mit der leitenden Schicht verbunden sind.
- Chipmodul nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Chipmodul zumindest teilweise mit Pressmasse umhüllt ist.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014212376B4 (de) | 2013-07-03 | 2019-03-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleitervorrichtung |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2913777A1 (en) * | 2014-12-15 | 2016-06-15 | University Of Windsor | Shielded rf transmission lines in low temperature co-fired ceramic constructs and method of making same |
DE102017122440A1 (de) * | 2017-09-27 | 2019-03-28 | Valeo Schalter Und Sensoren Gmbh | Verfahren zum Lokalisieren und Weiterbilden einer digitalen Karte durch ein Kraftfahrzeug; Lokalisierungseinrichtung |
US10181449B1 (en) * | 2017-09-28 | 2019-01-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor structure |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3119239A1 (de) | 1980-05-15 | 1982-06-16 | CTS Corp., 46514 Elkhart, Ind. | Verfahren zur herstellung eines mehrschicht-halbleiterplaettchen-traegers sowie nach diesem verfahren hergestelltes mehrschicht-keramikgehaeuse |
DE19617055C1 (de) * | 1996-04-29 | 1997-06-26 | Semikron Elektronik Gmbh | Halbleiterleistungsmodul hoher Packungsdichte in Mehrschichtbauweise |
US20050236696A1 (en) * | 2003-12-03 | 2005-10-27 | Wen-Kun Yang | Fan out type wafer level package structure and method of the same |
DE102008049069A1 (de) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Modul mit einem Trägersubstrat, zumindest einem strahlungsemittierenden Halbleiterbauelement und mindestens einem elektrischen Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
-
2010
- 2010-09-29 DE DE201010046963 patent/DE102010046963A1/de not_active Ceased
-
2011
- 2011-09-23 US US13/241,334 patent/US20120075812A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3119239A1 (de) | 1980-05-15 | 1982-06-16 | CTS Corp., 46514 Elkhart, Ind. | Verfahren zur herstellung eines mehrschicht-halbleiterplaettchen-traegers sowie nach diesem verfahren hergestelltes mehrschicht-keramikgehaeuse |
DE19617055C1 (de) * | 1996-04-29 | 1997-06-26 | Semikron Elektronik Gmbh | Halbleiterleistungsmodul hoher Packungsdichte in Mehrschichtbauweise |
US20050236696A1 (en) * | 2003-12-03 | 2005-10-27 | Wen-Kun Yang | Fan out type wafer level package structure and method of the same |
DE102008049069A1 (de) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Modul mit einem Trägersubstrat, zumindest einem strahlungsemittierenden Halbleiterbauelement und mindestens einem elektrischen Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014212376B4 (de) | 2013-07-03 | 2019-03-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleitervorrichtung |
Also Published As
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