DE102006061763A1 - Micro mirror for use in micro-mirror device, has reflection mirror and torsion bars protruding from reflection mirror where carrier frame holds reflection mirror such that reflection mirror rotates over torsion bars around axis of rotation - Google Patents

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Masayoshi Sendai Esashi
Naoki Kikuchi
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Abstract

The micro mirror (100), has a reflection mirror (1), a pair of torsion bars (4a,4b), which protrude from the reflection mirror, a carrier frame (5), which holds the reflection mirror in such a way that the reflection mirror is rotated over the torsion bars around an axis of rotation (OY). The micro mirror also has a pair of other torsion bars (14a,14b), which protrude from the carrier framework in a direction, which is perpendicular to the direction, in which the former torsion bars are protruding. Another carrier frame (15) holds the former carrier frame in such a way that the former carrier is rotated around the other torsion bars around the other axis of rotation (OX), which is perpendicular to the axis of rotation. The other torsion bars have in each case two separate conductive elements. An independent claim is also included for a micro mirror device.

Description

Die Erfindung betrifft einen Mikrospiegel und eine Mikrospiegelvorrichtung, die ausgebildet ist, einen Spiegel über elektrostatische Anziehung zwischen benachbarten Elektroden fein zu verkippen.The The invention relates to a micromirror and a micromirror device, which is designed to be a mirror via electrostatic attraction to tilt finely between adjacent electrodes.

Mit Entwicklung mikro-elektromechanischer Systeme, kurz MEMS, haben in jüngerer Vergangenheit verschiedenartige Mikrovorrichtungen praktische Anwendung gefunden. Ein Beispiel für solche Mikrovorrichtungen ist ein Mikrospiegel, der beispielsweise als Abtaster für ein Strichcode-Lesegerät, einen Laserdrucker, etc. verwendbar ist. Beispiele für solch einen Mikrospiegel sind in der US 6057952 beschrieben. Der in der US 6057952 beschriebene Mikrospiegel stellt eine elektrostatische Antriebsvorrichtung dar, die ausgebildet ist, einen Spiegel durch elektrostatische Anziehung, die zwischen Elektroden wirkt, fein zu verkippen.With the development of micro-electromechanical systems, MEMS for short, various types of microdevices have found practical application in the recent past. An example of such micro devices is a micromirror which may be used, for example, as a scanner for a bar code reader, a laser printer, etc. Examples of such a micromirror are in the US 6057952 described. The Indian US 6057952 described micromirror is an electrostatic drive device which is designed to finely tilt a mirror by electrostatic attraction, which acts between electrodes.

Ein Beispiel eines in der US 6057952 offenbarten Mikrospiegels ist so ausgebildet, dass ein Reflexionsspiegel um zwei Drehachsen kippbar ist, um auf einer Oberfläche eines Objektes eine zweidimensionale Abtastung vorzunehmen. In diesem Beispiel ist der Reflexionsspiegel durch ein erstes Paar Torsionsstäbe schwenkbar gelagert. Dieses erste Paar Torsionsstäbe ist an einem ersten Rahmenteil gehalten, der um den Reflexionsspiegel herum ausgebildet ist. Der erste Rahmenteil ist durch ein zweites Paar Torsionsstäbe schwenkbar gelagert, die sich in einer Richtung erstrecken, welche die Richtung, in die sich das erste Paar Torsionsstäbe erstreckt, senkrecht schneidet.An example of one in the US 6057952 disclosed micromirror is designed so that a reflection mirror is tiltable about two axes of rotation to make a two-dimensional scan on a surface of an object. In this example, the reflection mirror is pivotally supported by a first pair of torsion bars. This first pair of torsion bars is held on a first frame part which is formed around the reflection mirror. The first frame member is pivotally supported by a second pair of torsion bars which extend in a direction perpendicularly intersecting the direction in which the first pair of torsion bars extend.

Das zweite Paar Torsionsstäbe ist an einem zweiten Rahmenteil gehalten, der um den ersten Rahmenteil herum ausgebildet ist. Auf dem Reflexionsspiegel sind zwei Elektroden ausgebildet. Ferner sind auch auf dem ersten Rahmenteil zwei Elektroden ausgebildet. Außerdem ist eine Elektrode so angeordnet, dass sie den oben genannten Elektroden gegenüberliegt.The second pair of torsion bars is held on a second frame part which surrounds the first frame part is formed around. On the reflection mirror are two electrodes educated. Furthermore, two electrodes are also on the first frame part educated. Furthermore For example, an electrode is disposed facing the above-mentioned electrodes.

Wird eine Spannung zwischen der an dem Reflexionsspiegel vorgesehen Elektrode und der gegenüberliegenden Elektrode angelegt, so wirkt zwischen diesen Elektroden eine elektrostatische Anziehung, wodurch jeder der ersten Torsionsstäbe verdreht wird. Demzufolge dreht sich der Reflexionsspiegel in einer Torsionsbewegung um eine erste Drehachse. Wird zwischen der an dem ersten Rahmenteil vorgesehenen Elektrode und der gegenüberliegenden Elektrode eine Spannung angelegt, so wird zwischen diesen Elektroden eine elektrostatische Anziehung erzeugt, wodurch jeder der beiden zweiten Torsionsstäbe verdreht wird. Demzufolge wird der Reflexionsspiegel in einer Torsionsbewegung um eine zweite Drehachse gedreht, die senkrecht zur ersten Drehachse liegt. Indem an die Elektroden Spannungen angelegt werden, kann so der Reflexionsspiegel um zwei Drehachsen gedreht werden.Becomes a voltage between the electrode provided on the reflection mirror and the opposite Applied electrode, so acts between these electrodes an electrostatic Attraction, whereby each of the first torsion bars is twisted. As a result, the reflection mirror rotates about one in a torsional motion first axis of rotation. Is provided between the provided on the first frame part Electrode and the opposite When a voltage is applied to the electrode, it becomes between these electrodes generates an electrostatic attraction, causing each of the second two torsion bars is twisted. As a result, the reflection mirror becomes a torsional motion rotated about a second axis of rotation perpendicular to the first axis of rotation lies. By applying voltages to the electrodes, one can so the reflection mirror can be rotated about two axes of rotation.

Indem ein Strahl auf den Reflexionsspiegel gerichtet wird, der um die beiden Drehachsen verdreht wird, führt der an dem Reflexionsspiegel reflektierte Strahl eine Pendelbewegung in zwei Dimensionen aus. Wird dieser reflektierte Strahl auf ein Objekt gerichtet, um dieses zu beleuchten, so wird an diesem Objekt eine zweidimensionale Abtastung vorgenommen.By doing a beam is directed onto the reflection mirror surrounding the Twisted two axes of rotation, which leads to the reflection mirror Ray reflected a pendulum motion in two dimensions. This reflected beam is aimed at an object around this object To illuminate, so on this object is a two-dimensional scan performed.

In dem in der US 6057952 beschriebenen Mikrospiegel sind an dem ersten und dem zweiten Paar Torsionsstäbe Leitungsmuster ausgebildet, um die an dem Reflexionsspiegel ausgebildeten Elektroden mit den an dem zweiten Rahmenteil ausgebildeten Elektroden elektrisch zu verbinden. Auch sind an dem zweiten Paar Torsionsstäbe Leitungsmuster ausgebildet, um die an dem ersten Rahmenteil ausgebildeten Elektroden mit den an dem zweiten Rahmenteil ausgebildeten Elektroden zu verbinden. Mit dem Begriff "Leitungsmuster" ist im Folgenden ein leitfähiges Muster gemeint, das aus einem dünnen Blatt oder einer Folie aus Metall, z. B. Kupfer, besteht und auf einem Substrat ausgebildet ist.In the in the US 6057952 described micromirrors are formed on the first and the second pair of torsion bars conduction pattern to electrically connect the electrodes formed on the reflection mirror with the electrodes formed on the second frame part. Also, on the second pair of torsion bars, there are formed line patterns for connecting the electrodes formed on the first frame part to the electrodes formed on the second frame part. By the term "conductive pattern" is meant a conductive pattern consisting of a thin sheet or foil of metal, e.g. As copper, and is formed on a substrate.

Der Mikrospiegel ist eine Vorrichtung, der eine Mikrostruktur aufweist. Insbesondere ist der jeweilige Torsionsstab so ausgebildet, dass er nur eine winzige Breite hat. Üblicherweise wird die Breite eines Leitungsmusters im Entwurf unter Berücksichtigung eines Herstellungsfehlers festgelegt. Deshalb wird die Breite eines auf einem Torsionsstab ausgebildeten Leitungsmusters im Entwurf so festgelegt, dass sie kleiner als die Breite des Torsionsstabs ist. Die Breite eines auf dem Torsionsstab vorgesehenen Leitungsmusters ist deshalb äußerst klein. Da bei dem in der US 6057952 beschriebenen Mikrospiegel auf jedem zweiten Torsionsstab zwei Leitungsmuster ausgebildet werden müssen, muss die Breite des jeweiligen, auf dem Torsionsstab ausgebildeten Leitungsmusters kleiner als die des auf dem ersten Torsionsstab ausgebildeten Leitungsmusters sein.The micromirror is a device that has a microstructure. In particular, the respective torsion bar is designed so that it has only a tiny width. Usually, the width of a line pattern in the design is set considering a manufacturing error. Therefore, the width of a line pattern formed on a torsion bar is designed so as to be smaller than the width of the torsion bar. The width of a provided on the torsion bar line pattern is therefore extremely small. As in the in the US 6057952 described micromirrors on each second torsion bar two line patterns must be formed, the width of the respective formed on the torsion bar line pattern must be smaller than that of the formed on the first torsion bar line pattern.

