DE102010029049B4

DE102010029049B4 - Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem für die Untersuchung eines Objekts mit EUV-Beleuchtungslicht sowie Metrologiesystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik

Info

Publication number: DE102010029049B4
Application number: DE201010029049
Authority: DE
Inventors: Hans-Jürgen Mann; Alois Herkommer
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2010-05-18
Filing date: 2010-05-18
Publication date: 2014-03-13
Anticipated expiration: 2030-05-19
Also published as: US20130063716A1; US9110225B2; WO2011144389A1; DE102010029049A1

Abstract

Beleuchtungsoptik (9) für ein Metrologiesystem (2) für die Untersuchung eines in einem Objektfeld (3) angeordneten Objekts (5) mit EUV-Beleuchtungslicht (1), – mit einem im Strahlengang direkt nach einer EUV-Lichtquelle (6) anordenbaren Kollektorspiegel (B1), – mit weniger als drei dem Kollektorspiegel (B1) im Strahlengang zwischen dem Kollektorspiegel (B1) und dem Objektfeld (3) nachgeordneten weiteren Beleuchtungsspiegeln (B2, B3), – wobei im Strahlengang zwischen dem Kollektorspiegel (B1) und dem ersten weiteren Beleuchtungsspiegel (B2) ein Zwischenfokus (11) angeordnet ist, – gekennzeichnet durch eine Settingblende (12) im Strahlengang zwischen dem Zwischenfokus (11) und dem ersten weiteren Beleuchtungsspiegel (B2) nach dem Kollektorspiegel (B1), wobei die Settingblende (12) zur Vorgabe eines maximalen Beleuchtungswinkels für die Objektfeldbeleuchtung dient.

