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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Beleuchtungssystem für
eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Mehrzahl
von Facettenelementen, die in die Objektebene abgebildet werden,
eine Projektionsbelichtungsanlage und ein Verfahren zur Herstellung
von mikrostrukturierten Bauelementen mit Hilfe einer solchen Projektionsbelichtungsanlage.
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Ein
optisches Element mit Facettenelementen kann dabei auf mehrere Arten
ausgestaltet sein. Möglich ist zum Beispiel eine dichte
Packung von Facettenelementen ohne Abstand zu benachbarten Facettenelementen.
Alternativ ist auch das Zusammenfassen von mehreren Facettenelementen
zu einem Block möglich, wobei die Facettenelemente dicht
im Block angeordnet sind, aber die Blöcke zu benachbarten
Blöcken einen Abstand aufweisen können
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Bei
der Herstellung solcher facettierter optischer Elemente können
verschiedene Verfahren angewandt werden. Zum einen ist es möglich
ein solches optisches Element aus einem Stück zu fertigen, was
jedoch ein kompliziertes und kostspieliges Herstellungsverfahren
erfordert. Zusätzlich kann ein solches Element beim Vorliegen
von Beschädigungen nur vollständig getauscht werden.
Es ist nicht möglich einzelne beschädigte Facettenelemente
separat zu ersetzen.
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Alternativ
kann ein facettiertes optisches Element auch aus einzeln gefertigten
Facettenelementen zusammengesetzt werden. Sind diese Facettenelemente
jedoch in einer dichten Packung oder in Blöcken angeordnet,
so liegt hier das Problem vor, dass einzelne Facettenelemente nicht
separat montiert und justiert werden können. Dies liegt
daran, dass Facettenelemente, die innerhalb bei einer dichten Packung
angeordnet sind, keinen Abstand zu benachbarten Facettenelemente
aufweisen und daher nicht mit Hilfe eines Werkzeuges montiert werden können,
ohne die optische Oberfläche zu beschädigen. Dies
gilt auch für Facettenelemente, die innerhalb eines Block
angeordnet sind. In beiden Fällen ist es nicht möglich,
nachträglich ein solches Facettenelement auszutauschen,
was zum Beispiel auf Grund von Beschädigungen erforderlich
werden kann, ohne zuvor weitere Facettenelemente zu demontieren.
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Durch
die vorliegende Erfindung soll ein Beleuchtungssystem mit einem
facettierten optischen Element zur Verfügung gestellt werden,
das diese Nachteile überwindet. Dies bedeutet, dass sich
das facettierte optische Element wesentlich einfacher Justieren
und Montieren lässt.
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Diese
Aufgabe wird gelöst, indem die Facettenelemente so angeordnet
werden, dass jedes einzelne Facettenelement einfacher zugänglich
ist. Dies bedeutet, dass das Beleuchtungssystem ein facettiertes
optisches Element umfasst, welches aus einer Mehrzahl von Facettenelementen
besteht. Hierbei sind die Facettenelemente so angeordnet, dass zumindest
ein Anteil von 20% aller Seitenflächen des Facettenelements
von den Seitenflächen aller anderen Facettenelementen einen
Abstand hat, der größer ist als 100 μm.
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Ein
Anteil A aller Seitenflächen eines Facettenelements hat
einen Abstand d von den Seitenflächen aller anderen Facettenelemente,
wenn es Bereiche auf den Seitenflächen des Facettenelementes gibt,
so dass alle Punkte dieser Bereiche mindestens einen Abstand d von
allen Punkten auf den Seitenflächen aller anderen Facettenelemente
haben. Der Anteil A ist dabei das Verhältnis der Summe
der Flächeninhalte dieser Bereiche zur Summe der Flächeninhalte
aller Seitenflächen des Facettenelements.
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Die
Erfindung kann sowohl in einem reflektive wie auch in einem refraktiven
Beleuchtungssystem Einsatz finden.
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In
einer refraktiven Ausgestaltung der Erfindung soll unter einem Facettenelement
zum Beispiel eine Linse oder ein Prisma verstanden werden. Ein solches
refraktives Facettenelement besitzt eine Lichteintrittsfläche,
eine Lichtaustrittsfläche und, je nach geometrischer Form,
eine gewisse Anzahl von Seitenflächen. Ist die Lichteintrittsfläche
zum Beispiel rechteckig oder bogenförmig, so liegen vier
Seitenflächen vor. Diese Seitenflächen haben eine
gemeinsame Gesamtoberfläche mit einem gewissen Flächeninhalt.
Da das Licht diese Seitenflächen nicht passiert, ist es
möglich, die Facettenelemente dort derart auszugestalten,
dass sie mit Hilfe eines Werkzeugs gehaltert werden können.
Um jedoch eine gute Verbindung zwischen Werkzeug und Facettenelement herstellen
zu können, muss dieser Kontaktbereich eine gewisse Größe
aufweisen. Hierzu ist mindestens ein Anteil von 20% der Gesamtoberfläche
der Seitenflächen erforderlich.
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Bei
einer reflektiven Ausgestaltung der Erfindung soll unter einem Facettenelement
ein Facettenspiegel verstanden werden. Ein solcher Facettenspiegel
besitzt eine optisch genutzte reflektierende Fläche, eine
Rückseite, sowie eine gewisse Anzahl von Seitenflächen.
Auch in diesem Fall ist es vorteilhaft, die Facettenspiegel während
der Montage und Justage an den Seitenflächen zu haltern.