Unter Anwendung einer Technik zur hochgenauen Struktur- oder Musterbildung ist es möglich, feine Leitungsmuster auf einem Halbleitersubstrat auszubilden. Jedoch führt die Anwendung einer solchen Technik zur hochgenauen Musterbildung zwangsläufig zu einem Anstieg der zur Herstellung eines Mikrospiegels aufzuwendenden Kosten. Ist außerdem bei einer Musterbildung eine hohe Genauigkeit erforderlich, so nimmt die Toleranz ab, was möglicherweise zu einer Abnahme der Ausbeute an gefertigten Mikrospiegeln führt. Diese Abnahme der Ausbeute an Mikrospiegeln verringert die Herstellungseffizienz und erhöht die Herstellungskosten.Under Application of a technique for high-precision structure or pattern formation is it possible, fine Forming line pattern on a semiconductor substrate. however leads the Application of such a technique for highly accurate pattern formation inevitably an increase in the cost of producing a micromirror Costs. Is also If patterning requires high accuracy, so does the tolerance off what possibly leads to a decrease in the yield of manufactured micromirrors. These Decrease in the yield of micromirrors reduces the production efficiency and increased the manufacturing costs.

Befindet sich der Mikrospiegel in Betrieb, d. h. in einem angetriebenen Zustand, so werden die Torsionsstäbe mechanisch belastet. Ist das auf dem jeweiligen Torsionsstab ausgebildete Leitungsmuster extrem dünn, so besteht die Gefahr, dass dieses in Abhängigkeit des (möglicherweise brüchigen) Materials, aus dem es besteht, im angetriebenen Zustand des Mikrospiegels bricht. Um die Breite eines auf einem Torsionsstab auszubildenden Leitungsmusters zu verringern, muss so der Materialbereich, aus dem das Material für das Leitungsmuster gewählt wird, beschränkt werden.is the micromirror is in operation, d. H. in a powered state, That's how the torsion bars are made mechanically loaded. Is that trained on the respective Torsionsstab Line pattern extremely thin, so there is a risk that this depending on the (possibly brittle) Material of which it consists, in the powered state of the micromirror breaks. To the width of a trainee on a torsion bar To reduce line pattern, so must the material area, off the material for the line pattern is selected is limited become.

Nimmt die Breite des Leitungsmusters ab, so erhöht sich der elektrische Widerstand des Leitungsmusters. In diesem Fall muss die Antriebsspannung, mit der die jeweilige Elektrode angesteuert wird, erhöht werden.takes the width of the line pattern, so the electrical resistance increases of the line pattern. In this case, the drive voltage, with the respective electrode is driven, are increased.

Ist ein für eine eindimensionale Abtastung bestimmter Mikrospiegel so ausgebildet, dass er einen Basis- oder Trägerteil aufweist, der einen Torsionsstab umfasst und aus einem leitfähigen Material besteht, so ist dieser Trägerteil selbst im Stande, als leitfähiges Muster zu dienen. In diesem Fall ist es nicht erforderlich, Leitungsmuster auf dem Mikrospiegel auszubilden. Entsprechend ist es nicht erforderlich, eine Technik zur hochgenauen Musterbildung anzuwenden. Die Verwendung eines solchen leitfähigen Trägerteils löst auch das oben beschriebene Problem, dass die Leitungsmuster an dem Torsionsstab brechen können.is one for a one-dimensional scan of certain micromirrors designed so that he has a base or carrier part comprising a torsion bar and made of a conductive material, so is this carrier part even capable, as a conductive To serve patterns. In this case, it is not necessary to conduction patterns to train on the micromirror. Accordingly, it is not necessary to apply a technique for highly accurate patterning. The usage of such a conductive support part solve too the above-described problem that the line patterns on the torsion bar can break.

Bei einem Mikrospiegel, der einer zweidimensionalen Abtastung dient, ist die Zahl an Signalleitungen, die aus dem Mikrospiegel, d. h. einer die Antriebsspannung erzeugenden Spannungsversorgungseinheit, herausgeführt werden müssen, größer als bei einem Mikrospiegel, mit dem nur eine eindimensionale Abtastung vorgenommen werden soll. Insbesondere ist bei einem der zweidimensionalen Abtastung dienenden Mikrospiegel die Zahl an Signalleitungen, die herausgeführt werden muss, größer als die Zahl an oben genannten zweiten Torsionsstäben (d. h. zwei). Um einen Mikrospiegel so auszubilden, dass der oben genannte leitfähige Trägerteil ein leitfähiges Muster bildet, muss die Zahl an herauszuführenden Signalleitungen kleiner oder gleich der Zahl an äußeren Torsionsstäben sein (d. h. der Zahl an zweiten Torsionsstäben in dem oben beschriebenen Beispiel des Mikrospiegels, der zwei Drehachsen aufweist). Aus diesem Grunde ist es nicht möglich, das Entwurfsschema für einen der eindimensionalen Abtastung dienenden Mikrospiegel auf einen Mikrospiegel anzuwenden, der für eine zweidimensionale Abtastung vorgesehen ist.at a micromirror that serves a two-dimensional scan, is the number of signal lines coming out of the micromirror, i. H. a drive voltage generating power supply unit, led out Need to become, greater than in a micromirror, with only a one-dimensional scan should be made. In particular, in one of the two-dimensional scan The number of signal leads that are brought out must, greater than the number of above-mentioned second torsion bars (i.e., two). To one Micromirror form so that the above-mentioned conductive support member a conductive one Pattern forms, the number of signal lines to be taken out has to be smaller or equal to the number of outer torsion bars (i.e., the number of second torsion bars in the above-described Example of the micromirror having two axes of rotation). For this It is not possible the design scheme for a one-dimensional scanning micromirror on to apply a micromirror, which is for a two-dimensional scan is provided.

Die Erfindung ermöglicht es in vorteilhafter Weise, einen Mikrospiegel und eine Mikrospiegelvorrichtung anzugeben, die es ermöglichen, eine Abtastung um zwei Drehachsen vorzunehmen, und die ohne eine Ausbildung von Leitungsmustern auf Torsionsstäben auskommen.The Invention allows Advantageously, a micromirror and a micromirror device which make it possible to a scan to make two axes of rotation, and without a Training line patterns on torsion bars get along.

Die Erfindung erreicht dies durch die Gegenstände der unabhängigen Ansprüche. Vorteilhafte Weiterbildungen sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.The The invention achieves this by the subject matters of the independent claims. Advantageous developments are in the dependent Claims specified.

Bei dem erfindungsgemäßen Mikrospiegel hat das Paar zweite Torsionsstäbe insgesamt vier separate leitfähige Elemente. Dies bedeutet, dass Signalleitungen in einer Zahl, die die Zahl an zweiten Torsionsstäben übersteigt, von den innenliegenden Komponenten nach außen geführt werden können. Dieser Aufbau ermöglicht es, einen Mikrospiegel für eine zweiachsige Abtastung bereitzustellen, ohne an den zweiten Torsionsstäben Leitungsmuster ausbilden zu müssen. Es ist deshalb nicht erforderlich, zur Herstellung des Mikrospiegels eine Technik zur hochgenauen Musterbildung anzuwenden. So kann die Ausbeute an hergestellten Mikrospiegeln erhöht und die Produktion effizient gesteigert werden. Außerdem können die Fertigungskosten gesenkt werden.at has the micromirror according to the invention the pair second torsion bars a total of four separate conductive Elements. This means that signal lines in a number, the exceeds the number of second torsion bars, can be guided by the internal components to the outside. This Construction possible it, a micromirror for one provide biaxial scanning without line pattern on the second torsion bars to have to train. It is therefore not necessary for the production of the micromirror to apply a technique for highly accurate patterning. So can the yield increased in manufactured micromirrors and efficient production be increased. In addition, the Production costs are lowered.

Die Erfindung wird im Folgenden anhand der Figuren näher erläutert.The The invention will be explained in more detail below with reference to FIGS.