Description

Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem für die Untersuchung eines in einem Objektfeld angeordneten Objekts mit EUV-Beleuchtungslicht. Ferner betrifft die Erfindung ein Metrologiesystem für die Untersuchung eines in einem Objektfeld angeordneten Objekts mit EUV-Beleuchtungslicht mit einer derartigen Beleuchtungsoptik.
Die WO 03/096356 A2 beschreibt ein reflektives Röntgenmikroskop und Inspektionssystem zur Untersuchung von Objekten mit Wellenlängen von höchstens 100 nm. Die WO 03/075068 A1 beschreibt ein Beleuchtungssystem mit genesstetem Kollektor zur annularen Ausleuchtung einer Austrittspupille. Eine Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem für die Untersuchung eines in einem Objektfeld angeordneten Objekts mit EUV-Beleuchtungslicht ist beschrieben in dem Fachbeitrag „Aerial Image Microscopes for the Review of Defects in EUVL Masks” von A. Barty et al., ISMT EUVL symposium, Dallas, TX, October 2002. Kollektoroptiken sind bekannt aus der US 2008/0266650 A1 und aus der DE 10 2005 003 557 A1 .
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Beleuchtungsoptik der eingangs genannten Art und ein hiermit ausgerüstetes Metrologiesystem derart weiterzubilden, dass eine effiziente Beleuchtung des Objektfeldes mit gut an die Beleuchtungssituation aktueller EUV-Projektionsbelichtungsanlagen angepassten Beleuchtungsparametern resultiert.
Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine Beleuchtungsoptik mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen.
Eine Beleuchtungsoptik mit weniger als drei dem Kollektorspiegel nachgeordneten weiteren Spiegeln führt zu geringen EUV-Reflexionsverlusten zwischen der EUV-Lichtquelle und dem Objektfeld. Der Zwischenfokus zwischen dem Kollektorspiegel und dem ersten weiteren Spiegel ermöglicht eine weitgehende mechanische Trennung zwischen dem Kollektorspiegel und den nachgeordneten optischen Elementen. Eine Kontamination dieser nachgeordneten Elemente durch unerwünscht mitgeführtes, von der EUV-Lichtquelle ausgesandtes Material, ist dadurch vermieden. Der Kollektorspiegel kann als NI-Spiegel ausgeführt sein. Ein NI-Spiegel ist ein Spiegel mit einem Hauptstrahl-Einfallswinkel gegenüber einer Normalen auf die Spiegelfläche, der kleiner ist als 30°. Dies führt zu einer baulich möglichst einfach ausgeführten Beleuchtungsoptik. Der Kollektorspiegel kann als asphärischer Spiegel, insbesondere als rein konische Asphäre ausgeführt sein. Dies führt zu einer an die Abstrahlcharakteristik aktuell verwendeter EUV-Lichtquellen gut angepassten sammelnden Wirkung des Kollektorspiegels. Die Settingblende kann an einem Ort des Beleuchtungslicht-Strahlengangs angeordnet sein, der von dem EUV-Beleuchtungslicht exakt einmal durchtreten wird. Eine Vignettierung des Beleuchtungslichts kann dann vermieden werden.
Genau zwei weitere Beleuchtungsspiegel nach Anspruch 2 ergeben einen vorteilhaften Kompromiss zwischen einer verlustminimierten Führung des EUV-Beleuchtungslichts und einer Beleuchtungsparameter-Vorgaben möglichst genau entsprechenden Objektbeleuchtung.
Eine Ausgestaltung der weiteren Spiegel als NI-Spiegel nach Anspruch 3 minimiert Reflexionsverluste an diesen weiteren Spiegeln.
Ein Beleuchtungs-Hauptstrahlwinkel nach Anspruch 4 ist an die Verhältnisse bei der EUV-Projektionsbelichtung gut angepasst. Der Beleuchtungs-Hauptstrahlwinkel kann auch 8° betragen. Die Beleuchtungsoptik kann für mehrere Hauptstrahlwinkel ausgelegt sein, zwischen denen mit Hilfe einer Settingblende gewechselt werden kann.
Eine objektseitige numerische Apertur nach Anspruch 5 ist gut an die Abbildungsverhältnisse von Projektionsobjektiven von Projektionsbelichtungsanlagen für die EUV-Mikrolithographie zur Herstellung mikro- bzw. nanostrukturierter Bauteile angepasst. Die objektseitige numerische Apertur kann mindestens 0,0825 und kann insbesondere mindestens 0,125 betragen. Die Beleuchtungsoptik kann so ausgelegt sein, dass zwischen diesen numerischen Aperturen mit Hilfe einer Settingblende gewechselt werden kann.
Eine Anordnung der bündelführenden Komponente nach Anspruch 6 ist auch als kritische Beleuchtung des Objektfeldes bekannt. Bei diesem Typ der Beleuchtung wird die Lichtquelle in das Objektfeld abgebildet.