Da die Facettenspiegel üblicherweise auf einer Grundplatte aufgebracht
werden, kommt die Rückseite hierfür nicht in Frage.
Somit stellt sich die gleiche Aufgabe, eine feste Verbindung zwischen
einem Werkzeug und einem Anteil der Seitenflächen herzustellen.
Um nun ein solcherart gestaltetes Facettenelement nachträglich
demontieren zu können, ist es erforderlich, dass ein Anteil
von 20% ihrer Seitenflächen freiliegt, das heißt
von den Seitenflächen aller anderen Facettenelemente einen
Abstand hat, der größer ist als 100 μm.
Nur so kann gewährleistet werden, dass es nachträglich
möglich ist, mit dem Werkzeug den Anteil Seitenflächen
zu erreichen, und der Zugang nicht durch ein benachbartes Facettenelement
blockiert ist.
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Im
Falle von rechteckigen Facettenelementen, die eine lange und eine
kurze Seite mit einem Aspektverhältnis zwischen 5:1 und
20:1 aufweisen, ist eine Verbindung von Werkzeug und Facettenelement
einfacher und stabiler zu realisieren, wenn zumindest eine der längeren
Seiten vollständig frei liegt. Das heißt, dass
eine der größeren Seitenflächen mit entsprechenden
Montagevorrichtungen versehen werden kann. Dies können
zum Beispiel Nuten oder sonstige Verankerungen sein, an denen ein
Werkzeug angreifen kann. Aufgrund des Aspektverhältnisses
bedeutet dies, dass der freiliegende Anteil A gegeben ist durch
im Falle eines Aspektverhältnisses
von 5:1 bzw.
bei einem Aspektverhältnis
von 20:1. Das heißt, dass der Anteil des Randes, der frei
liegt, größer als 40% sein sollte.
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Je
größer der frei liegende Anteil der Seitenflächen
ist, umso größer ist auch die Freiheit bei der mechanischen
Auslegung der Facettenelemente. Zum Beispiel ermöglicht
das Freiliegen von sich gegenüberliegenden Anteilen der
größeren Seitenflächen den Einsatz eines
zangenähnlich ausgeführten Montagewerkzeuges.
Besonders vorteilhaft ist es daher, wenn alle Seitenflächen
frei liegend sind.
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Ein
Mindestabstand von 100 μm ist erforderlich, um ein Werkzeug
in den Zwischenraum einbringen zu können. Es ist jedoch
einfacher ein solches Werkzeug zu gestalten, wenn der Zwischenraum
größer ist. So ist es vorteilhaft, wenn der Abstand
mehr als 0.5 mm, insbesondere mehr als 1 mm, beträgt.
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Allerdings
sollte der Abstand nicht zu groß gewählt werden,
um den Lichtverlust klein zu halten. Lichtverlust tritt auf, wenn
Beleuchtungsstrahlung auf die Zwischenbereiche zwischen den Facettenelementen
fällt. Diese Strahlung kann nicht zur Objektebene weitergeleitet
werden. Aus diesem Grund ist es vorteilhaft, wenn der Abstand kleiner
ist als 10 mm, insbesondere kleiner ist als 5 mm.
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Der
oben beschriebene Aufbau des ersten facettierten optischen Elements
führt dazu, dass zwischen den Facettenelementen Abstände
auftreten. Dies bedeutet, dass die Strahlung, die in diese Zwischenbereiche
fällt, nicht zur Objektebene weitergeleitet wird. Somit
tritt ein Lichtverlust am ersten facettierten optischen Element
auf. Um diesen zu minimieren, ist es vorteilhaft, wenn die Ausleuchtung
des ersten facettierten optischen Elements entsprechende Lücken
aufweist, beziehungsweise wenn die Intensität der einfallenden
Strahlung im Bereich zwischen den Facettenelementen deutlich gegenüber
der Intensität, der auf die Facettenelemente fallenden Strahlung,
reduziert ist. Dies kann insbesondere bedeuten, dass die Ausleuchtung
aus nicht zusammenhängenden Bereichen besteht. Zwei Bereiche
sind nicht zusammenhängend, wenn es entlang jeder Verbindungslinie
zwischen den beiden Bereichen einen Punkt gibt, an dem die Intensität
der einfallenden Strahlung kleiner ist als 50% der, über
die beiden Bereiche gemittelten, Strahlungsintensität.
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Je
besser die Ausleuchtung an die Anordnung der Facettenelemente angepasst
ist, umso geringer ist der Effizienzverlust am ersten facettierten optischen
Element. Günstig ist zum Beispiel, wenn es einen Ausleuchtungsbereich
zu jedem Facettenelement gibt. Ferner ist es vorteilhaft, wenn die
Facetten vollständig innerhalb dieser Bereiche liegen,
damit sie auch vollständig ausgeleuchtet werden. Da die Facettenelemente
in die Objektebene abgebildet werden, würde eine teilweise
Ausleuchtung der Facettenelemente zu einer ungleichmäßigen
Ausleuchtung der Objektebene führen. Dies kann durch die Anordnung
der Facettenelemente innerhalb der Ausleuchtungsbereiche vermieden
werden.
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Derart
gestaltete Ausleuchtungen können auf verschiedene Arten
erzeugt werden. Eine besonders hohe Strahlungsleistung lässt
sich in dass Beleuchtungssystem einbringen, wenn mehrere Lichtquellen
gleichzeitig an die Beleuchtungsoptik angeschlossen werden können.