Darin zeigen:In this demonstrate:

1 eine Draufsicht auf einen Mikrospiegel nach einem Ausführungsbeispiel; 1 a plan view of a micromirror according to an embodiment;

2A einen Querschnitt durch den Mikrospiegel längs der in 1 gezeigten Linie A-A; 2A a cross section through the micromirror along the in 1 shown line AA;

2B einen Querschnitt durch den Mikrospiegel längs der in 1 gezeigten Linie B-B; 2 B a cross section through the micromirror along the in 1 shown line BB;

2C einen Querschnitt durch den Mikrospiegel längs der in 1 gezeigten Linie C-C; 2C a cross section through the micromirror along the in 1 shown line CC;

3A eine auf der Oberseite des Mikrospiegels angeordnete leitfähige Schicht; 3A a conductive layer disposed on the top of the micromirror;

3B eine auf der Unterseite des Mikrospiegels angeordnete leitfähige Schicht; 3B a conductive layer disposed on the underside of the micromirror;

3C einen Querschnitt durch den Mikrospiegel längs der in 3A und 3B gezeigten Linie D-D; 3C a cross section through the micromirror along the in 3A and 3B shown line DD;

4A einen Querschnitt durch den Mikrospiegel längs der Linie B-B in einem Zustand, in dem ein Spiegel um eine Drehachse OY in eine entgegengesetzte Drehrichtung verkippt ist; und 4A a cross section through the micromirror along the line BB in a state in which a mirror is tilted about an axis of rotation O Y in an opposite direction of rotation; and

4B einen Querschnitt durch den Mikrospiegel längs der Linie C-C in einem Zustand, in dem der Spiegel um eine Drehachse OX in eine normale Drehrichtung verkippt ist. 4B a cross section through the micromirror along the line CC in a state in which the mirror about a rotation axis O X in a normal Direction of rotation is tilted.

Beschreibung eines Ausführungsbeispielsdescription an embodiment

Im Folgenden wird ein Ausführungsbeispiel unter Bezugnahme auf die Figuren beschrieben.in the Below is an embodiment below Referring to the figures described.

1 zeigt eine Draufsicht auf einen Mikrospiegel 100, der ein Ausführungsbeispiel der Erfindung darstellt. 2A zeigt einen Querschnitt durch den Mikrospiegel 100 längs der in 1 dargestellten Linie A-A. 2B zeigt einen Querschnitt des Mikrospiegels 100 längs der in 1 dargestellten Linie B-B. 2C zeigt einen Querschnitt durch den Mikrospiegel 100 längs der in 1 dargestellten Linie C-C. Der Mikrospiegel 100 kann in verschiedenartigen Vorrichtungen wie einem Strichcode-Lesegerät oder einem Laserdrucker verwendet werden. In diesen Vorrichtungen ist der Mikrospiegel 100 auf einem Trägersubstrat angebracht. In den 1 und 2A bis 2C ist jeweils ein kartesisches Koordinatensystem definiert. 1 shows a plan view of a micromirror 100 which represents an embodiment of the invention. 2A shows a cross section through the micromirror 100 along the in 1 represented line AA. 2 B shows a cross section of the micromirror 100 along the in 1 shown line BB. 2C shows a cross section through the micromirror 100 along the in 1 illustrated line CC. The micromirror 100 can be used in various devices such as a bar code reader or a laser printer. In these devices, the micromirror is 100 mounted on a carrier substrate. In the 1 and 2A to 2C In each case a Cartesian coordinate system is defined.

Der Mikrospiegel 100 umfasst einen Spiegel 1, mehrere bewegliche, kammförmige Zähne 2a, 2b, 3a, 3b, 12a, 12b, 13a und 13b, Torsionsstäbe 4a, 4b, 14a und 14b, Rahmenteile 5 und 15 sowie feste, kammförmige Zähne 6a, 6b, 7a, 7b, 16a, 16b, 17a und 17b. In 1 sind Teile der beweglichen und der unbeweglichen Zähne zur Verdeutlichtung schraffiert dargestellt. Diese Schraffur ist jedoch nicht dafür vorgesehen, Eigenschaften wie Größe, Form oder Farbe der mit ihr gekennzeichneten Teile zu definieren.The micromirror 100 includes a mirror 1 , several movable, comb-shaped teeth 2a . 2 B . 3a . 3b . 12a . 12b . 13a and 13b , Torsion bars 4a . 4b . 14a and 14b , Frame parts 5 and 15 as well as solid, comb-shaped teeth 6a . 6b . 7a . 7b . 16a . 16b . 17a and 17b , In 1 Parts of the movable and immovable teeth are shown hatched for clarity. However, this hatching is not intended to define properties such as size, shape or color of the parts marked with it.

Diese strukturellen Komponenten des Mikrospiegels 100 werden in einem Halbleiterfertigungsprozess auf einem Siliziumeinzelsubstrat ausgebildet, das eine dreischichtige Struktur aufweist. In 2A ist diese dreischichtige Struktur der in dem Mikrospiegel 100 vorgesehenen strukturellen Komponenten schematisch dargestellt. Diese strukturellen Komponenten sind zu einer einstückigen Struktur integriert. Dabei ist die dreischichtige Struktur eine Schichtstruktur, die aus einer leitfähigen Schicht, einer isolierenden Schicht und einer weiteren leitfähigen Schicht besteht. Jede dieser Schichten besteht jeweils aus einem Material, das aus einem weiten Materialbereich gewählt werden kann. So besteht beispielsweise die leitfähige Schicht aus leitfähigem Silizium und die isolierende Schicht aus SiO2. Im Folgenden wird die leitfähige Schicht, die auf der Oberseite angeordnet ist, als "obere leitfähige Schicht" und die leitfähige Schicht, die auf der Unterseite angeordnet ist, als "untere leitfähige Schicht" bezeichnet.These structural components of the micromirror 100 are formed in a semiconductor manufacturing process on a silicon single substrate having a three-layered structure. In 2A is this three-layered structure in the micromirror 100 provided structural components shown schematically. These structural components are integrated into a one-piece structure. In this case, the three-layer structure is a layer structure which consists of a conductive layer, an insulating layer and a further conductive layer. Each of these layers is each made of a material that can be selected from a wide range of materials. For example, the conductive layer consists of conductive silicon and the insulating layer of SiO 2 . Hereinafter, the conductive layer disposed on the upper side will be referred to as the "upper conductive layer" and the conductive layer disposed on the lower surface will be referred to as the "lower conductive layer".

Auf die obere Fläche des Spiegels 1 wird ein Metallfilm aufgebracht. Diese Oberfläche, auf die der Metallfilm aufgedampft wird, liegt in der X-Y-Ebene des oben genannten kartesischen Koordinatensystems und wird im Folgenden auch als Reflexionsfläche bezeichnet. Ist der Mikrospiegel 100 an einer der oben genannten Vorrichtungen montiert, so fällt ein Strahl auf die Reflexionsfläche des Spiegels 1, um ein Objekt abzutasten. Der auf die Reflexionsfläche fallende Strahl wird an dieser ohne wesentliche Schwächung in eine vorbestimmte Richtung reflektiert. Diese vorbestimmte Richtung, in der sich der reflektierte Strahl ausbreitet, ändert sich in Abhängigkeit des Kippwinkels des Spiegels 1.On the upper surface of the mirror 1 a metal film is applied. This surface on which the metal film is vapor-deposited lies in the XY plane of the above-mentioned Cartesian coordinate system and is also referred to below as the reflection surface. Is the micromirror 100 mounted on one of the above devices, a beam is incident on the reflecting surface of the mirror 1 to scan an object. The falling on the reflection surface beam is reflected at this without significant weakening in a predetermined direction. This predetermined direction in which the reflected beam propagates changes depending on the tilt angle of the mirror 1 ,

In 1 ist der Spiegel 1 rechteckig dargestellt. Der Spiegel 1 kann jedoch auch eine andere Form haben, z. B. die eines Kreises oder einer Ellipse.In 1 is the mirror 1 shown rectangular. The mirror 1 However, it can also have a different shape, eg. B. that of a circle or an ellipse.

Die beweglichen Zähne 2a, 2b, 3a und 3b stehen von den beiden Seiten des Spiegels 1, die sich in Richtung der Y-Achse erstrecken, nach außen ab. Die beweglichen Zähne 2a und 3a sind auf entgegengesetzten Seiten einer Drehachse OY des Spiegels 1 angeordnet. Auch die beweglichen Zähne 2b und 3b sind auf entgegengesetzten Seiten der Drehachse OY des Spiegels 1 angeordnet. Die Drehachse OY läuft durch den Mittelpunkt des Spiegels 1 und liegt parallel zu den Seiten des Spiegels 1, die sich längs der Y-Achse erstrecken, während sie senkrecht zu den anderen Seiten des Spiegels 1 liegt, die sich längs der X-Achse erstrecken.The moving teeth 2a . 2 B . 3a and 3b stand from the two sides of the mirror 1 , which extend in the direction of the Y-axis, outwards. The moving teeth 2a and 3a are on opposite sides of a rotation axis O Y of the mirror 1 arranged. Also the movable teeth 2 B and 3b are on opposite sides of the axis of rotation O Y of the mirror 1 arranged. The axis of rotation O Y passes through the center of the mirror 1 and lies parallel to the sides of the mirror 1 that extend along the Y-axis while perpendicular to the other sides of the mirror 1 lying along the X-axis.