Die eingangs genannte Aufgabe ist, was das Metrologiesystem betrifft, gelöst durch ein Metrologiesystem mit den im Anspruch 7 angegebenen Merkmalen. Das Metrologiesystem kann eine im Objektfeld angeordnete Detektionseinrichtung beispielsweise in Form eines CCD-Chips einer CCD-Kamera, aufweisen.
Die Vorteile eines Metrologiesystems nach Anspruch 7 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die erfindungsgemäße Beleuchtungsoptik bereits erläutert wurden.
Bei der vergrößernden abbildenden Optik des Metrologiesystems handelt es sich um eine optische Baugruppe, die auch ohne die weiteren Komponenten des Metrologiesystems einen wesentlichen eigenen Aspekt der Erfindung darstellt.
Ein Vierspiegel-System nach Anspruch 8 ermöglicht aufgrund der geringen Anzahl von Reflexionen einen guten Durchsatz der abbildendenden Optik auch dann, wenn Reflexionsverluste an den Spiegeln unvermeidlich sind.
Zumindest einer der Abbildungsspiegel kann als Asphäre gestaltet sein. Insbesondere der dem Objektfeld als erster Spiegel nachgeordnete Abbildungsspiegel kann als asphärischer Spiegel ausgeführt sein. Die Abbildungsspiegel können allesamt ohne Durchgangsöffnung für das Abbildungslicht, also mit durchgehenden Reflexionsflächen, ausgeführt sein. Die abbildende Optik kann mit einer eigenen Aperturblende zur Einstellung einer objektseitigen numerischen Apertur der abbildenden Optik und/oder zur Einstellung eines objektseitigen Abbildungs-Hauptstrahlwinkels ausgerüstet sein. Diese Aperturblende kann näher an der Projektebene angeordnet sein als jeder der Spiegel der abbildenden Optik.
Die Beleuchtungsspiegel und/oder die Abbildungsspiegel können mit einer den Reflexionsgrad für das EUV-Beleuchtungs- bzw. Abbildungslicht optimierenden hochreflektierenden Beschichtung versehen sein. Hierbei kann es sich um eine aus dem Stand der Technik grundsätzlich bekannte Mulitlayer-Beschichtung handeln.
Das Objektfeld des Metrologiesystems kann eine Feldgröße von mindestens 5 μm × 5 μm, von mindestens 7,5 μm × 7,5 μm, von mindestens 10 μm × 10 μm, von mindestens 15 μm × 15 μm haben. Die Feldgröße kann beispielsweise 20 μm × 20 μm betragen. In Bezug auf eine Normale durch ein Zentrum des Objektfeldes kann das Bildfeld beabstandet, also dezentriert (off-axis) angeordnet sein. Auch eine zentrierte Anordnung, bei der diese, das Zentrum des Objektfeldes durchstoßenden Normale auch durch das Zentrum des Bildfeldes verläuft, ist möglich.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen:
1 eine Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem für die Untersuchung eines in einem Objektfeld angeordneten Objekts mit EUV-Beleuchtungslicht in einem Meridionalschnitt;
2 eine vergrößernde abbildende Optik des Metrologiesystems zur Abbildung des Objektfeldes in einer Objektebene in ein Bildfeld in einer Bildebene in einem Meridionalschnitt; und
3 wiederum in einem Meridionalschnitt den gesamten EUV-Strahlengang der Beleuchtungsoptik und der vergrößernden abbildenden Optik des Metrologiesystems.
Zur Erleichterung der Darstellung von Lagebeziehungen wird nachfolgend ein kartesisches xyz-Koordinatensystem verwendet. Die x-Achse verläuft in den Figuren senkrecht zur Zeichenebene in diese hinein. Die y-Achse verläuft in den Figuren nach oben. Die z-Achse verläuft in den Figuren nach rechts.
3 zeigt in einem Meridionalschnitt einen Strahlengang von EUV-Beleuchtungslicht bzw. Abbildungslicht 1 in einem Metrologiesystem 2 für die Untersuchung eines in einem Objektfeld 3 in einer Objektebene 4 angeordneten Objekts 5 mit dem EUV-Beleuchtungslicht 1. Das Metrologiesystem 2 wird zur Analyse eines sogenannten Luftbildes (Aerial Image Metrology System, AIMS) eingesetzt und dient zur Simulation und Analyse der Auswirkungen von Eigenschaften von Lithographiemasken, sogenannten Retikels, die wiederum bei der Projektionsbelichtung zur Herstellung von Halbleiterbauelementen zum Einsatz kommen, auf die optische Abbildung von Projektionsoptiken innerhalb einer Projektionsbelichtungsanlage. AIMS-Systeme sind aus der DE 102 20 815 A1 (vgl. dort 9) und der DE 102 20 816 A1 (vgl. dort 2) bekannt.