Dies hat weiterhin den Vorteil, dass sich auf diese Weise nicht
zusammenhängende Ausleuchtungsbereiche auf dem ersten facettierten
optischen Element erzeugen lassen, indem jede Lichtquelle nur einen
Teilbereich des ersten facettierten optischen Elements ausleuchtet.
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Schwieriger
ist es, mit Hilfe von einer Quelle nicht zusammenhängende
Ausleuchtungsbereiche auf dem ersten facettierten optischen Element
zu erzeugen. Hierzu kann zum Beispiel ein speziell ausgestalteter
Kollektor verwandt werden. Ein Kollektor hat die Aufgabe, Strahlungsenergie
von der Lichtquelle aufzunehmen und in das Beleuchtungssystem einzubringen.
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Eine
Möglichkeit, einen Kollektor so zu gestalten, dass er nicht
zusammenhängende Ausleuchtungsbereiche auf dem ersten facettierten
optischen Element erzeugt, ist die Ausgestaltung des Kollektors aus
nicht zusammenhängenden Segmenten. Zwei Kollektorsegmente
heißen zusammenhängend, wenn es zu jedem Punkt
auf der optischen Oberfläche des einen Kollektorsegments
und jedem Punkt auf der optischen Oberfläche des anderen
Kollektorsegments eine Linie gibt, die die beiden Punkte verbindet,
wobei alle Punkte der Linie auf einer der beiden optischen Oberflächen
liegen.
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Besteht
der Kollektor aus nicht zusammenhängenden Kollektorsegmenten,
so erzeugt jedes Kollektorsegment einen ihm zugeordneten Ausleuchtungsbereich
auf dem ersten facettierten optischen Element. Die geometrische
Form und die Lage der Kollektorsegmente im Raum können
so bestimmt werden, dass die Ausleuchtungsbereiche auf dem ersten
facettierten optischen Element nicht zusammenhängend sind.
Darüber hinaus kann ein solcher Kollektor wesentlich einfacher
hergestellt werden, da jedes einzelne Segment separat gefertigt
werden kann. Dies erhöht zwar die Anzahl der Bauelemente, vereinfacht
jedoch die Herstellung eines solchen speziell ausgestalteten Kollektors,
da jedes einzelne Segment auf Grund seiner geringeren Größe
besser bearbeitet werden kann als ein großer Kollektor,
der aus einem Stück besteht.
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Alternativ
oder ergänzend kann der Kollektor so gestaltet sein, dass
er Segmente umfasst, die zusammenhängend sind und einen
Knick am Übergang zwischen den Segmenten aufweisen.
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Zwei
zusammenhängende Kollektorsegmente haben einen Knick am Übergang
zwischen den Segmenten, wenn es zu jedem Punkt auf der optischen
Oberfläche des einen Kollektorsegments und jedem Punkt
auf der optischen Oberfläche des anderen Kollektorsegments
eine Linie gibt, die die beiden Punkte verbindet, wobei alle Punkte der
Linie auf einer der beiden optischen Oberflächen liegen,
und es zu mindestens einer solchen Linie eine Parametrisierung gibt,
so dass diese Linie bezüglich der Parametrisierung nicht
stetig differenzierbar ist.
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Mit
Hilfe eines solchen Kollektors, der zusammenhängende Segmente
mit Knick umfasst, kann die Strahlungsenergie der Lichtquelle effizienter genutzt
werden, indem Verluste am Zwischenraum zwischen den Segmenten vermieden
werden. Zusätzlich können dennoch die beiden zusammenhängende
Segmente mit Knick nicht zusammenhängende Ausleuchtungsbereiche
erzeugen. Dies ist möglich, da die Lichtrichtung nach dem
Kollektor vom Auftreffwinkel auf die Kollektoroberfläche
abhängt. Gibt es auf der optischen Oberfläche
der beiden Segmente, eine Linie die in einer Parametrisierung nicht stetig
differenzierbar ist, so bedeutet dies, dass zwei benachbarte Lichtstrahlen,
die die Kollektoroberfläche an dem nicht stetig differenzierbaren
Knick treffen, unter unterschiedlichen Winkeln auf die Oberfläche
treffen, je nachdem, welches der angrenzenden Segmente sie treffen.
Somit haben die beiden Lichtstrahlen nach dem Kollektor einen separierten
Lichtweg, auch wenn sie sich vor der Reflektion sowohl in Ort als
auch in ihrer Richtung nur minimal unterscheiden. Es entstehen also
nicht zusammenhängende Ausleuchtungsbereiche in der Ebene
des facettierten optischen Element. Dies liegt daran, dass Kollektor und
erstes optisches Element einen Abstand in der Größenordnung
von einem bis mehreren Metern zueinander haben. Bereits geringe
Winkeländerungen der Lichtstrahlen am Kollektor führen
zu signifikanten Ortsveränderungen der Auftreffpunkte der
Strahlen auf dem ersten optischen Element.
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Sehr
effektiv lässt sich eine Segmentierung des Kollektors nutzen,
wenn jedes Segment genau einen nicht zusammenhängenden
Ausleuchtungsbereich erzeugt. Das heißt es sind nur genau
so viele Kollektorsegmente erforderliche wie nicht zusammenhängenden
Ausleuchtungsbereiche erforderlich sind. Auf diese Weise werden
so wenige Kollektorsegmente wie möglich benötigt,
was die Montage des Kollektors einfacher macht.