Die beweglichen Zähne sind in gleichen Abständen voneinander angeordnet und weisen gleiche Form und Größe auf. Dadurch weist der Spiegel 1 während einer normalen Drehung und einer hierzu entgegengesetzten Drehung eine weitgehend gleiche Kippeigenschaft auf. Mit dem Begriff "Kippeigenschaft" ist eine Eigenschaft gemeint, die die Beziehung zwischen dem Kippwinkel des Spiegels 1 und einer an dem Mikrospiegel 100 angelegten Spannung darstellt. Die Kippeigenschaft kann beispielsweise durch eine Gleichung oder eine Graphen dargestellt werden. Sind die Kippeigenschaften des Spiegels 1 in der normalen Drehung und in der entgegengesetzten Drehung gleich, so ist die Kippbewegung des Spiegels 1 während der normalen Drehung symmetrisch zur Kippbewegung während der entgegengesetzten Drehung bezogen auf die in 1 gezeigte Spiegelstellung, bei der keine Spannung an den Spiegel 1 angelegt ist, unter der Voraussetzung, dass in der normalen und der entgegengesetzten Drehung eine Spannung mit konstanter Frequenz und Amplitude an den Spiegel 1 angelegt wird.The movable teeth are arranged at equal intervals from each other and have the same shape and size. This shows the mirror 1 during a normal rotation and a rotation opposite thereto to a substantially same tilting property. By the term "tilting property" is meant a property which is the relationship between the tilt angle of the mirror 1 and one on the micromirror 100 applied voltage represents. The tilting property can be represented, for example, by an equation or a graph. Are the tilting properties of the mirror 1 equal in normal rotation and in opposite rotation, so is the tilting movement of the mirror 1 during the normal rotation symmetrical to the tilting movement during the opposite rotation relative to the in 1 shown mirror position, with no voltage to the mirror 1 is applied, provided that in the normal and the opposite rotation a voltage of constant frequency and amplitude to the mirror 1 is created.

Ist eine Symmetrie zwischen der Kippbewegung des Spiegels 1 in der normalen Drehung und in der entgegengesetzten Drehung nicht erforderlich, so können die kammförmigen Zähne auch so ausgebildet sein, dass sie ungleiche Abstände voneinander und unterschiedliche Größen aufweisen.Is a symmetry between the tilting movement of the mirror 1 Not required in the normal rotation and in the opposite rotation, the comb-shaped teeth may also be formed so that they have unequal distances from each other and different sizes.

Die Torsionsstäbe 4a und 4b sind in Richtung der Y-Achse langgestreckt und stehen von gegenüberliegenden Seiten des rechteckförmigen Spiegels 1 ab. Die Torsionsstäbe 4a und 4b sind jeweils als Rundstab ausgebildet, dessen Mittelachse mit der Drehachse OY zusammenfällt. Sie haben die Eigenschaft, durch eine äußere Kraft vergleichsweise einfach verdreht zu werden. Werden die Torsionsstäbe 4a und 4b verdreht, so kippt der Spiegel 1 in der X-Z-Ebene. Der Kippwinkel des Spiegels 1 variiert abhängig davon, wie stark der jeweilige Torsionsstab 4a, 4b verdreht wird, d. h. wie stark die auf ihn wirkende äußere Kraft ist. Die Torsionsstäbe 4a und 4b sind jeweils mit einem Ende mit dem Rahmenteil 5 verbunden. Dabei sind die Torsionsstäbe 4a und 4b einstückig mit dem Rahmenteil 5 ausgebildet.The torsion bars 4a and 4b are elongated in the direction of the Y axis and project from opposite sides of the rectangular mirror 1 from. The torsion bars 4a and 4b are each formed as a round rod whose central axis coincides with the axis of rotation O Y. They have the property to be relatively easily twisted by an external force. Become the torsion bars 4a and 4b Twisted, the mirror tilts 1 in the XZ plane. The tilt angle of the mirror 1 varies depending on how strong the respective torsion bar 4a . 4b is twisted, ie how strong the external force acting on him is. The torsion bars 4a and 4b are each with one end to the frame part 5 connected. Here are the torsion bars 4a and 4b integral with the frame part 5 educated.

Der Rahmenteil 5 ist so ausgebildet, dass er die Seitenfläche des Spiegels 1 in seiner Gesamtheit umgibt. Der Spiegel 1 und die beweglichen Zähne 2a, 2b, 3a und 3b sind durch die Torsionsstäbe 4a und 4b gegenüber dem Rahmenteil 5 verdrehbar.The frame part 5 is designed so that it is the side surface of the mirror 1 in its entirety surrounds. The mirror 1 and the moving teeth 2a . 2 B . 3a and 3b are through the torsion bars 4a and 4b opposite the frame part 5 rotatable.

Die festen Zähne 6a und 6b stehen von den Seiten des Rahmenteils 5, die sich längs der Y-Achse erstrecken, nach innen ab und haben die gleichen Abstände voneinander wie die benachbarten beweglichen Zähne 2a und 2b. Entsprechend den festen Zähnen 6a und 6b stehen die festen Zähne 7a und 7b von den Seiten des Rahmenteils 5, die sich längs der Y-Achse erstrecken, nach innen ab. Die festen Zähne 7a und 7b sind bezüglich der Drehachse OY entgegengesetzt zu den festen Zähnen 6a und 6b angeordnet. Außerdem sind sie den beweglichen Zähnen 3a bzw. 3b benachbart.The solid teeth 6a and 6b stand from the sides of the frame part 5 which extend along the Y-axis inwardly from and have the same distances from each other as the adjacent movable teeth 2a and 2 B , According to the solid teeth 6a and 6b stand the solid teeth 7a and 7b from the sides of the frame part 5 , which extend along the Y-axis, from inside. The solid teeth 7a and 7b are opposite to the fixed teeth with respect to the axis of rotation O Y 6a and 6b arranged. Besides, they are the moving teeth 3a respectively. 3b adjacent.

Die festen Zähne 6a, 6b, 7a und 7b haben gleiche Form und Größe. In der Draufsicht sind die festen Zähne 6a, 6b, 7a und 7b so angeordnet, dass jeweils ein beweglicher Zahn in der Lücke zwischen benachbarten festen Zähen aufgenommen ist (oder dass ein fester Zahn in der Lücke zwischen benachbarten beweglichen Zähnen aufgenommen ist). Dementsprechend sind die Lücken, die zwischen den festen Zähnen ausgebildet sind, und die Lücken, die zwischen den beweglichen Zähnen ausgebildet sind, gleich. Die Bereiche, in denen die festen Zähne und die ihnen benachbarten beweglichen Zähnen in einer quergeschnittenen Seitenansicht einander überlappen (d. h. die Bereiche, die durch die einander gegenüberliegenden Flächen der festen Zähne und der ihnen benachbarten beweglichen Zähne gebildet sind), sind im Wesentlichen gleich, wenn der Spiegel verkippt wird.The solid teeth 6a . 6b . 7a and 7b have the same shape and size. In plan view are the fixed teeth 6a . 6b . 7a and 7b arranged so that each one movable tooth is received in the gap between adjacent fixed teeth (or that a solid tooth is received in the gap between adjacent movable teeth). Accordingly, the gaps formed between the fixed teeth and the gaps formed between the movable teeth are the same. The areas where the fixed teeth and the adjacent movable teeth overlap each other in a cross-sectional side view (ie, the areas formed by the opposed surfaces of the fixed teeth and the movable teeth adjacent thereto) are substantially the same the mirror is tilted.

Wie oben beschrieben, stehen die festen Zähne 2a, 2b, 3a und 3b von dem Spiegel 1 ab, während die beweglichen Zähne 6a, 6b, 7a und 7b von dem Rahmenteil 5 abstehen. Wird der Spiegel 1 gegenüber dem Rahmenteil 5 verkippt, so bewegen sich die beweglichen Zähne jeweils relativ zu den festen Zähnen.As described above, the fixed teeth stand 2a . 2 B . 3a and 3b from the mirror 1 off while the moving teeth 6a . 6b . 7a and 7b from the frame part 5 protrude. Will the mirror 1 opposite the frame part 5 tilted, so move the movable teeth relative to the fixed teeth.