Das EUV-Beleuchtungslicht 1 wird von einer EUV-Lichtquelle 6 erzeugt. Bei der Lichtquelle 6 kann es sich um eine Laser-Plasma-Quelle (LPP; laser produced plasma) oder um eine Entladungsquelle (DPP; discharge produced plasma) handeln.
Dargestellt ist in der Zeichnung der Strahlengang von individuellen EUV-Strahlen, die von der Lichtquelle 6 ausgehen. Dargestellt sind drei von der Lichtquelle 6 ausgehende Strahlengruppen 8a, 8b, 8c aus jeweils drei einzelnen EUV-Strahlen 7. Jede der Strahlengruppen 8a, 8b, 8c repräsentiert eine unterschiedliche Beleuchtungsrichtung, aus der das Objekt 5 beleuchtet wird. Die äußeren Strahlengruppen 8a, 8c stellen randseitige Beleuchtungswinkel dar und werden auch als Komastrahlen bezeichnet. Die mittlere Strahlengruppe 8b repräsentiert die Hauptstrahlen (chief rays) der Beleuchtung.
Im Strahlengang direkt nach der EUV-Lichtquelle 6 angeordnet ist ein Kollektorspiegel B1, der vom Beleuchtungslicht 1 mit einem Einfallswinkel E reflektiert wird, der kleiner ist als 30°. Beim Kollektorspiegel B1 handelt es sich um einen Reflexionsspiegel nahe der senkrechten Inzidenz, der auch als Normal Incidence-(NI-)Spiegel bezeichnet ist.
Der Kollektorspiegel B1 ist Teil einer auch in der 2 dargestellten Beleuchtungsoptik 9 zur Beleuchtung des Objektfeldes 3 mit dem Beleuchtungslicht 1. Die Beleuchtungsoptik 9 ist zur kritischen Beleuchtung des Objektfeldes 3 ausgelegt. Die Lichtquelle 6 wird also in das Objektfeld 3 abgebildet.
Neben dem Kollektorspiegel B1 gehören zur Beleuchtungsoptik 9 noch zwei weitere Spiegel B2, B3, die in der Reihenfolge ihrer Anordnung im Beleuchtungsstrahlengang des Beleuchtungslichts 1 nummeriert sind. Die Beleuchtungsoptik 9 hat also weniger als drei dem Kollektorspiegel B1 im Strahlengang des Beleuchtungslichts 1 zwischen dem Kollektorspiegel 1 und dem Objektfeld 3 nachgeordnete weitere Spiegel B2, B3. Die beiden weiteren Beleuchtungsspiegel B2, B3 sind ebenfalls als NI-Spiegel ausgeführt, reflektieren das Beleuchtungslicht also mit einem Hauptstrahl-Einfallswinkel E, der kleiner ist als 30°.
Der Beleuchtungsspiegel B1 ist konkav gestaltet. Der Beleuchtungsspiegel B2 ist konvex gestaltet. Der Beleuchtungsspiegel B3 ist konkav gestaltet.
Im Strahlengang des Beleuchtungslichts 1 zwischen dem Kollektorspiegel B1 und dem ersten weiteren Beleuchtungsspiegel B2 ist in einer Zwischenfokusebene 10 ein Zwischenfokus 11 angeordnet. Dort kann das Beleuchtungslicht 1 durch eine in ihrer Apertur an den Durchmesser des Zwischenfokus 11 angepasste Öffnung zur Trennung quellseitiger optischer Komponenten von den nachfolgenden optischen Komponenten hindurchgeführt sein.
Im Strahlengang zwischen dem Zwischenfokus 11 und dem Beleuchtungsspiegel B2 ist eine Settingblende 12 zur Vorgabe eines maximalen Beleuchtungswinkels für die Objektbeleuchtung angeordnet. Die Settingblende 12 ist an einer Position im Strahlengang des Beleuchtungslichts 1 angeordnet, die vom Beleuchtungslicht 1 exakt einmal durchtreten wird. Je nach der Öffnungsweite der Settingblende 12 lässt sich eine objektseitige numerische Apertur der Beleuchtungsoptik 9 vorgeben. Diese objektseitige numerische Apertur ist kontinuierlich in einem Bereich zwischen nahe 0 und 0,125 und insbesondere in einem Bereich zwischen 0,0625 und 0,125 einstellbar.
Nach Reflexion am letzten Beleuchtungsspiegel B3 wird das Beleuchtungslicht mit einem Beleuchtungs-Einfalls-Hauptstrahlwinkel α von 8° hin zum Objektfeld 3 zur Objektbeleuchtung geführt. Das Objekt 5 reflektiert das Beleuchtungslicht 1, welches gleichzeitig als Abbildungslicht zur Abbildung des Objektfeldes 3 in ein Bildfeld 13 in einer Bildebene 14 dient. Diese Abbildung erfolgt mit Hilfe einer abbildenden Optik 15 in Form eines katoptrischen Projektionsobjektivs, die auch in der 2 dargestellt ist. Die abbildende Optik 15 bildet das Objektfeld 3 in das Bildfeld 13 mit einem Vergrößerungsfaktor (Abbildungsmaßstab β) von 750 ab. Im Bildfeld 13 ist zur Analyse des erzeugten, vergrößerten Bildes ein CCD-Chip einer in der 3 schematisch dargestellten CCD-Kamera 16 angeordnet, die als Detektionseinrichtung des Metrologiesystems 2 dient.
