DE102010029653B4 - Substratbehandlungsanlage - Google Patents

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Abstract

Horizontale Beschichtungsanlage zur Beschichtung von plattenförmigen Substraten, umfassend eine Anlagenkammer mit einer Eingangsschleuse und einer Ausgangsschleuse, sowie innerhalb der Anlagenkammer mindestens einer Substratbehandlungseinrichtung und einer Transporteinrichtung zum Transport plattenförmiger Substrate von der Eingangsschleuse zur Ausgangsschleuse durch die Anlagenkammer hindurch, die eine Mehrzahl von horizontal angeordneten Transportwalzen (1) umfasst, deren oberste Mantellinien eine Auflageebene für zu transportierende Substrate bilden, wobei die Transportwalzen (1) jeweils an ihren beiden Enden in einem Drehlager (4) drehbar gelagert sind, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine Transportwalze (1) im Betrieb der Transporteinrichtung axial verschiebbar ist.

Description

  • Die Erfindung betrifft horizontale Beschichtungsanlagen zur Beschichtung von plattenförmigen Substraten.
  • Bei bekannten Substrattransporteinrichtungen in Beschichtungsanlagen für plattenförmige Substrate, z. B. Glasplatten, in denen für die Erzielung gewünschter Schichteigenschaften hohe Substrattemperaturen erforderlich sind, werden vorzugsweise Keramikwalzen verwendet, die eine Transportebene bilden, auf der die Substrate liegend durch die Beschichtungsanlage transportiert werden.
  • Für Floatglas-Platten, die im Temperaturbereich der Glaserweichung (Floatglas Tg um 540°C) bzw. darüber beschichtet werden sollen, besteht die Notwendigkeit, jedem Ort der Platte innerhalb kurzer Zeitspannen eine mechanische Unterstützung zu bieten. Andernfalls kann es zu unerwünschten bleibenden Verformungen kommen, die eine Weiterverarbeitung der Platten unmöglich machen. Die Zeitspannen, innerhalb derer eine mechanische Unterstützung erfolgen muss, liegen je nach Temperatur und Glaseigenschaften im Bereich einiger Sekunden. Das wird praktisch dadurch bewerkstelligt, dass in Abhängigkeit von der Prozess-Transportgeschwindigkeit, Temperatur und Glaseigenschaften ein Transportwalzenabstand gewählt wird, der die o. g. mechanische Unterstützung sicherstellt.
  • Aus DE 10 2006 011 517 B4 ist eine Transporteinrichtung, insbesondere zum Transport flächiger Substrate durch eine Beschichtungsanlage bekannt, umfassend beidseitig drehbar gelagerte, quer zur Transportrichtung horizontal angeordnete Transportwalzen, wobei die obersten Mantellinien der Transportwalzen die Transportebene definieren, die Endteile der Transportwalzen einen geringeren Durchmesser aufweisen als der Mittelteil der Transportwalzen und zwischen den Endteilen der Transportwalzen und der Transportebene Blenden angeordnet sind, die in der axialen Richtung der Transportwalzen zwischen einer ersten und einer zweiten Position verschiebbar gelagert sind.
  • EP 1 375 443 A1 befasst sich mit dem Biegen von Glasplatten im Anschluss an das Erhitzen in einem Durchlaufofen, wobei Lageabweichungen der Glasplatten von einer Sollposition durch gezielte Verschiebung einzelner Transportwalzen ausgeglichen werden, um die Umformung korrekt durchführen zu können.
  • DE 511 669 A befasst sich mit der Abkühlung von Glasplatten im direkten Anschluss an ihre Herstellung, wobei die Glasplatten zum Überführen in einen Rollenkühlofen angehoben und von einem ersten Förderer seitlich auf einen zweiten Förderer übergeben werden.
  • Eine bekannte Transporteinrichtung innerhalb des Beschichtungsbereichs einer Substratbehandlungsanlage ist in 1 dargestellt. Auf horizontal angeordneten Transportwalzen werden Substrate liegend unter einer Dampfquelle hindurchtransportiert. Im dargestellten Beispiel weisen die Transportwalzen einen mittleren Bereich größeren Durchmessers und einen Endbereich geringeren Durchmessers auf.