Die beweglichen Zähne 12a, 12b, 13a und 13b stehen von den Seiten des Rahmenteils 5, die sich in Richtung der X-Achse erstrecken, nach außen ab. Die beweglichen Zähne 12a und 13a befinden sich auf entgegengesetzten Seiten einer Drehachse OX des Spiegels 1. Auch die beweglichen Zähne 12b und 13b sind auf entgegengesetzten Seiten der Drehachse OX des Spiegels 1 angeordnet. Die Drehachse OX verläuft durch den Mittelpunkt des Spiegels 1 und schneidet die Drehachse OY senkrecht. Ähnlich wie die beweglichen Zähne 2a, 2b, 3a und 3b sind auch die gegenseitigen Abstände sowie Form und Größe der beweglichen Zähne 12a, 12b, 13a und 13b so festgelegt, dass die oben beschriebene Symmetrieeigenschaft hinsichtlich der Kippbewegung des Spiegels 1 erzielt wird.The moving teeth 12a . 12b . 13a and 13b stand from the sides of the frame part 5 , which extend in the direction of the X-axis, outwards. The moving teeth 12a and 13a are located on opposite sides of a rotation axis O X of the mirror 1 , Also the movable teeth 12b and 13b are on opposite sides of the axis of rotation O of the mirror X 1 arranged. The axis of rotation O X passes through the center of the mirror 1 and intersects the axis of rotation O Y vertically. Similar to the moving teeth 2a . 2 B . 3a and 3b are the mutual distances as well as the shape and size of the movable teeth 12a . 12b . 13a and 13b set so that the symmetry property described above with respect to the tilting movement of the mirror 1 is achieved.

Die Torsionsstäbe 14a und 14b sind in Richtung der X-Achse langgestreckt und stehen von den gegenüberliegenden Seiten des Spiegels 1 ab, die sich längs der Y-Achse erstrecken. Die Torsionsstäbe 14a und 14b haben jeweils die Form eines Rundstabs, dessen Mittelachse mit der Drehachse OX zusammenfällt. Die Torsionsstäbe 14a und 14b haben die gleichen Eigenschaften wie die Torsionsstäbe 4a und 4b. Dementsprechend werden auch die Torsionsstäbe 14a und 14b durch eine äußere Kraft vergleichsweise leicht verdreht. Werden die Torsionsstäbe 14a und 14b verdreht, so kippt der Spiegel 1 in der Y-Z-Ebene. Die Torsionsstäbe 14a und 14b sind jeweils mit einem Ende mit dem Rahmenteil 15 verbunden. Dabei sind die Torsionsstäbe 14a und 14b einstückig oder integral mit dem Rahmenteil 15 ausgebildet.The torsion bars 14a and 14b are elongated in the direction of the X-axis and are from the opposite sides of the mirror 1 which extend along the Y-axis. The torsion bars 14a and 14b each have the shape of a round rod whose central axis coincides with the axis of rotation O X. The torsion bars 14a and 14b have the same characteristics as the torsion bars 4a and 4b , Accordingly, the torsion bars 14a and 14b relatively easily twisted by an external force. Become the torsion bars 14a and 14b Twisted, the mirror tilts 1 in the YZ-level. The torsion bars 14a and 14b are each with one end to the frame part 15 connected. Here are the torsion bars 14a and 14b integral or integral with the frame part 15 educated.

Der Rahmenteil 15 ist so ausgebildet, dass er die Seitenfläche des Rahmensteils 5 in ihrer Gesamtheit umgibt, und an dem Trägersubstrat gehalten. Der Rahmenteil 15 ist beispielsweise an einem Gehäuse einer Vorrichtung befestigt, an der der Mikrospiegel 100 montiert ist. Durch die Torsionsstäbe 14a und 14b können die von dem Rahmenteil 15 umgebenden strukturellen Komponenten gegenüber dem Rahmenteil 15 verdreht werden.The frame part 15 is designed so that it is the side surface of the frame part 5 surrounds in its entirety, and held on the carrier substrate. The frame part 15 For example, it is attached to a housing of a device to which the micromirror 100 is mounted. Through the torsion bars 14a and 14b Can the from the frame part 15 surrounding structural components relative to the frame part 15 to be twisted.

Die festen Zähne 16a und 16b stehen von den Seiten des Rahmenteils 15, die sich längs der X-Achse erstrecken, nach innen ab und haben die gleichen Abstände voneinander wie die benachbarten beweglichen Zähne 12a und 12b. Ähnlich wie die festen Zähne 16a und 16b stehen die festen Zähne 17a und 17b von den Seiten des Rahmenteils 15, die sich längs der X-Achse erstrecken, nach innen ab. Die festen Zähne 17a und 17b sind bezüglich der Drehachse OX entgegengesetzt zu den festen Zähnen 16a und 16b angeordnet. Außerdem sind sie den beweglichen Zähnen 13a bzw. 13b benachbart.The solid teeth 16a and 16b stand from the sides of the frame part 15 which extend along the X-axis, inwardly from and have the same distances from each other as the adjacent movable teeth 12a and 12b , Similar to the fixed teeth 16a and 16b stand the solid teeth 17a and 17b from the sides of the frame part 15 , which extend along the X-axis, inwardly from. The solid teeth 17a and 17b with respect to the axis of rotation O X opposite to the fixed teeth 16a and 16b arranged. Besides, they are the moving teeth 13a respectively. 13b adjacent.

Die festen Zähne 16a, 16b, 17a und 17b weisen gleiche Form und Größe auf. In der Draufsicht sind die festen Zähne 16a, 16b, 17a und 17b so angeordnet, dass jeweils ein beweglicher Zahn zwischen benachbarten festen Zähnen aufgenommen ist (oder dass jeweils ein fester Zahn zwischen benachbarten beweglichen Zähnen aufgenommen ist). Dementsprechend sind die Lücken zwischen den festen Zähnen und den jeweiligen benachbarten beweglichen Zähnen gleich. Bei Verkippung des Spiegels 1 sind die Bereiche, in denen die festen Zähne und die ihnen benachbarten beweglichen Zähne in einer quergeschnittenen Seitenansicht einander überlappen (d. h. die Bereiche, die durch die einander gegenüberliegenden Flächen der festen Zähnen und der ihnen benachbarten beweglichen Zähne gebildet sind), im Wesentlichen gleich.The solid teeth 16a . 16b . 17a and 17b have the same shape and size. In plan view are the fixed teeth 16a . 16b . 17a and 17b arranged so that in each case a movable tooth is received between adjacent fixed teeth (or that in each case a solid tooth is received between adjacent movable teeth). Accordingly, the gaps between the fixed teeth and the respective adjacent movable teeth are the same. When tilting the mirror 1 For example, the areas where the fixed teeth and the adjacent movable teeth overlap one another in a cross-sectional side view (ie, the areas formed by the opposing surfaces of the fixed teeth and the movable teeth adjacent thereto) are substantially equal.

Entsprechend der oben beschriebenen Ausführung der beweglichen Zähne sind auch die festen Zähne 6a, 6b, 7a, 7b, 16a, 16b, 17a und 17b, was ihre gegenseitigen Abstände, Form und Größe betrifft, so ausgebildet, dass die oben beschriebene Symmetrieeigenschaft im Hinblick auf die Kippbewegung des Spiegels 1 erzielt wird. Ist eine solch symmetrische Bewegung des Spiegels 1 nicht erforderlich, so können die festen Zähne auch ungleich (z. B. im Hinblick auf ihre gegenseitigen Abstände, Form und Größe) ausgebildet sein.According to the above-described embodiment of the movable teeth are also the fixed teeth 6a . 6b . 7a . 7b . 16a . 16b . 17a and 17b in terms of their mutual distances, shape and size, designed so that the above-described symmetry property with respect to the tilting movement of the mirror 1 is achieved. Is such a symmetrical movement of the mirror 1 not required, so the fixed teeth may also be uneven (eg., In terms of their mutual distances, shape and size) may be formed.

Wie in 1 gezeigt, hat der Mikrospiegel 100 Elektrodenkontaktflächen EGND, E1, E2, E3 und E4, die beispielsweise aus Metallfilmen gebildet sind, die auf die obere Fläche des Rahmenteils 15 aufgedampft werden. Diese Elektrodenkontaktflächen sind mit ihnen zugeordneten festen und beweglichen Zähnen elektrisch verbunden. Außerdem sind sie auch mit einer Spannungsversorgungseinheit 150 verbunden, die die benötigte Antriebsspannung liefert. Auch die festen und beweglichen Zähne sind jeweils mit der Spannungsversorgungseinheit 150 verbunden.As in 1 shown has the micromirror 100 Electrode contact surfaces E GND , E 1 , E 2 , E 3 and E 4 , which are formed for example of metal films on the upper surface of the frame part 15 be evaporated. These electrode pads are electrically connected to fixed and movable teeth associated therewith. In addition, they are also with a power supply unit 150 connected, which provides the required drive voltage. Also, the fixed and movable teeth are each with the power supply unit 150 connected.

3A zeigt eine Draufsicht auf die obere leitfähige Schicht des Mikrospiegels 100. 3B zeigt eine Draufsicht auf die untere leitfähige Schicht des Mikrospiegels 100. 3C zeigt einen Querschnitt des Mikrospiegels 100 längs der in den 3A und 3B dargestellten Linie D-D. 3A shows a plan view of the upper conductive layer of the micromirror 100 , 3B shows a plan view of the lower conductive layer of the micromirror 100 , 3C shows a cross section of the micromirror 100 along the in the 3A and 3B represented line DD.