Das Objektfeld 3 einerseits und das Bildfeld 13 andererseits liegen in zueinander beabstandeten xy-Ebenen.
Hauptstrahlen 17, also die am Objekt 5 reflektierten EUV-Strahlen 7 der Beleuchtungs-Strahlengruppe 8b, gehen im Abbildungsstrahlengang des Abbildungslichts 1 zwischen dem Objektfeld 3 und dem Bildfeld 13 vom Objektfeld 3 mit einem Ausfalls-Hauptstrahlwinkel α von 8° zu einer in z-Richtung verlaufenden Normalen 18 auf einem zentralen Objektfeldpunkt der Objektebene 4 aus.
Eine objektfeldseitige numerische Apertur der abbildenden Optik 1 beträgt NAO = 0,125. Mithilfe einer dezentrierbaren Aperturblende 19 kann die objektfeldseitige numerische Apertur auf NAO = 0,0625 oder NAO = 0,0825 reduziert werden, wobei dabei gleichzeitig auch ein Hauptstrahlwinkel α von 6° realisiert werden kann.
In der Bildebene 14 treffen die Abbildungsstrahlen des Abbildungslichts 1 nahezu senkrecht zur Bildebene 14 und nahezu parallel zueinander auf das Bildfeld 13.
Im Abbildungsstrahlengang des Abbildungslichts 1 zwischen dem Objektfeld 3 und dem Bildfeld 13 hat die abbildende Optik 15 genau vier Spiegel, die in der Reihenfolge ihrer Anordnung im Abbildungsstrahlengang nachfolgend mit M1 bis M4 bezeichnet werden. Der im Strahlengang erste Spiegel M1 nach dem Objektfeld 3 ist konkav und asphärisch gestaltet. Der nachfolgende Spiegel M2 ist ebenfalls konkav gestaltet. Der nachfolgende Spiegel M3 ist konvex gestaltet. Der wiederum nachfolgende Spiegel M4 ist konkav gestaltet.
Dargestellt sind in der Zeichnung die Schnittkurven von Parentflächen, die für die mathematische Modellierung der Reflexionsflächen der Spiegel B1 bis B3 und M1 bis M4 eingesetzt werden. In der dargestellten Schnittebene (Meridionalschnitt) tatsächlich physikalisch vorhanden sind diejenigen Bereiche der Reflexionsflächen der Spiegel B1 bis B3 und M1 bis M4, die tatsächlich mit dem EUV-Beleuchtungs- bzw. Abbildungslicht 1 beaufschlagt werden.
Der Beleuchtungsspiegel B2 sowie die Abbildungsspiegel M2 bis M4 sind als sphärische Spiegel gestaltet. Der Spiegel B3 ist als torischer Spiegel mit in zueinander senkrechten Hauptebenen unterschiedlichen Krümmungsradien gestaltet. In diesen Hauptebenen ergibt sich beim Spiegel B3 jeweils ein sphärischer Schnitt.
Der Beleuchtungsspiegel B1 ist als rein konische Asphäre gestaltet.
Die Beleuchtungsoptik 9 und die abbildende Optik 15 sind ausgelegt auf eine Betriebswellenlänge von 13,5 nm.
Die Spiegel M1 bis M4 der abbildenden Optik 15 sind allesamt mit durch gehenden Reflexionsflächen ausgeführt, sind also allesamt ohne Durchgangsöffnung für das Abbildungslicht 1 ausgestaltet.
Die Aperturblende 19 ist näher an der Objektebene 4 angeordnet als jeder der Spiegel M1 bis M4 der abbildenden Optik 15.
Hinsichtlich ihrer Reflexionsflächen sind die Spiegel M2 und B3 sowie die Spiegel M4 und B3 Rücken an Rücken angeordnet.
Optische Daten der Beleuchtungsoptik 9 werden nachfolgend anhand einer Tabelle wiedergegeben. Diese Tabelle zeigt in der Spalte „Radius x” und „Radius y” jeweils den Krümmungsradius der Spiegel B1 bis B3 in der xz- und in der yz-Ebene. Diese Krümmungsradien sind nur für den Spiegel B3 unterschiedlich, der als torischer Spiegel mit in der yz-Ebene größerem Krümmungsradius als in der xz-Ebene ausgeführt ist.
Die dritte Spalte (konische Konstante) dieser Tabelle beschreibt die konische Konstante K für die Flächenbeschreibung des Spiegels B1 gemäß folgender Asphärengleichung für die Pfeilhöhe z (h):
h stellt hierbei den Abstand zur optischen Achse, also zur Normalen 18, der abbildenden Optik 1 dar. Es gilt also h² = x² + y². Für c wird in die Gleichung der Kehrwert von „Radius” eingesetzt.
Die vierte Spalte (Dicke) der Tabelle beschreibt den Abstand, ausgehend von der Objektebene 4, jeweils zur nachfolgenden Oberfläche in z-Richtung. Soweit es sich bei den nachfolgenden Zahlenangaben um Längenangaben handelt und nichts anderes angegeben ist, ist jeweils die Einheit mm zu verwenden.
Der Wert y-Dezentrierung in dieser Tabelle beschreibt die Verlagerung der Spiegelfläche in y-Richtung. Der Wert x-Verkippung beschreibt eine Verkippung der jeweiligen Spiegelfläche um die x-Achse.