  • Mit laufendem Betrieb der Beschichtungseinrichtung kommt es zunehmend zur unerwünschten Beschichtung der Transportwalzenenden, auch im Bereich der Substratauflage auf den Transportwalzen. Damit liegen die Platten nicht mehr vollflächig auf. Schließlich führt die Beschichtung dazu, dass die Platten nicht mehr zuverlässig transportiert werden, so dass eine Reinigung erforderlich wird. Schutzblenden zwischen der Dampfquelle und den Transportwalzen bieten hier keinen Vorteil, da diese, um eine unerwünschte Beschichtung zu reduzieren, sehr eng am Substrat angeordnet werden müssen. Damit können auf den Blenden aufgewachsene Schichten das Substrat berühren. Weiter entfernt angebrachte Abschirmungen, die die unerwünschte Beschichtung zwar reduzieren könnten, führen jedoch auch im Kantenbereich der Substrate zu einem unerwünschten Abfall der Schichtdicke.
  • Die Ursache für die Beschichtung der Transportwalzenenden, die praktisch zur Verdickung der Transportwalzenenden führt (auch als „dog bone” bezeichnet) liegt darin, dass je nach geometrischen Verhältnissen (Überstand und Abstand der Dampfquelle zum Substrat) Transportwalzenbereiche dem Dampfstrom ausgesetzt sind, die der Beschichtungsquelle zugewandt sind. In der Darstellung der 1 betrifft dies wegen der oberhalb der Transporteinrichtung angeordneten Beschichtungsquelle bezogen auf den Transportwalzenquerschnitt hauptsächlich die oberen, der Beschichtungsquelle zugewandten Bereiche der Transportwalzenoberfläche. Darüber hinaus hängt es vom Beschichtungsprozess selbst ab, welche Bereiche der Transportwalzenenden beschichtet werden.
  • So führen Beschichtungsprozesse, die mit Dampfquellen bei sehr niedrigen Restgasdrücken durchgeführt werden, zu einer unerwünschten Beschichtung der Transportwalzenenden in der genannten Art und Weise weitgehend auf die Projektionsfläche der Beschichtungsquelle.
  • Wenn jedoch Prozessgase eingelassen werden, kann die unerwünschte Beschichtung aufgrund von Stößen der zu kondensierenden Teilchen mit den Prozessgasteilchen ein erheblich größeres Ausmaß annehmen. Die Bewegungsrichtung der zu kondensierenden Teilchen verändert sich erheblich. Damit werden weitere Transportwalzenbereiche beschichtet. Auch die Substratbeschichtung auf der Rückseite im Kantenbereich des Substrats (beim Sputtern auch bekannt unter dem Begriff wrap around sputtering) ist die Folge von Teilchenstößen mit den Prozessgasteilchen auf ihrem Weg von der Quellen zum Substrat.
  • In 2 ist eine der Darstellung in 1 ähnliche Transporteinrichtung innerhalb des Beschichtungsbereichs einer Substratbehandlungsanlage dargestellt, bei der jedoch die Transportwalzenauflage gegenüber der Substratkante zurückgesetzt ist, d. h. das Substrat überragt die mittleren Bereiche der Transportwalze, auf denen das Substrat aufliegt und die einen gegenüber den Endbereichen größeren Durchmesser aufweisen. Diese Anordnung ist vorteilhafter als die in 1 dargestellte, da das Substrat die der Substratauflage dienenden mittleren Bereiche der Transportwalzen gegenüber dem Dampfstrom abschattet. Wenn die Substratauflage gegenüber der Substratkante weit genug eingezogen ist, wird die für den Transport wichtige Substratauflage nicht beschichtet.