Wie in den 3A und 3C gezeigt, ist in der oberen leitfähigen Schicht eine isolierende Nut 21 ausgebildet, die die obere leitfähige Schicht in mehrere Bereiche unterteilt, die durch die Schicht 21 gegeneinander isoliert sind. Wie in den 3B und 3C gezeigt, ist in der unteren leitfähigen Schicht ein isolierende Nut 31 ausgebildet, die die untere leitfähige Schicht in mehrere Bereiche unterteilt, die durch die Nut 31 gegeneinander isoliert sind. Die isolierenden Nuten 21 und 31 können in einem Halbleiterfertigungsprozess, z. B. Trockenätzen, ausgebildet werden. Wie in den 3A bis 3C gezeigt, befindet sich die obere leitfähige Schicht, die auf die isolierende Schicht aufgebracht ist, in einem Zustand, in dem sie in mehrere Bereiche unterteilt ist, die durch die isolierende Nut 21 körperlich voneinander getrennt sind. Entsprechend befindet sich die untere leitfähige Schicht, die auf die isolierende Schicht aufgebracht ist, in einem Zustand, in dem sie in mehrere Bereiche unterteilt ist, die durch die isolierende Nut 31 körperlich voneinander getrennt sind.As in the 3A and 3C is shown in the upper conductive layer is an insulating groove 21 formed, which divides the upper conductive layer into a plurality of areas through the layer 21 isolated from each other. As in the 3B and 3C is shown in the lower conductive layer is an insulating groove 31 formed, which divides the lower conductive layer into a plurality of areas, which through the groove 31 isolated from each other. The insulating grooves 21 and 31 can be used in a semiconductor manufacturing process, e.g. B. dry etching, are formed. As in the 3A to 3C As shown in FIG. 2, the upper conductive layer applied on the insulating layer is in a state of being divided into a plurality of regions passing through the insulating groove 21 physically separated from each other. Accordingly, the lower conductive layer applied to the insulating layer is in a state of being divided into a plurality of regions passing through the insulating groove 31 physically separated from each other.

Wie in 3A bis 3C gezeigt, ist in der oberen leitfähigen Schicht eine leitfähige Nut 22 ausgebildet, die einen Bereich in der oberen leitfähigen Schicht mit einem Bereich in der unteren leitfähigen Schicht elektrisch verbindet. In der unteren leitfähigen Schicht, die auf die isolierende Schicht aufgebracht ist, sind leitfähigen Nuten 32 ausgebildet, die einen Bereich in der unteren leitfähigen Schicht mit einem Bereich in der oberen leitfähigen Schicht elektrisch verbinden. Die leitfähigen Nuten 22 und 32 können beispielsweise ausgebildet werden, indem ein Metallfilm auf die Innenfläche einer jeweiligen Nut aufgedampft wird, die durch Trockenätzen hergestellt worden ist. Somit sind Teile der genannten Bereiche der oberen leitfähigen Schicht durch die leitfähige Nut 22 oder 32 mit den entsprechenden Bereichen der unteren leitfähigen Schicht elektrisch verbunden, während die übrigen Teile dieser Bereiche in der oberen leitfähigen Schicht durch die isolierende Schicht gegenüber der unteren leitfähigen Schicht isoliert sind.As in 3A to 3C is shown in the upper conductive layer is a conductive groove 22 formed electrically connecting a portion in the upper conductive layer with a portion in the lower conductive layer. In the lower conductive layer deposited on the insulating layer are conductive grooves 32 formed electrically connecting a portion in the lower conductive layer with a portion in the upper conductive layer. The conductive grooves 22 and 32 For example, it may be formed by evaporating a metal film on the inner surface of a respective groove prepared by dry etching. Thus, portions of said areas of the upper conductive layer are through the conductive groove 22 or 32 electrically connected to the respective regions of the lower conductive layer, while the remaining parts of these regions in the upper conductive layer are insulated from the lower conductive layer by the insulating layer.

Durch den in den 3A und 3C gezeigten, oben beschriebenen Aufbau sind die beweglichen und die festen Zähne jeweils in einer Eins-zu-Eins-Relation mit den Elektrodenanschlussflächen verbunden, so dass sie auf vorbestimmten Spannungen gehalten werden können. Dabei sind die beweglichen Zähne 2a, 2b, 3a, 3b, 12a, 12b, 13a und 13b mit der Elektrodenanschlussfläche EGND, die festen Zähne 6a und 7a mit der Elektrodenanschlussfläche E1, die festen Zähne 6b und 7b mit der Elektrodenanschlussfläche E2, die festen Zähne 16a und 17a mit der Elektrodenanschlussfläche E3 und die festen Zähne 16b und 17b mit der Elektrodenanschlussfläche E4 verbunden.By in the 3A and 3C As shown, as described above, the movable and fixed teeth are each connected in a one-to-one relation with the electrode pads so that they can be maintained at predetermined voltages. Here are the moving teeth 2a . 2 B . 3a . 3b . 12a . 12b . 13a and 13b with the electrode pad E GND , the fixed teeth 6a and 7a with the electrode pad E 1 , the fixed teeth 6b and 7b with the electrode pad E 2 , the fixed teeth 16a and 17a with the electrode pad E 3 and the fixed teeth 16b and 17b connected to the electrode pad E 4 .

Dies bedeutet, dass in dem Mikrospiegel 100 die festen Zähne oder die beweglichen Zähne, die entgegengesetzt zueinander angeordnet sind, mit der Elektrodenkontaktfläche EGND verbunden sind. Durch diese Struktur kann die Zahl an Signalleitungen, die über die Torsionsstäbe 14a und 14b von den inneren Komponenten zu dem Rahmenteil 15 (oder die Spannungsversorgungseinheit) herauszuführen sind, auf einen kleinstmöglichen Wert verringert werden. In diesem Ausführungsbeispiel ist die Zahl an Signalleitungen, die über die Torsionsstäbe 14a und 14b von den inneren Komponenten zu dem Rahmenteil 15 zu führen sind, auf drei begrenzt, nämlich eine Signalleitung, die von der Elektrodenanschlussfläche EGND zu den beweglichen Zähnen führt, sowie Hochfrequenzsignalleitungen zwischen der Elektrodenanschlussfläche E1 und den zugehörigen festen Zähnen und zwischen der Elektrodenanschlussfläche E2 und den zugehörigen festen Zähnen.This means that in the micromirror 100 the fixed teeth or the movable teeth disposed opposite to each other are connected to the electrode pad E GND . Through this structure, the number of signal lines passing through the torsion bars 14a and 14b from the inner components to the frame part 15 (or the power supply unit) are to be reduced to a minimum possible value. In this embodiment, the number of signal lines passing through the torsion bars 14a and 14b from the inner components to the frame part 15 must be kept limited to three, namely, a signal line, which leads from the electrode pad E GND to the movable teeth, as well as high-frequency signal lines between the electrode pad E 1 and the corresponding fixed teeth and between the electrode pad E 2 and the associated fixed teeth.

Die oben beschriebene Schichtstruktur, in der die isolierende Schicht zwischen den beiden leitfähigen Schichten liegt, ermöglicht es, die drei Signalleitungen über die Torsionsstangen 14a und 14b aus der inneren Struktur zu dem Rahmenteil 15 zu führen. Indem die Torsionsstäbe 14a und 14b jeweils so ausgebildet sind, dass sie zwei leitfähige Schichten aufweisen, die durch die dritte Schicht voneinander isoliert sind, können über einen einzigen Torsionsstab zwei Signalleitungen verlegt werden. Selbst wenn die Zahl an Signalleitungen (in diesem Ausführungsbeispiel drei), die aus dem Inneren zu dem Rahmenteil 15 zu führen sind, größer ist als die Zahl an Torsionsstäben (14a und 14b), können sämtliche Signalleitungen zu dem Rahmenteil 15 geführt werden. In diesem Ausführungsbeispiel können mit Hilfe der oberen leitfähigen Schicht und der unteren leitfähigen Schicht jedes Torsionsstabs 14a und 14b insgesamt vier Signalleitungen von den inneren Komponenten über die Torsionsstäbe 14a und 14b zu dem Rahmenteil 15 geführt werden.The layer structure described above, in which the insulating layer lies between the two conductive layers, makes it possible to connect the three signal lines via the torsion bars 14a and 14b from the inner structure to the frame part 15 respectively. By the torsion bars 14a and 14b are each formed so that they have two conductive layers, which are isolated from each other by the third layer, two signal lines can be laid over a single Torsionsstab. Even if the number of signal lines (three in this embodiment), from the inside to the frame part 15 larger than the number of torsion bars ( 14a and 14b ), all signal lines to the frame part 15 be guided. In this embodiment, by means of the upper conductive layer and the lower conductive layer of each torsion bar 14a and 14b a total of four signal lines from the inner components via the torsion bars 14a and 14b to the frame part 15 be guided.