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Im
Falle eines reflektiven Kollektors ist es zusätzlich vorteilhaft,
wenn er derart ausgestaltet ist, dass alle Lichtstrahlen unter einem
Einfallswinkel kleiner als 45° auf die reflektive Oberfläche
des Kollektors treffen. Unter dem Einfallswinkel eines Lichtstrahls
wird hier der Winkel zwischen Strahl und Flächennormale
im Auftreffpunkt verstanden. Die Ausgestaltung des Kollektors, so
dass die Einfallswinkel aller Lichtstrahlen kleiner 45° sind,
gewährleistet eine hohe Reflektivität der Kollektoroberfläche,
was zu einem besonders effizienten Beleuchtungssystem führt.
Ferner hat ein solcher Kollektor besonders gute Abbildungseigenschaften.
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Zwischen
den benachbarten Facettenelementen des ersten optischen Elements
können nun zusätzlich mechanische Komponenten
angeordnet werden. Unter mechanischen Komponenten werden zum Beispiel
Aktuatoren zum Bewegen von Facettenelementen, Sensoren zur Bestimmung
der Strahlungsleistung oder der Temperatur, Kühlleitungen
zur Abfuhr von Wärmeenergie, aber auch Vorrichtungen zum
Befestigen oder Ausrichten von Facettenelementen, wie zum Beispiel
Schrauben, verstanden. Um solche mechanischen Komponenten anzubringen,
ist es vorteilhaft, wenn zwischen den Facettenelementen ein gewisser
Abstand vorgesehen ist. Dies liegt daran, dass sich die unten beschriebenen
Anwendungen einfacher realisieren lassen, wenn es möglich
ist, eine mechanische Verbindung zwischen der mechanischer Komponente
und einem Facettenelement herzustellen. Aus diesem Grund ist es
vorteilhaft, wenn mechanische Komponenten benachbart zu Facettenelementen
oder zwischen Facettenelementen angeordnet werden können.
Im Falle von Aktuatoren ist eine mechanische Verbindung zu dem Facettenelement
erforderlich, das bewegt werden soll. Diese lässt sich
einfacher realisieren, wenn der Abstand zwischen Facettenelement
und Aktuator möglichst gering ist. Handelt es sich zum
Beispiel um Kühlleitungen, so ist ebenfalls ein direkter
Kontakt zwischen Kühlleitung und Facettenelement erforderlich,
um eine gute Wärmeleitung zu realisieren.
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Im
Falle von Sensoren besteht der Vorteil der Erfindung darin, dass
es möglich ist, eine größere Anzahl von
Sensoren auf allen Bereichen des ersten facettierten optischen Elements
anzuordnen. Auf diese Weise kann eine größer Menge
an Daten aufgenommen werden, so dass eine bessere Datenbasis erzielt
werden kann.
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Ist
nun ferner das Beleuchtungssystem so gestaltet, dass mehr als 80%
der Ausleuchtung des ersten facettierten optischen Elements durch
Facettenelemente bedeckt wird, so treten nur geringe Verluste am
ersten facettierten optischen Element auf. Verlust von Strahlungsenergie
tritt jedes Mal auf, wenn eine nicht optisch wirksame Fläche
in der Beleuchtungsoptik beleuchtet wird. Dies kann zum Beispiel
auch bei einer mechanischen Komponente der Fall sein. Daher ist
es vorteilhaft, wenn die Facettenelemente einen großen
Anteil an der Ausleuchtung haben.
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In
einer speziellen Ausführungsform dient die mechanische
Komponente dazu, mindestens ein Facettenelement zu bewegen. Dies
schließt sowohl Verkippen, das heißt Änderungen
der Orientierung der optischen Flächen, als auch räumliche
Verschiebungen mit ein. Mit einer solchen Komponente ist es zum
Beispiel möglich, eine Feinjustage der Facettenelemente
während der Montage des ersten facettierten optischen Elements
durchzuführen. Darüber hinaus ermöglicht
eine derartige Komponente aber auch die Korrektur von Fehlstellungen,
die beim Betrieb auftreten. Beispielhaft sei hier die thermale Verformung
durch die starke Erwärmung des ersten facettierten optischen
Elements infolge der Lichteinstrahlung genannt.
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Insbesondere
kann eine solche mechanische Komponente auch dazu benutzt werden,
die Winkelverteilung der Strahlung in der Objektebene zu verändern.
Bereits geringfügige Verkippungen von Facettenelementen
haben großen Einfluss auf den Lichtweg nach dem Facettenelement
aufgrund des langen Lichtweges zwischen Facettenelement und Objektebene.
Daher lässt sich durch ein solches Verkippen die Winkelverteilung
in der Objektebene beeinflussen. Eine Veränderung der Winkelverteilung ist
vorteilhaft, um so die Abbildung einer Maske am Ort der Objektebene
gezielt zu beeinflussen. Vorteilhaft ist es, wenn die Facettenelemente
reflektiv ausgestaltet sind, das heißt, dass es sich um
Facettenspiegel handelt. In diesem Fall ist es möglich,
bereits durch geringfügige Verkippungen der Elemente große Änderungen
des Strahlweges nach den Facettenelementen zu erzeugen. Dies hat
den Vorteil, dass die mechanische Komponente nur kleine Lageveränderungen
bewirken muss.
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Die
Verwendung von Strahlung in einem Wellenlängenbereich zwischen
5 nm und 20 nm hat den Vorteil, dass eine höhere Auflösung
bei der Abbildung einer strukturtragenden Maske am Ort der Objektebene
erzielt werden kann.
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Es
ist vorteilhaft die Facettenelemente rechteckig auszubilden, da
sie auf diese Weise relativ einfach hergestellt werden können.