  • Die weitestgehend gleichmäßige Beschichtung der Transportwalzen aufgrund der periodischen Substratlücken führt zur Zunahme des für den Transport maßgeblichen wirksamen Durchmessers der Transportwalzen, was in diesem Zusammenhang als weit weniger kritisch gesehen werden kann. Eine Minimierung der Zunahme des effektiven Transportwalzendurchmessers kann dadurch erreicht werden, dass möglichst kleine Substratlücken eingehalten werden. Des Weiteren kann dem Effekt durch die Wahl entsprechend großer Transportwalzendurchmesser begegnet werden. Außerdem können die betreffenden Walzen mit variabler Geschwindigkeit angetrieben werden. Damit ist es prinzipiell möglich, die Umfangsgeschwindigkeit der Walzen durch Reduzierung der Drehzahl bei wachsender Schichtdicke konstant zu halten.
  • Zur Erreichung möglichst langer wartungsfreier Produktionszyklen ergibt sich die Notwendigkeit, die Schichtdicke auf den Transportwalzen, insbesondere im Bereich der Transportwalzenenden im Bereich der Substratkante zu minimieren. Geringfügig größere effektive Transportwalzendurchmesser im Bereich der Substratkanten können durchaus toleriert werden, sofern diese nicht zu Transportproblemen führen.
  • Diese Aufgabe wird gelöst durch eine horizontale Beschichtungsanlage zur Beschichtung von plattenförmigen Substraten mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1. Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben.
  • Die vorgeschlagene Horizontale Beschichtungsanlage zur Beschichtung von plattenförmigen Substraten, umfassend eine Anlagenkammer mit einer Eingangsschleuse und einer Ausgangsschleuse, sowie innerhalb der Anlagenkammer mindestens einer Substratbehandlungseinrichtung und einer Transporteinrichtung zum Transport plattenförmiger Substrate von der Eingangsschleuse zur Ausgangsschleuse durch die Anlagenkammer hindurch, die eine Mehrzahl von horizontal angeordneten Transportwalzen umfasst, deren oberste Mantellinien eine Auflageebene für zu transportierende Substrate bilden, wobei die Transportwalzen jeweils an ihren beiden Enden in einem Drehlager drehbar gelagert sind, und ist dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine Transportwalze im Betrieb der Transporteinrichtung axial, d. h. parallel zu ihrer Rotationsachse, verschiebbar ist.
  • Hierzu kann beispielsweise vorgesehen sein, dass die Transportwalze mit ihren Drehlagern verschiebbar angeordnet ist. Dabei kann beispielsweise jede zweite Transportwalze in der einen Richtung und die jeweils dazwischen liegenden Transportwalzen in der entgegengesetzten Richtung verschiebbar sein. Sind mehrere Transportwalzen verschiebbar, so kann dies beispielsweise dadurch realisiert sein, dass die Drehlager aller Transportwalzen in zwei gegenüberliegend angeordneten Lagerbänken zusammengefasst sind und diese Lagerbänke synchron verschiebbar angeordnet sind, woraus eine axiale Verschiebung aller Transportwalzen erfolgt.
  • In einer anderen Ausgestaltung ist hingegen vorgesehen, dass mindestens ein Ende der Transportwalze im Drehlager drehbar und axial verschiebbar gelagert ist. Dadurch muss das Drehlager selbst nicht verschoben werden, sondern die Transportwalze gleitet im Drehlager entlang ihrer Rotationsachse.
  • Hierzu kann weiter vorgesehen sein, dass das Ende der Transportwalze mit einem Verstellelement so verbunden ist, dass eine Betätigung des Verstellelements eine axiale Verschiebung der Transportwalze bewirkt. Ein solches Verstellelement kann beispielsweise einen Zahnstangenantrieb, ein Hebelgetriebe oder ähnliche fachgeläufige Mittel umfassen.
  • In einer Ausgestaltung wird vorgeschlagen, dass das Verstellelement schwenkbar gelagert ist und das Schwenken des Verstellelements eine axiale Verschiebung der Transportwalze bewirkt. Dabei kann das Verstellelement einen mit einer oder mehreren Transportwalzen verbundenen, schwenkbar gelagerten Hebel umfassen, der beispielsweise als parallel zur Transportrichtung der Substrate ausgerichtete und um eine parallel zur Transportrichtung verlaufende Kante schwenkbar gelagerte Platte ausgeführt ist. Diese Platte kann an ihrer der Schwenkachse gegenüberliegenden Kante mit den Enden mehrerer Transportwalzen verbunden sein. Ein Schwenken der Platte um die Schwenkachse bewirkt dann, dass die damit verbundenen Transportwalzen entlang ihrer Rotationsachsen, d. h. quer zur Transportrichtung der Substrate, verschoben werden. Zur Betätigung des Verstellelements kann beispielsweise ein elektromotorischer Antrieb, ein Hydraulik- oder Pneumatikzylinder, ein handbetätigter Spindelantrieb oder andere fachgeläufige Mittel vorgesehen sein.