Bei dem Mikrospiegel 100 mit der oben beschriebenen Schichtstruktur kann eine Zahl an Signalleitungen, die gleich dem Doppelten der Zahl der äußersten Torsionsstäbe ist (in diesem Ausführungsbeispiel die Torsions stäbe 14a und 14b), über diese äußersten Torsionsstäbe von den inneren Komponenten zu der Spannungsversorgungseinheit 150 geführt werden. So kann ein Mikrospiegel bereitgestellt werden, der eine Abtastung über mehrere Achsen vornehmen kann, ohne ein Leitungsmuster an dem Torsionsstab ausbilden zu müssen. Die Anwendung einer Technik zur hochgenauen Musterbildung ist demnach nicht erforderlich. Dadurch kann die Ausbeute in der Herstellung der Mikrospiegel erhöht werden. Dies wiederum erhöht die Herstellungseffizienz und führt zu einer Verringerung der Herstellungskosten.In the micromirror 100 With the above-described laminated structure, a number of signal lines equal to twice the number of outermost torsion bars (in this embodiment, the torsion bars 14a and 14b ), over these outermost torsion bars from the inner components to the power supply unit 150 be guided. Thus, a micromirror may be provided which can scan across multiple axes without having to form a line pattern on the torsion bar. The application of a technique for highly accurate patterning is therefore not required. As a result, the yield in the production of micromirrors can be increased. This in turn increases manufacturing efficiency and leads to a reduction in manufacturing costs.

Da der Basis- oder Trägerteil des Mikrospiegels 100 auch dazu dient, die inneren Komponenten des Mikrospiegels 100 über die Spannungsversorgungseinheit mit Antriebsspannungen zu versorgen, kann jede Signalleitung breit und großflächig ausgebildet werden. Es ist darauf hinzuweisen, dass die obere leitfähige Schicht, die untere leitfähige Schicht sowie die leitfähigen Nuten 22 und 32 jeweils eine Signalleitung bilden. Dementsprechend ist es nicht erforderlich, an dem jeweiligen Torsionsstab ein Leitungsmuster auszubilden, da der Torsionsstab, dessen Breite und Querschnitt die Breite und den Querschnitt des Leitungsmusters übersteigen, als Signalleitung dient. Die Ausgestaltung des Mikrospiegels 100 gemäß Ausführungsbeispiel macht also die Ausbildung einer elektronischen Komponente, d. h. eines Leitungsmusters, geringer Stärker an einem verformbaren Teil, nämlich einem Torsionsstab, überflüssig. So kann die Haltbarkeit des Mikrospiegels 100 verbessert werden. Da außerdem der entsprechende Signalkanal einen größeren Querschnitt aufweist, wird ein geringerer Energieverbrauch erzielt.As the base or support part of the micromirror 100 it also serves the internal components of the micromirror 100 Supplying drive voltages via the voltage supply unit makes it possible to design each signal line wide and over a large area. It should be noted that the upper conductive layer, the lower conductive layer and the conductive grooves 22 and 32 each form a signal line. Accordingly, it is not necessary to form a wiring pattern on the respective torsion bar since the torsion bar whose width and cross section exceed the width and cross section of the wiring pattern serves as a signal line. The design of the micromirror 100 Thus, according to the embodiment, the formation of an electronic component, ie a line pattern, of lower strength on a deformable part, namely a torsion bar, makes superfluous. So can the durability of the micromirror 100 be improved. In addition, since the corresponding signal channel has a larger cross-section, a lower power consumption is achieved.

Im Folgenden wird beschrieben, wie beweglichen Zähne und die festen Zähne zueinander angeordnet sind. Nur um diese Relativanordnung zu verdeutlichen, ist in 1 der Mikrospiegel 100 in Bereich R1, R2, R3, R4, R'1, R'2, R'3 und R'4 unterteilt. In den Bereichen R1 und R'1 sind die beweglichen Zähne 2a und die festen Zähne 6a bzw. die beweglichen Zähne 3a und die festen Zähne 7a einander benachbart.The following describes how movable teeth and the fixed teeth are arranged to each other. Only to illustrate this relative arrangement is in 1 the micromirror 100 in the range R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R ' 1 , R' 2 , R ' 3 and R' 4 divided. In the areas R 1 and R ' 1 are the movable teeth 2a and the solid teeth 6a or the movable teeth 3a and the solid teeth 7a adjacent to each other.

Wie in 2B gezeigt, sind die beweglichen Zähne 2a und die festen Zähne 7a jeweils an der unteren leitfähigen Schicht ausgebildet, während die beweglichen Zähne 3a und die festen Zähne 6a an der oberen leitfähigen Schicht ausgebildet sind. Dies bedeutet, dass in 2B die beweglichen Zähne an einem Ende des Spiegels 1 unterhalb der festen Zähne angeordnet sind, während die beweglichen Zähne an dem anderen Ende des Spiegels 1 oberhalb der festen Zähne angeordnet sind. Dabei sind die beweglichen Zähne 2a unterhalb der festen Zähne 6a angeordnet, während die beweglichen Zähne 3a oberhalb der festen Zähne 7a angeordnet sind.As in 2 B shown are the moving teeth 2a and the solid teeth 7a each formed on the lower conductive layer while the movable teeth 3a and the solid teeth 6a are formed on the upper conductive layer. This means that in 2 B the movable teeth at one end of the mirror 1 are arranged below the fixed teeth, while the movable teeth at the other end of the mirror 1 are arranged above the fixed teeth. Here are the moving teeth 2a below the solid teeth 6a arranged while the moving teeth 3a above the fixed teeth 7a are arranged.

In den Bereichen R2 und R'2 sind die beweglichen Zähne 2b und die festen Zähne 6b bzw. die beweglichen Zähne 3b und die festen Zähne 7b einander benachbart. Wie in 2C gezeigt, sind die beweglichen Zähne 2b und die festen Zähne 7b an der oberen leitfähigen Schicht ausgebildet, während die beweglichen Zähne 3b und die festen Zähne 6b jeweils an der unteren leitfähigen Schicht ausgebildet sind. Deshalb sind in 2C die beweglichen Zähne an einem Ende des Spiegels 1 oberhalb der festen Zähne und an dem anderen Ende des Spiegels 1 unterhalb der festen Zähne angeordnet. Dabei befinden sich die beweglichen Zähne 2b oberhalb der festen Zähne 6b, während die beweglichen Zähne 3b unterhalb der festen Zähne 7b angeordnet sind.In the areas R 2 and R ' 2 are the movable teeth 2 B and the solid teeth 6b or the movable teeth 3b and the solid teeth 7b adjacent to each other. As in 2C shown are the moving teeth 2 B and the solid teeth 7b formed on the upper conductive layer while the movable teeth 3b and the solid teeth 6b are each formed on the lower conductive layer. That's why in 2C the movable teeth at one end of the mirror 1 above the fixed teeth and at the other end of the mirror 1 arranged below the fixed teeth. Here are the movable teeth 2 B above the fixed teeth 6b while the moving teeth 3b below the solid teeth 7b are arranged.

In den Bereichen R3 und R'3 sind die beweglichen Zähne 12a und die festen Zähne 16a bzw. die beweglichen Zähne 13a und die festen Zähne 17a einander benachbart. Die beweglichen Zähne 12a und die festen Zähne 17a sind jeweils an der unteren leitfähigen Schicht ausgebildet, während die beweglichen Zähne 13a und die festen Zähne 16a an der oberen leitfähigen Schicht ausgebildet sind. In jedem der Bereiche R3 und R'3 sind demnach die beweglichen Zähne an einem Ende des Spiegels 1 unterhalb und an dem anderen Ende des Spiegels 1 oberhalb der festen Zähne ausgebildet. Dabei sind die beweglichen Zähne 12a unterhalb der festen Zähne 16a ausgebildet, während die festen Zähne 13a oberhalb der festen Zähne 17a ausgebildet sind.In the areas R 3 and R ' 3 are the movable teeth 12a and the solid teeth 16a or the movable teeth 13a and the solid teeth 17a adjacent to each other. The moving teeth 12a and the solid teeth 17a are respectively formed on the lower conductive layer while the movable teeth 13a and the solid teeth 16a are formed on the upper conductive layer. In each of the areas R 3 and R ' 3 are therefore the bewegli teeth at one end of the mirror 1 below and at the other end of the mirror 1 formed above the fixed teeth. Here are the moving teeth 12a below the solid teeth 16a trained while the fixed teeth 13a above the fixed teeth 17a are formed.