Optische Daten der abbildenden Optik 15 werden nachfolgend anhand zweier weiterer Tabellen wiedergegeben. Die erste Tabelle zeigt in der Spalte „Radius” wiederum jeweils den Krümmungsradius der Spiegel M1 bis M4. Die dritte Spalte (Dicke) beschreibt wiederum den Abstand, ausgehend von der Objektebene 4, jeweils zur nachfolgenden Oberfläche in z-Richtung. Die zweite nachfolgende Tabelle gibt die Asphärizitäts-Koeffizienten A bis E für die Flächenbeschreibung des Spiegels M1 entsprechend der vorstehend schon angegebenen Asphärengleichung wieder.

Flache	Radius	Dicke	Betriebsmodus
Objektebene	UNENDLICH	156,300
Aperturblende	UNENDLICH	742,214
M1	–747,499	–651,868	REFL
M2	23,479	703,354	REFL
M3	100,000	–673,354	REFL
M4	1708,075	723,354	REFL
Bildebene	UNENDLICH	0,000
Flache	K	A	B
M1	0,000000E+00	9,550618E–12	1,671210E–17
Flache	C	D	E
M1	2,972109E–23	2,740807E–29	1,533462E–34

Ein Koordinatenursprung bei der Flächenbeschreibung der Beleuchtungsoptik 9 ist um 50 μm in positiver y-Richtung gegenüber der optischen Achse (x = 0, y = 0) der abbildenden Optik 15 verschoben.

Claims

Beleuchtungsoptik (9) für ein Metrologiesystem (2) für die Untersuchung eines in einem Objektfeld (3) angeordneten Objekts (5) mit EUV-Beleuchtungslicht (1), – mit einem im Strahlengang direkt nach einer EUV-Lichtquelle (6) anordenbaren Kollektorspiegel (B1), – mit weniger als drei dem Kollektorspiegel (B1) im Strahlengang zwischen dem Kollektorspiegel (B1) und dem Objektfeld (3) nachgeordneten weiteren Beleuchtungsspiegeln (B2, B3), – wobei im Strahlengang zwischen dem Kollektorspiegel (B1) und dem ersten weiteren Beleuchtungsspiegel (B2) ein Zwischenfokus (11) angeordnet ist, – gekennzeichnet durch eine Settingblende (12) im Strahlengang zwischen dem Zwischenfokus (11) und dem ersten weiteren Beleuchtungsspiegel (B2) nach dem Kollektorspiegel (B1), wobei die Settingblende (12) zur Vorgabe eines maximalen Beleuchtungswinkels für die Objektfeldbeleuchtung dient.
Beleuchtungsoptik nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass genau zwei weitere Beleuchtungsspiegel (B2, B3) nach dem Kollektorspiegel (B1) vorhanden sind.
Beleuchtungsoptik nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die zwei weiteren Beleuchtungsspiegel (B2, B3) als NI-Spiegel, also als Spiegel mit einem Hauptstrahl-Einfallswinkel gegenüber einer Normalen auf eine Spiegelfläche, der kleiner ist als 30°, ausgeführt sind.
Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 3, gekennzeichnet durch einen Beleuchtungs-Hauptstrahlwinkel (α) von mindestens 6°.
Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 4, gekennzeichnet durch eine objektseitige numerische Apertur von mindestens 0,0625.
Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 5, gekennzeichnet durch eine Anordnung der bündelführenden Komponenten (B1 bis B3) derart, dass eine Ebene, die zur Anordnung der EUV-Lichtquelle (6) vorgesehen ist, in eine Objektebene (4) abgebildet wird, in der das Objektfeld (3) angeordnet ist.
Metrologiesystem (2) für die Untersuchung eines in einem Objektfeld (3) angeordneten Objekts (5) mit EUV-Beleuchtungslicht (1), – mit einer Beleuchtungsoptik (9) nach einem der Ansprüche 1 bis 6, – mit einer vergrößernden abbildenden Optik (15) zur Abbildung des Objektfeldes (3) in ein Bildfeld (13) in einer Bildebene (14).
Metrologiesystem nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die abbildende Optik (15) genau vier Spiegel (M1 bis M4) aufweist.