  • Weiter kann vorgesehen sein, dass zwei Verstellelemente so mit mindestens je einem Ende einer Transportwalze verbunden sind, dass gleichzeitiges Betätigen der Verstellelemente axiale Verschiebungen der jeweiligen Transportwalzen in entgegengesetzter Richtung bewirkt. Die Verstellelemente können dabei synchron verstellbar sein, beispielsweise indem sie mit demselben Spindelantrieb verbunden sind, der einen Abschnitt mit Linksgewinde und einen Abschnitt mit Rechtsgewinde aufweist, so dass ein Betätigen des Spindelantriebs entgegengesetzte Schwenkbewegungen der beiden Verstellelemente bewirkt, die entgegengesetzte Verschiebungen der jeweils mit den Verstellelementen verbundenen Transportwalzen verursachen. Die beiden Verstellelemente können dabei um ein und dieselbe Schwenkachse schwenkbar gelagert sein.
  • In einer Weiterbildung der vorgeschlagenen Transporteinrichtung ist vorgesehen, dass zwischen je zwei benachbarten Transportwalzen eine Blende mit einer unterhalb der Kontaktebene angeordneten Gegensputterfläche angeordnet ist, die mit mindestens einer der zwei benachbarten Transportwalzen axial verschiebbar ist. Dadurch wird das Eindringen von Streudampf in den Raum zwischen den Transportwalzen verhindert oder zumindest stark verringert. Hierdurch wird auch die unerwünschte Rückseitenbeschichtung der Substrate verhindert oder zumindest stark verringert.
  • Gemäß einer Ausgestaltung ist die Blende als Füllkörper ausgestaltet, der sich von der Gegensputterfläche aus in den Raum zwischen den Transportwalzen erstreckt. Dadurch wird das zu evakuierende Volumen der Kammer einer Substratbehandlungsanlage verringert, so dass das Evakuieren schneller und mit geringerem Energieeinsatz vonstatten geht.
  • Weiter kann vorgesehen sein, dass die Transportwalzen einen mittleren Bereich größeren Durchmessers und Endbereiche kleineren Durchmessers aufweisen und die Endbereiche zumindest teilweise von den Blenden abgedeckt sind. Hierdurch wird erreicht, dass die Transportwalzen selber keinerlei unerwünschte Beschichtung erfahren. Die Substrate liegen auf den mittleren Bereichen auf, die durch die von den Blenden gebildete Gegensputterebene ragen, so dass die Substrate darauf liegend transportiert werden können. Im Bereich seitlich neben den Substraten sind hingegen die Endbereiche der Transportwalzen durch ihren gegenüber den mittleren Bereichen geringeren Durchmesser vollständig von den Blenden überdeckt, so dass Streudampf nicht zu ihnen vordringen kann.
  • Gemäß einer weiteren Ausgestaltung ist vorgesehen, dass an den Drehlagern Antriebsrollen in axialer Richtung ortsfest, aber drehbar angeordnet sind, durch welche die Enden der Transportwalzen so hindurchgeführt sind, dass ein auf die Antriebsrolle wirkendes Drehmoment auf die Transportwalze übertragen wird, eine auf die Transportwalze wirkende Axialkraft jedoch nicht auf die Antriebsrolle übertragen wird. Hierdurch wird erreicht, dass einerseits die Antriebsrollen, die üblicherweise durch ein gemeinsames Zugmittel, beispielsweise einen Antriebsriemen oder eine Antriebskette und ein damit in Wirkverbindung stehendes Antriebsmittel, beispielsweise einen Elektromotor, angetrieben werden, trotz der Verschiebung der Transportwalzen innerhalb der Kammer einer Substratbehandlungseinrichtung ortsfest angeordnet sind und bleiben, d. h. die gesamte Antriebseinrichtung aus Antriebsrollen, Zugmittel und Antriebseinrichtung ist an einer festen Position innerhalb der Kammer angeordnet und bleibt von der Verschiebung der Transportwalzen unbeeinflusst.
  • Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen und zugehörigen Zeichnungen näher erläutert. Dabei zeigen
  • 3 bis 5 ein erstes Ausführungsbeispiel, und
  • 6 bis 8 ein zweites Ausführungsbeispiel der vorgeschlagenen Transporteinrichtung.
  • In beiden Ausführungsbeispielen sind die Transportwalzen axial, d. h. parallel zu ihren Rotationsachsen verschiebbar ausgeführt.
  • Ein erstes Ausführungsbeispiel hierfür ist in den 3 bis 5 in verschiedenen Ansichten dargestellt.
  • Die dargestellte Transporteinrichtung umfasst eine Mehrzahl von horizontal angeordneten Transportwalzen, deren oberste Mantellinien eine Auflageebene für zu transportierende Substrate bilden, wobei die Transportwalzen jeweils an ihren beiden Enden in einem Drehlager drehbar gelagert sind. Die Transportwalzen sind im Betrieb der Transporteinrichtung axial, d. h. parallel zu ihrer Rotationsachse, verschiebbar.
  • Dies ist wie nachfolgend beschrieben realisiert.
  • Die Transportwalzen sind jeweils beidseitig in Drehlagern drehbar und axial verschiebbar gelagert ist. Die Drehlager aller Transportwalzen sind in zwei Lagerbänken angeordnet, die einander gegenüberliegend innerhalb der (nicht dargestellten) Anlagenkammer ortsfest angeordnet sind. Die Lagerbänke verlaufen parallel zur Transportrichtung der Substrate, d. h. quer zu den Rotationsachsen der Transportwalzen.
  • Die Transportwalzen weisen jeweils einen Walzenkörper aus einem Keramikwerkstoff auf, der einen mittleren Bereich größeren Durchmessers und Endbereiche kleineren Durchmessers aufweist. Die Enden der Transportwalzen sind durch Metallwellen gebildet, welche über Endkappen mit dem keramischen Walzenkörper verbunden sind. An ihren freien Enden weisen die Metallwellen ein Koppelelement auf. Die Metallwellen sind zwischen Endkappe und Koppelelement in einem Drehlager drehbar und axial verschiebbar gelagert.
  • Auf der dem Betrachter zugewandten Seite ist am Drehlager eine Antriebsrolle angebracht, in dem die Metallwelle ebenfalls axial verschiebbar ist. Die Antriebsrollen sind untereinander durch ein Zugmittel verbunden, wodurch eine Antriebskraft des Zugmittels in ein Antriebsmoment umgewandelt wird, welches die Antriebsrollen auf die jeweilige Metallwelle übertragen, so dass die Transportwalzen in Rotation versetzt werden.
  • Die Enden der Transportwalzen sind auf der dem Betrachter zugewandten Seite über das Koppelelement mit einem Verstellelement so verbunden, dass eine Betätigung des Verstellelements eine axiale Verschiebung der Transportwalze bewirkt.
  • Zwei Verstellelemente in Form von um je eine Schwenkachse schwenkbar gelagerten Platten, die parallel zu den Lagerbänken angeordnet sind, sind abwechselnd mit dem Ende jeder zweiten Transportwalze so verbunden, dass gleichzeitiges Betätigen der Verstellelemente axiale Verschiebungen der jeweiligen Transportwalzen in entgegengesetzter Richtung bewirkt. Hierzu ist ein handbetätigter Spindelantrieb vorgesehen mit einer Spindel und einem außerhalb der Substratbehandlungsanlage angeordneten Handrad. Hierzu ist die Spindel mittels einer Drehdurchführung durch die (nicht dargestellte) Wand der Anlagenkammer geführt. Die Spindel ist mit beiden Verstellelementen verbunden und eine Betätigung des Handrads in der einen Drehrichtung bewirkt ein Auseinanderschwenken der Verstellelemente, während eine Betätigung des Handrads in der anderen Drehrichtung ein Aufeinanderzuschwenken der Verstellelemente bewirkt.