Dagegen hat die Ausbildung in einer Bogenform den Vorteil, dass
bei einer Abbildung der Facettenelemente ein bogenförmiges
Feld in der Objektebene beleuchtet wird. Es lässt sich
zwar auch durch die Abbildung rechteckigen Facetten ein bogenförmiges
Beleuchtungsfeld in der Objektebene erzielen, hierzu ist es jedoch
erforderlich, gezielt eine Verzeichnung der Abbildung einzustellen.
Bogenförmige Beleuchtungsfelder haben den Vorteil, dass
die Optik zur Abbildung einer strukturtragenden Maske am Ort des
Beleuchtungsfeldes einfacher gestaltet werden kann als es bei anders
geformten Beleuchtungsfeldern der Fall ist. Dies gilt genauso für
den Fall, dass das Beleuchtungsfeld ein Aspektverhältnis
zwischen 1:5 und 1:30 aufweist. Besonders leicht kann ein solches
Aspektverhältnis erreicht werden, in dem die Facettenelemente
bereits ein derartiges Aspektverhältnis haben, da in diesem Fall
auf die Verwendung von anamorphotischen optischen Komponenten im
Beleuchtungssystem verzichtet werden kann.
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Eine
Ausgestaltung des Beleuchtungssystem als ein doppelt facettiertes
Beleuchtungssystem, das heißt, dass das Beleuchtungssystem
eine erste und eine zweite facettierte optische Komponente enthält,
hat den Vorteil, dass hiermit eine besonders gleichmäßige
Ausleuchtung eines Beleuchtungsfeldes in der Objektebene erzeugt
werden kann, wobei auch die Winkelverteilung der Beleuchtungsstrahlung
in der Objektebene sehr genau eingestellt werden kann. Ein solches
Beleuchtungssystem enthält üblicherweise sekundäre
Lichtquellen, die zum Beispiel von den Facettenelementen des ersten
optischen Elements erzeugt werden. Die Lage dieser sekundären
Lichtquellen steht in einem einfachen Zusammenhang zu der Winkelverteilung
der Beleuchtungsstrahlung in der Objektebene. Aus diesem Grund erleichtert
die Auslegung des Beleuchtungssystems als ein System mit sekundären Lichtquellen die
gezielte Einstellung einer Winkelverteilung in der Objektebene.
Es ist darüber hinaus vorteilhaft, wenn die sekundären
Lichtquellen an den Orten der Facettenelemente der zweiten facettierten
optischen Komponente zu liegen kommen, da der Querschnitt des Lichtbündels,
das von einem Facettenelement der ersten facettierten Komponente
ausgeht, an der Stelle der sekundären Lichtquelle besonders
klein ist. Damit ermöglicht es diese Ausführungsform,
die Facettenelemente der zweiten facettierten optischen Komponente
relativ klein auszugestalten.
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Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen,
die zur Produktion von mikroelektronischen Bauelementen verwendet
werden, bestehen unter anderem aus einem Beleuchtungssystem, das
eine Lichtquelle umfasst, zur Ausleuchtung einer strukturtragenden
Maske, dem sogenannten Retikel, und einer Projektionsoptik zur Abbildung
der Maske auf ein Substrat, den Wafer. Dieses Substrat enthält
eine photosensitive Schicht, die bei der Belichtung chemisch verändert
wird. Man spricht hierbei auch von einem lithographischen Schritt.
Das Retikel ist dabei in der Objektebene und der Wafer in der Bildebene der
Projektionsoptik der Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
angeordnet. Durch die Belichtung der photosensitiven Schicht und
weiterer chemischer Prozesse entsteht ein mikroelektronisches Bauelement.
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Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen
werden häufig als sogenannte Scanner betrieben. Das bedeutet,
dass das Retikel durch ein schlitzförmiges Beleuchtungsfeld
entlang einer Scanrichtung bewegt wird, während der Wafer
in der Bildebene der Projektionsoptik entsprechend bewegt wird. Das
Verhältnis der Geschwindigkeiten von Retikel und Wafer
entspricht der Vergrößerung der Projektionsoptik,
die üblicherweise kleiner 1 ist.
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Eine
Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage und ein Verfahren
zur Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen mit Hilfe einer solchen
Anlage, die ein weitergebildetes Beleuchtungssystem umfasst, hat
die Vorteile, die vorstehend bereits unter Bezugnahme auf das Beleuchtungssystem
erläutert wurden.
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Näher
erläutert wird die Erfindung anhand der Zeichnungen.
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1 zeigt
eine dreidimensionale Darstellung des ersten facettierten optischen
Elements mit rechteckigen Facettenelementen;
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2 zeigt
eine Aufsicht auf das erste facettierte optische Element mit rechteckigen
Facetten in einer weiteren Ausführungsform;
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3 zeigt
eine Aufsicht auf das erste facettierte optische Element mit rechteckigen
Facetten in einer weiteren Ausführungsform;
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4 zeigt
den Verlauf der Strahlungsintensität auf dem ersten facettierten
optischen Element entlang einer in 3 dargestellten
Linie;
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5 zeigt
eine Aufsicht auf das erste facettierte optische Element mit rechteckigen
Facetten in einer weiteren Ausführungsform;
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6 zeigt
eine Aufsicht auf das erste facettierte optische Element mit bogenförmigen
Facetten in einer ersten Ausführungsform;
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7 zeigt
eine Aufsicht auf das erste facettierte optische Element mit bogenförmigen
Facetten in einer weiteren Ausführungsform;
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8 zeigt
einen schematischen Meridionalschnitt des Beleuchtungssystems bis
zum ersten facettierten optischen Element mit einem weitergebildeten
Kollektor;
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9 zeigt schematische Meridionalschnitte von
drei verschiedenen Kollektoren;
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10 zeigt
einen Meridionalschnitt durch ein vollständiges Beleuchtungssystem,
das erfindungsgemäß weitergebildet ist.
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11 zeigt
einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungsanlage
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In 1 ist
ein Ausführungsbeispiel für ein erstes facettiertes
optisches Element gemäß der Erfindung dargestellt.
Auf einer Grundplatte 1 sind reflektive Facettenelemente 3 angeordnet.
Die optischen Flächen der Facettenelemente 3 haben
eine rechteckige Form mit einer längeren Kante 5 und eine
kürzeren Kante 7. Die kürze Kante hat
eine Länge von 1 mm und die längere Kante eine
Länge von 14 mm, so dass das Aspektverhältnis
der beiden Kanten 14:1 beträgt. Die Facettenelemente besitzen eine
kleine Seitenfläche 9, eine große Seitenfläche 11,
eine optischen Oberfläche 13 und eine Grundseite
mit der die Facetten auf der Grundplatte 1 befestigt ist.
Unter den Kanten des Facettenelements sollen hier immer die Kanten
der optischen Oberfläche verstanden werden. Die Anordnung
der Facettenelemente ist hier so gewählt, dass an jedem
Facettenelement mindestens eine kleinere Seitenfläche vollständig
frei liegt und mindestens eine der größeren Seitenflächen
zur Hälfte frei liegt. Der Mindestabstand zu den Seitenflächen
aller anderen Facetten beträgt im vorliegenden Fall 1 mm.
Insgesamt ergibt sich aufgrund des Aspektverhältnisses
von 14:1, dass mindestens 27% der Seitenflächen frei liegen.
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2 zeigt
eine schematische Aufsicht einer alternativen erfindungsgemäßen
Anordnung von Facettenelementen. Die den Elementen von 1 entsprechenden
Elemente in 2 haben die gleichen Bezugszeichen
wie in 1 vermehrt um die Zahl 200. Hier sind
die Facettenelemente 203 so angeordnet, dass zwei kleine
Seitenflächen und eine der größeren Seitenflächen
frei liegend sind. Dies ermöglicht hier die Anordnung einer
mechanischen Komponente 215, in Form einer Kühlleitung,
zwischen den Facettenelementen. Die kürzere Kante (207)
hat eine Länge von 0.5 mm und die längere Kante
(205) eine Länge von 10 mm. Damit beträgt
das Aspektverhältnis 20:1 und der freiliegende Anteil der
Seitenflächen beträgt mehr als 52%. Der Abstand
der Facettenelemente ist in diesem Fall 0.5 mm.
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In 3 ist
eine schematische Aufsicht auf ein facettiertes optisches Element
in einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführung
gezeigt. Die den Elementen von 1 entsprechenden
Elemente in 3 haben die gleichen Bezugszeichen
wie in 1 vermehrt um die Zahl 300. Jedes Facettenelement 303 ist
hier so angeordnet, dass alle Seitenflächen frei liegend
sind, so dass ein Anteil der Seitenflächen von 100% freiliegend
ist. Benachbart zu den Facettenelementen sind sind Aktuatoren 317 angeordnet,
die dazu dienen die Facettenelemente zu verkippen. Weiterhin sind
nicht zusammenhängende Ausleuchtungsbereiche 319 und 321 gezeigt
und eine Linie 323, die die beiden Gebiete durchläuft. Entlang
dieser Linie sind die Positionen (325, 327, 329, 331)
markiert, an denen die Linie in das erste Ausleuchtungsgebiet eintritt
(325), das erste Ausleuchtungsgebiet verlässt
(327), in das zweite Ausleuchtungsgebiet eintritt (329)
und das zweite Ausleuchtungsgebiet wieder verlässt (331).
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4 zeigt
den Intensitätsverlauf der Ausleuchtung entlang der in 3 gezeigten
Linie 323. Die den Elementen von 3 entsprechenden
Elemente in 4 haben die gleichen Bezugszeichen wie
in 3 vermehrt um die Zahl 100. Entlang der vertikalen
Achse ist die Intensität der einfallenden Strahlung aufgetragen.
Zusätzlich ist die über die beiden Ausleuchtungsgebiete 319 und 321 gemittelte Intensität
IM, sowie der entsprechende 50% Wert dargestellt.
Hieran wird deutlich, dass die Berandung des Ausleuchtungsgebietes
durch die Punkte gegeben ist, an denen die Intensität auf
der Linie 50% der gemittelten Intensität entspricht. So
schneidet der Intensitätsgraph die 50% Linie an der Position 425,
was dem Eintritt der Linie in das erste Ausleuchtungsgebiet entspricht.
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In 5 ist
eine weitere schematische Darstellung des ersten facettierten optischen
Elements gezeigt. Die den Elementen von 1 entsprechenden
Elemente in 5 haben die gleichen Bezugszeichen
wie in 1 vermehrt um die Zahl 500. Die Facettenelemente 503 sind
hier so angeordnet, dass jeweils eine kleine Seitenfläche
und beide größeren Seitenflächen zu Hälfte
frei liegend sind. Zwischen den Facettenelementen sind hier mechanische
Komponenten in Form von Sensoren 533 zur Messung der Temperatur
des ersten facettierten optischen Elements gezeigt. Die kürzere
Kante hat eine Länge von 1 mm und die längere
Kante eine Länge von 5 mm. Das Aspektverhältnis
beträgt somit 5:1. Der Anteil der Seitenflächen,
der freiliegend ist beträgt mehr als 54%. Der Abstand der
Facettenelemente beträgt 1 mm.