  • Ein Transportwalzenantrieb mit Antriebsrollen und einem Zugmittel sorgt für die Rotation der Transportwalzen zum Transport der Substrate mit gleichbleibender Geschwindigkeit. Ein zweiter Antrieb sorgt für die Verschiebung der Transportwalzen quer zur Platten-Transportrichtung. Die Transportwalzen n, n + 2, n + 4, usw. sind nach einer Seite quer zur Transportrichtung verschiebbar, die Transportwalzen n + 1, n + 3, n + 5, usw. sind zu der entgegengesetzten Richtung quer zur Transportrichtung verschiebbar. Kontinuierlich oder auch diskontinuierlich werden die Transportwalzen quer zur Transportrichtung verschoben.
  • Dies bedeutet, dass die betreffenden Transportwalzen immer aus dem Substratkantenbereich herausgezogen werden. Damit kann die Schichtdicke auf der Transportwalze im Auflagebereich der Substratkante tolerierbar klein gehalten werden.
  • Das Transportwalzenende (genauer: die Übergangsstelle zwischen Transportwalze und Transportwalzenschaft) auf der jeweils anderen Seite wird unter dem Substrat hinweggezogen.
  • Ob sich die Übergangsstelle zwischen Transportwalze und Transportwalzenschaft zu Beginn des Produktionszyklus im Bereich der Substratkante befindet oder sich bereits unter dem Substrat befinden sollte, hängt von der konkreten Situation ab. Wenn die unerwünschte Beschichtung erheblich ist, sollte sich die Übergangsstelle zwischen Transportwalze und Transportwalzenschaft schon unter dem Substrat befinden.
  • Prinzipiell ist es auch möglich, alle Transportwalzen zu einer Seite herauszuziehen, sofern der Transport dadurch nicht beeinträchtigt wird. Wenn allerdings die Glastemperatur im Bereich der Erweichung liegt, ist es notwendig, die Transportwalzen abwechselnd zu beiden Seiten herauszuziehen, um die notwendige mechanische Unterstützung der Substrate zu gewährleisten.
  • Ein zweites Ausführungsbeispiel der Transporteinrichtung ist in den 6 bis 8 in verschiedenen Ansichten dargestellt.
  • Ein weiteres Problem der beschriebenen Beschichtungseinrichtung kann, wie oben bereits beschrieben, darin bestehen, dass die Substrate im Bereich der Kanten auf der Rückseite beschichtet werden (wrap around sputtering). Das betrifft insbesondere Beschichtungsverfahren, bei denen es aufgrund eines erhöhten Restgasdruckes oder Prozessgasdruckes zu Teilchenstößen des auf dem Substrat abzuscheidenden Materials mit den Gasteilchen kommt. Das betrifft sowohl die Kanten parallel zur Transportrichtung als auch die Kanten quer zur Transportrichtung, quer zur Transportrichtung nur dann nicht oder sehr gering, wenn die Lücken zwischen den einzelnen Substraten quasi geschlossen sind bzw. nur sehr klein sind, so dass ein Durchtritt von Dampfteilchen nicht möglich ist bzw. stark eingeschränkt wird. Bei horizontalen Beschichtungsanlagen kann der Rückseitenbeschichtung bisher nur mit Abdeckrahmen bzw. durch Auflegen des Substrats auf ebene Carrier begegnet werden.
  • Eine Möglichkeit, die unerwünschte Beschichtung der Substratrückseite im Bereich der Kanten erheblich auf ein tolerierbares Maß zu reduzieren, ist, hinter dem Substrat eine Fläche anzuordnen, die sich relativ zur Substratrückseite in einem sehr geringen Abstand befindet. Durch den geringen Abstand können gestreute Dampfteilchen nur vergleichsweise stark eingeschränkt in den Spalt eindringen und sich auf der Substratrückseite niederschlagen. Dazu müssen zwischen den Transportwalzen Füllkörper oder Blenden eingefügt werden, die im Verbund mit den Transportwalzen eine quasi geschlossene Ebene bilden. Die Füllkörper oder Blenden werden so angeordnet, dass ein enger Spalt zwischen der Substratrückseite und der von den Füllkörper oder Blenden gebildeten Ebene gebildet wird. Die einzelnen Ebenen zwischen den Transportwalzen können ebenso wie die Transportwalzen quer zur Transportrichtung gleiten.