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6 zeigt
eine schematische Darstellung eines erfindungsgemäßen
ersten facettierten optischen Elements umfassend bogenförmige
Facettenelemente. Die den Elementen von 1 entsprechenden
Elemente in 6 haben die gleichen Bezugszeichen
wie in 1 vermehrt um die Zahl 600. Die bogenförmigen
Facettenelemente 603 haben zwei größere
Seitenflächen 611 und zwei kleinere Seitenflächen 609.
An jedem Facettenelement sind beide kleineren Seitenflächen
und eine der größeren Seitenflächen 611 frei
liegend. Die kürzere Kante hat eine Länge von
1 mm und die längere Kante der optischen Fläche
eine Länge von 30 mm, so dass das Aspektverhältnis
30:1 beträgt. Der freiliegende Anteil der Seitenflächen
ist größer als 51%. Der Abstand der Facettenelemente
beträgt 0.5 mm.
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7 zeigt
eine schematische Darstellung eines erfindungsgemäßen
ersten facettierten optischen Elements umfassend bogenförmige
Facettenelemente in einer alternativen Anordnung. Die den Elementen
von 1 entsprechenden Elemente in 7 haben
die gleichen Bezugszeichen wie in 1 vermehrt
um die Zahl 700. Die bogenförmigen Facettenelemente 703 haben
zwei größere Seitenflächen 711 und
zwei kleinere Seitenflächen 709. An jedem Facettenelement
sind beide kleineren Seitenflächen und beide größeren
Seitenflächen frei liegend. Der freiliegende Anteil der
Seitenflächen ist damit 100%. Die kürzere Kante
hat eine Länge von 1 mm und die längere Kante
der optischen Fläche eine Länge von 30 mm, so
dass das Aspektverhältnis 30:1 beträgt. Der Abstand
der Facettenelemente beträgt 0.2 mm.
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In 8 ist
ein Meridionalschnitt durch ein Beleuchtungssystem bis zum ersten
facettierten optischen Element mit einem erfindungsgemäßen
Kollektor 844 dargestellt. Gezeigt ist eine Lichtquelle 835,
von der Lichtstrahlen 837, 839, 841, 843 ausgehen.
Diese Lichtstrahlen treffen auf einen Kollektor 844, der
die Kollektorsegmente 845, 847 und 849 umfasst.
Jedes Kollektorsegment ist im vorliegenden Fall ein Ausschnitt aus
einem Ellipsoiden, in dessen ersten Brennpunkt die Lichtquelle 835 angeordnet ist.
Daher schneiden sich alle von der Lichtquelle ausgehenden Strahlen,
die das gleiche Kollektorsegment treffen im zweiten Brennpunkt,
dem Zwischenfokus. Für das Kollektorsegment 845 ist
dies der Zwischenfokus 851 und für das Kollektorsegment 847 der
Zwischenfokus 853. Das Kollektorsegment 845 erzeugt
einen der Ausleuchtungsbereiche 855 auf dem ersten facettierten
optischen Element 857. Genauso erzeugt das Kollektorsegment 847 einen
anderen der Ausleuchtungsbereich 855 auf dem ersten facettierten
optischen Element. Diese Ausleuchtungsbereiche sind nicht zusammenhängend.
Im Zwischenbereich 859 fällt die Strahlungsintensität
im vorliegenden Beispiel bis auf Null ab. Dies liegt daran, dass
die beiden räumlich benachbarten Lichtstrahlen 839 und 841 unter
deutlich unterschiedlichen Winkeln auf die Oberfläche der
jeweiligen Kollektorsegmente 845 bzw. 847 treffen.
Nach dem Kollektor nehmen diese Strahlen einen deutlich anderen Lichtweg.
Daher sind die Ausleuchtungsbereiche 855 und 859 nicht
zusammenhängend. Auch die Kollektorsegmente 845 und 847 sind
nicht zusammenhängend, da es nicht möglich ist,
einen Punkt auf der optischen Oberfläche von Segment 845 mit
einem Punkt auf der Oberfläche von Segment 847 mit
Hilfe einer Linie zu verbinden, so dass alle Punkte auf der Linie
auf einem der beiden Kollektorsegmente liegen.
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9a,
b, c zeigt eine Darstellung von drei verschiedenen Kollektoren.
Der Kollektor 963 in 9a entspricht
dem Kollektor aus 8. Die den Elementen von 8 entsprechenden
Elemente in 9 haben die gleichen Bezugszeichen
wie in 8 vermehrt um die Zahl 100. Für
eine Beschreibung dieser Elemente wird auf die Beschreibung zu 8 verwiesen.
Die Kollektorsegmente 945, 947, 949 sind
in dieser Variante nicht zusammenhängend. Deutlich sind
die entsprechenden Stellen 969 zu sehen.
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Dagegen
hat der Kollektor 965 in 9b eine
zusammenhängende und stetig differenzierbare Oberfläche.
Dies gilt insbesondere für die Übergänge 971 zwischen
den Segmenten 975, 977, 979. Ein solcher
Kollektor erzeugt typischerweise nicht zusammenhängende
Ausleuchtungsbereiche auf dem ersten facettierten optischen Element,
wobei die Intensität im Zwischenraum zwischen den Bereichen
nicht bis auf Null absinkt. Dies liegt daran, dass aufgrund der
stetig differenzierbaren Kollektoroberfläche in der Intensitätsverteilung
auf dem ersten facettierten optischen Element keine Unstetigkeiten
auftreten können, sofern die Winkelverteilung der Strahlung
durch die Lichtquelle auch keine Unstetigkeiten besitzt. Ein Beispiel
für eine solche Intensitätsverteilung ist in 4 dargestellt.
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Eine
Möglichkeit zur Erzeugung von nicht zusammenhängenden
Ausleuchtungsbereichen auf dem ersten facettierten optischen Element
ist es, den Kollektor 967 aus 9c zu
verwenden. Dieser Kollektor besitzt nicht stetig differenzierbare
Stellen 973. An diesen Stellen werden die einfallenden
Strahlen in stark unterschiedliche Richtungen reflektiert je nachdem,
welches der Kollektorsegment 981, 983, 985 sie
treffen. Der Kollektor 967 umfasst also Segmente, die zusammenhängend
sind und einen Knick aufweisen.
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10 zeigt
einen Meridionalschnitt durch ein Beleuchtungssystem in einer reflektiven
Ausgestaltung. Die den Elementen von 8 entsprechenden
Elemente in 10 haben die gleichen Bezugszeichen
wie in 8 vermehrt um die Zahl 200. Für eine
Beschreibung dieser Elemente wird auf die Beschreibung zu 8 verwiesen.
Mit Hilfe des Kollektors 1063 wird die Strahlung der Lichtquelle 1035 auf ein
erstes facettiertes optisches Element 1057 geleitet. Es
entstehen nicht zusammenhängende Ausleuchtungsbereiche 1055 auf
dem ersten facettierten optischen Element. Innerhalb dieser Ausleuchtungsbereiche
sind Facettenelemente 1003 angeordnet. Die von den Facettenelementen
des ersten facettierten optischen Elements reflektierte Strahlung
fällt auf ein zweites facettiertes optisches Element 1087,
das eine Mehrzahl von Facettenelementen 1089 umfasst. Zur
besseren Lesbarkeit wurde darauf verzichtet nach dem ersten facettierten
optischen Element den vollständigen Strahlengang darzustellen.
Nach Reflektion an den Facettenelementen des zweiten facettierten
optischen Elements fällt die Strahlung auf eine nachfolgende
Optik 1091, die in diesem Fall ausschließlich
aus einem abbildenden Spiegel besteht, der das Licht auf die Objektebene 1093 weiterleitet.
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Die
Facettenelemente des ersten facettierten optischen Elements erzeugen
senkundäre Lichtquellen 1099, was mit Hilfe des
gestrichelten Strahlengangs 1095 angedeutet ist. Diese
sekundären Lichtquellen liegen am Ort der Facettenelemente 1089 des
zweiten facettierten optischen Elements 1087. Durch Verkippen
der Facettenelemente des ersten facettierten optischen Elements
kann die Lage der sekundären Lichtquellen zum Beispiel
so variieren, dass sie in einer ersten Stellung mit den Orten eines
ersten Satzes von Facettenelementen des zweiten optischen Elements
zusammenfallen und in einer zweiten Stellung mit einem zweiten Satz.
Dies ist insbesondere dann sinnvoll, wenn der erste Satz zumindest
teilweise andere Facettenelemente enthält als der zweite
Satz.
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Diese Änderung
der Lage der sekundären Lichtquellen führt zu
einer Änderung der Ausleuchtung des zweiten facettierten
optischen Elements und damit auch zu einer Änderung der
Winkelverteilung der Beleuchtungsstrahlung in der Objektebene. Somit
kann durch Verkippung von Facettenelementen des ersten facettierten
optischen Elements gezielt die Winkelverteilung der Beleuchtungsstrahlung in
der Objektebene beeinflusst werden.
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Die
Facettenelemente des ersten facettierten optischen Elements werden
mit Hilfe der Facetten des zweiten facettierten optischen Elements
und der nachfolgenden Optik in die Objektebene 1093 abgebildet,
was mit Hilfe des durchgezogenen Strahlenganges 1097 dargestellt
ist. Dies hat den Vorteil, dass über die Form der Facettenelemente
des ersten facettierten optischen Elements auch die Form des Ausleuchtungsgebietes
in der Objektebene definiert werden kann.
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In 11 ist
eine vereinfachte Darstellung einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
dargestellt, die in ihrer Gesamtheit mit der Bezugsziffer 11101 versehen
ist. Die den Elementen von 10 entsprechenden
Elemente in 11 haben die gleichen Bezugszeichen
wie in 10 vermehrt um die Zahl 10000.
Das Beleuchtungssystem 11103 beleuchtet dabei die strukturtragende
Maske 11105, die in der Objektebene 11093 angeordnet
ist. Die strukturtragende Maske kann dabei in Scanrichtung 11109 bewegt
werden. Nachgeschaltet ist die Projektionsoptik (11111),
die die Maske in die Bildebene 11113 abbildet. In der Bildebene
befindet sich ein Substrat 11115, das eine photosensitive
Schicht 11117 enthält. Dieses Substrat kann ebenfalls
entlang der Scanrichtung 11109 bewegt werden. Das Verhältnis
der Geschwindigkeiten von Maske und Substrat entspricht der Vergrößerung
der Projektionsoptik, die üblicherweise kleiner 1 ist,
zum Beispiel 1:4.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - US 6438199
B1 [0002]
- - US 6658084 B1 [0002]