  • Zwischen je zwei benachbarten Transportwalzen ist eine Blende mit einer unterhalb der Kontaktebene der Substrate mit den Transportwalzen angeordneten Gegensputterfläche angeordnet, die zusammen mit einer Transportwalze axial verschiebbar ist.
  • Die Blenden sind nicht als einfache Bleche, sondern als Füllkörper ausgestaltet, die sich von der Gegensputterfläche aus in den Raum zwischen den Transportwalzen erstrecken und so diesen Raum weitgehend ausfüllen, um das zu evakuierende Volumen zu verringern.
  • Die Transportwalzen weisen wie im Ausführungsbeispiel der 3 bis 5 einen mittleren Bereich größeren Durchmessers und Endbereiche kleineren Durchmessers aufweisen und die Endbereiche sind zumindest teilweise von den Blenden abgedeckt, so dass sie vor unerwünschter Beschichtung geschützt sind. Die Blenden weisen Betätigungselemente auf, die Metallstangen und Ankopplungselemente umfassen, welche mit je einem Verstellelement verbunden sind, so dass jeweils eine Transportwalze und ein Füllkörper eine Einheit bilden und zusammen bewegt werden, wenn das Verstellelement betätigt wird.. Diese Einheiten werden alternierend wie bereits oben beschrieben während des Produktionszyklus langsam kontinuierlich, ggf. diskontinuierlich, herausgezogen. Dabei werden die Füllkörper oder Blenden auch auf der jeweils anderen Seite der Einheit beschichtet.
  • Die Geschwindigkeit der Transportwalzenverschiebung ist in Abhängigkeit von der Beschichtungsrate so zu wählen, dass diejenige Seite der Füllkörper oder Blenden, die unter dem Substrat hinweg gezogen werden, das Substrat aufgrund der aufgewachsenen Schicht nicht berührt. Um die Beschichtung der Füllkörper oder Blenden und Transportwalzen außerhalb der Substratkante zu begrenzen, können darüber auch zusätzliche Schutzblenden (in den Bildern nicht eingezeichnet) installiert sein.
  • Axial verstellbare Transportwalzen 1 und Blenden/Füllkörper 2 und 3 werden in Axialgleitlagern 4 über die Schwenkhebel 6 und 7 sowie Axial-Betätigungselemente/Zug-Druck-Stangen 10 für die Transportwalzen 1 und Betätigungselemente 12 und 13 für die Füllkörper/Blenden 2 und 3 angetrieben und dadurch parallel zu ihren Rotationsachsen verschoben. Die Spindel 8 mit je einem Abschnitt mit Rechtsgewinde und Linksgewinde ermöglicht über das Handrad 9 (optional über einen Elektroantrieb, z. B. einen Schrittmotor, oder ein anderes geeignetes Stellglied) eine gleichmäßige Verstellung der Transportwalzen 1. Dabei werden in Transportrichtung abwechselnd die Transportwalzen 1 sowie die Blenden/Füllkörper 2 und 3 nach links bzw. rechts quer zur Transportrichtung axial nach außen bewegt. Den Bewegungszyklus bestimmt im Wesentlichen die anfallende prozessbedingte Verschmutzung der Transportwalzen 1 und der Blenden/Füllkörper 2 und 3, welche sich zeitgleich mit den Transportwalzen 1 bewegen. Der dabei entstehende Spalt zwischen den Blenden/Füllkörpern 2 und 3 wird mit Abdeckblechen 15 (Federbandstahl o. ä.) verschlossen.
  • Mit dem Bezugszeichen 14 ist in 5 und 8 die Vakuumdrehdurchführung der Spindel 8 durch eine nicht dargestellte Kammerwand einer Substratbehandlungsanlage bezeichnet.
  • Das Antriebselement 5 (Kette, Zahnriemen, Metallband o. ä.) wird nicht axial bewegt; es verbleibt an seiner ursprünglichen Position.
  • Bezugszeichenliste
  • 1
    Transportwalze
    1a
    Walzenkörper
    1b
    Endkappe
    1c
    Antriebsrolle
    2
    Füllkörper/Blende
    3
    Füllkörper/Blende
    4
    Drehlager/Axialgleitlager
    5
    Antriebselement/Treibriemen/Zugmittel
    6
    Schwenkhebel
    7
    Schwenkhebel
    8
    Spindel
    9
    Handrad
    10
    Metallwelle/Axial-Betätigungselement/Zug-Druck-Stange für Transportwalze
    11
    Ankopplungselement/Koppelelement
    12
    Betätigungselement für Füllkörper/Blende
    13
    Betätigungselement für Füllkörper/Blende
    14
    Drehdurchführung für Spindel
    15
    Abdeckelement

Claims (9)

  1. Horizontale Beschichtungsanlage zur Beschichtung von plattenförmigen Substraten, umfassend eine Anlagenkammer mit einer Eingangsschleuse und einer Ausgangsschleuse, sowie innerhalb der Anlagenkammer mindestens einer Substratbehandlungseinrichtung und einer Transporteinrichtung zum Transport plattenförmiger Substrate von der Eingangsschleuse zur Ausgangsschleuse durch die Anlagenkammer hindurch, die eine Mehrzahl von horizontal angeordneten Transportwalzen (1) umfasst, deren oberste Mantellinien eine Auflageebene für zu transportierende Substrate bilden, wobei die Transportwalzen (1) jeweils an ihren beiden Enden in einem Drehlager (4) drehbar gelagert sind, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine Transportwalze (1) im Betrieb der Transporteinrichtung axial verschiebbar ist.
  2. Horizontale Beschichtungsanlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Ende der Transportwalze (1) im Drehlager (4) drehbar und axial verschiebbar gelagert ist.
  3. Horizontale Beschichtungsanlage nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Ende der Transportwalze (1) mit einem Verstellelement (6, 7) so verbunden ist, dass eine Betätigung des Verstellelements (6, 7) eine axiale Verschiebung der Transportwalze (1) bewirkt.
  4. Horizontale Beschichtungsanlage nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Verstellelement (6, 7) schwenkbar gelagert ist und das Schwenken des Verstellelements (6, 7) eine axiale Verschiebung der Transportwalze (1) bewirkt.
  5. Horizontale Beschichtungsanlage nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass zwei Verstellelemente (6, 7) so mit mindestens je einem Ende einer Transportwalze (1) verbunden sind, dass gleichzeitiges Betätigen der Verstellelemente (6, 7) axiale Verschiebungen der jeweiligen Transportwalzen (1) in entgegengesetzter Richtung bewirkt.
  6. Horizontale Beschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen je zwei benachbarten Transportwalzen (1) eine Blende (2, 3) mit einer unterhalb der Kontaktebene angeordneten Gegensputterfläche angeordnet ist, die mit mindestens einer der zwei benachbarten Transportwalzen (1) axial verschiebbar ist.
  7. Horizontale Beschichtungsanlage nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Blende (2, 3) als Füllkörper ausgestaltet ist, der sich von der Gegensputterfläche aus in den Raum zwischen den Transportwalzen (1) erstreckt.
  8. Horizontale Beschichtungsanlage nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Transportwalzen (1) einen mittleren Bereich größeren Durchmessers und Endbereiche kleineren Durchmessers aufweisen und die Endbereiche zumindest teilweise von den Blenden (2, 3) abgedeckt sind.
  9. Horizontale Beschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass an den Drehlagern (4) Antriebsrollen (1c) in axialer Richtung ortsfest, aber drehbar angeordnet sind, durch welche die Enden der Transportwalzen (1) so hindurchgeführt sind, dass ein auf die Antriebsrolle (1c) wirkendes Drehmoment auf die Transportwalze (1) übertragen wird, eine auf die Transportwalze (1) wirkende Axialkraft jedoch nicht auf die Antriebsrolle (1c) übertragen wird.
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