In den Bereichen R4 und R'4 sind die beweglichen Zähne 12b und die festen Zähne 16b bzw. die beweglichen Zähne 13b und die festen Zähne 17b einander benachbart. Die beweglichen Zähne 12b und die festen Zähne 17b sind jeweils an der unteren leitfähigen Fläche ausgebildet, während die beweglichen Zähne 13b und die festen Zähne 16b jeweils an der oberen leitfähigen Schicht ausgebildet sind. In jedem der Bereiche R4 und R'4 sind die beweglichen Zähne an einem Ende des Spiegels 1 unterhalb und an dem anderen Ende des Spiegels 1 oberhalb der festen Zähne angeordnet. Dabei sind die beweglichen Zähne 12b unterhalb der festen Zähne 16b angeordnet, während die beweglichen Zähne 13b oberhalb der festen Zähne 17b angeordnet sind.In the areas R 4 and R ' 4 are the movable teeth 12b and the solid teeth 16b or the movable teeth 13b and the solid teeth 17b adjacent to each other. The moving teeth 12b and the solid teeth 17b are respectively formed on the lower conductive surface while the movable teeth 13b and the solid teeth 16b are each formed on the upper conductive layer. In each of the areas R 4 and R ' 4 , the movable teeth are at one end of the mirror 1 below and at the other end of the mirror 1 arranged above the fixed teeth. Here are the moving teeth 12b below the solid teeth 16b arranged while the moving teeth 13b above the fixed teeth 17b are arranged.

Wie oben beschrieben, befinden sich in dem Mikrospiegel 100 die beweglichen Zähne 2b, 3a, 12b und 13a sowie die festen Zähne 6a, 7b, 16a und 17b (alle ohne Schraffur) auf gleicher Höhe. Ferner befinden sich die beweglichen Zähne 2a, 3b, 12a und 13b und die festen Zähne 6, 7a, 16b und 17a (alle mit Schraffur) auf gleicher Höhe. Durch diesen Aufbau befinden sich der Spiegel 1 und die Rahmenteile 5 und 15 auf gleicher Höhe, so dass die Dicke des Mikrospiegels 100 verringert werden kann.As described above, are in the micromirror 100 the moving teeth 2 B . 3a . 12b and 13a as well as the fixed teeth 6a . 7b . 16a and 17b (all without hatching) at the same height. Furthermore, there are the movable teeth 2a . 3b . 12a and 13b and the solid teeth 6 . 7a . 16b and 17a (all with hatching) at the same height. Through this structure are the mirror 1 and the frame parts 5 and 15 at the same height, so that the thickness of the micromirror 100 can be reduced.

Der Spiegel 1 und die Rahmenteile 5 und 15 sind auf einem Siliziumsubstrat konstanter Dicke ausgebildet. Indem die beweglichen und die festen Zähne in oben beschriebener Weise ausgebildet werden, kann die Dicke des gesamten Mikrospiegels 100 im Wesentlichen der Dicke des Spiegels 1 angeglichen werden.The mirror 1 and the frame parts 5 and 15 are formed on a silicon substrate of constant thickness. By forming the movable and fixed teeth in the manner described above, the thickness of the entire micromirror may be increased 100 essentially the thickness of the mirror 1 be aligned.

Im Folgenden wird die Funktionsweise des Mikrospiegels 100 beschrieben. 4A zeigt einen Querschnitt des Mikrospiegels 100 längs der Linie B-B in einem Zustand, in dem der Spiegel 1 um die Drehachse OY in entgegengesetzter Drehrichtung verkippt ist. 4B zeigt einen Querschnitt des Mikrospiegels 100 längs der Linie C-C in einem Zustand, in dem der Spiegel 1 um die Drehachse OX in normaler Drehrichtung verkippt ist. Der Mikrospiegel 100 ist elektrisch mit der Spannungsversorgungseinheit 150 verbunden und bildet mit dieser einen Schaltkreis.The following is the operation of the micromirror 100 described. 4A shows a cross section of the micromirror 100 along the line BB in a state where the mirror 1 about the rotational axis O Y is tilted in the opposite direction of rotation. 4B shows a cross section of the micromirror 100 along the line CC in a state where the mirror 1 is tilted about the rotation axis O X in the normal direction of rotation. The micromirror 100 is electrically connected to the power supply unit 150 connected and forms with this a circuit.

Um den Spiegel 1 in entgegengesetzter Drehrichtung um die Drehachse OY zu verkippen, wie in 4A gezeigt ist, legt die Spannungsversorgungseinheit 150 eine vorbestimmte Antriebsspannung zwischen den beweglichen Zähnen 2a und den festen Zähnen 6a an. Die gleiche Spannung legt die Spannungsversorgungseinheit 150 zwischen den beweglichen Zähnen 3a und den festen Zähnen 7a an. Die beweglichen Zähne 2a und 3a sind an die Elektrodenanschlussfläche EGND angeschlossen und so auf Erdpotential gehalten. Dagegen sind die festen Zähne 6a und 7a an die Elektrodenanschlussfläche E1 angeschlossen und so auf einer Spannung V1 gehalten.To the mirror 1 to tilt in the opposite direction of rotation about the axis of rotation O Y , as in 4A is shown, sets the power supply unit 150 a predetermined drive voltage between the movable teeth 2a and the solid teeth 6a at. The same voltage is supplied by the power supply unit 150 between the moving teeth 3a and the solid teeth 7a at. The moving teeth 2a and 3a are connected to the electrode pad E GND and held at ground potential. In contrast, the fixed teeth 6a and 7a connected to the electrode pad E 1 and held at a voltage V 1 .

Demzufolge wirkt eine elektrostatische Anziehung zwischen den beweglichen Zähnen 2a und den festen Zähnen 6a. Auch wirkt eine elektrostati sche Anziehung zwischen den beweglichen Zähnen 3a und den festen Zähnen 7a. Durch die elektrostatische Anziehung werden die beweglichen Zähne 2a nach oben in Richtung der festen Zähne 6a gezogen, während die beweglichen Zähne 3a nach unten in Richtung der festen Zähne 7a gezogen werden. So wirkt auf den Spiegel 1 auf der Seite der beweglichen Zähne 2a eine Kraft, die den Spiegel 1 nach oben bewegt, während auf der Seite der beweglichen Zähne 3a auf den Spiegel 1 eine Kraft wirkt, die diesen nach unten bewegt.As a result, an electrostatic attraction acts between the movable teeth 2a and the solid teeth 6a , There is also an electrostatic attraction between the moving teeth 3a and the solid teeth 7a , By electrostatic attraction, the moving teeth 2a upwards towards the fixed teeth 6a pulled while the moving teeth 3a down towards the solid teeth 7a to be pulled. So acts on the mirror 1 on the side of the movable teeth 2a a force, the mirror 1 moved up while on the side of the movable teeth 3a on the mirror 1 a force acts that moves it down.

Wie oben beschrieben, ist der Spiegel 1 durch die Torsionsstäbe 4a und 4b schwenkbar gelagert. Wird der Spiegel 1 durch die elektrostatische Anziehung verkippt, so werden die Torsionsstäbe 4a und 4b verdreht. Durch dieses Verdrehen der Torsionsstäbe 4a und 4b resultiert die Kippbewegung des Spiegels 1 in dessen Drehbewegung. Der Spiegel 1 kippt also in der X-Z-Ebene in entgegengesetzter Drehrichtung um die Drehachse OY.As described above, the mirror is 1 through the torsion bars 4a and 4b pivoted. Will the mirror 1 tilted by the electrostatic attraction, so are the torsion bars 4a and 4b twisted. By twisting the torsion bars 4a and 4b results in the tilting movement of the mirror 1 in its rotary motion. The mirror 1 So tilts in the XZ plane in the opposite direction of rotation about the axis of rotation O Y.

Um den Spiegel 1 in die normale Drehrichtung um die Drehachse OY zu verkippen, wie in 4B gezeigt ist, legt die Spannungsversorgungseinheit 150 zwischen den beweglichen Zähnen 2b und den festen Zähnen 6b eine vorbestimmte Antriebsspannung an. Die gleiche Spannung legt die Spannungsversorgungseinheit 150 auch zwischen den beweglichen Zähnen 3b und den festen Zähnen 7b an. Die beweglichen Zähne 2b und 3b sind an die Elektrodenanschlussfläche EGND angeschlossen und so auf Erdpotential gehalten. Dagegen sind die festen Zähne 6b und 7b an die Elektrodenanschlussfläche E2 angeschlossen und so auf einer Spannung V2 gehalten.To the mirror 1 in the normal direction of rotation about the axis of rotation O Y to tilt, as in 4B is shown, sets the power supply unit 150 between the moving teeth 2 B and the solid teeth 6b a predetermined drive voltage. The same voltage is supplied by the power supply unit 150 also between the moving teeth 3b and the solid teeth 7b at. The moving teeth 2 B and 3b are connected to the electrode pad E GND and held at ground potential. In contrast, the fixed teeth 6b and 7b connected to the electrode pad E 2 and held at a voltage V 2 .

Demzufolge wirkt eine elektrostatische Anziehung zwischen den beweglichen Zähnen 2b und den festen Zähnen 6b sowie eine elektrostatische Anziehung zwischen den beweglichen Zähnen 3b und den festen Zähnen 7b. Durch diese elektrostatische Anziehung werden die beweglichen Zähnen 2b nach unten in Richtung der festen Zähne 6b gezogen, während die beweglichen Zähne 3b nach oben in Richtung der festen Zähne 7b gezogen werden. Demnach wirkt auf den Spiegel 1 auf der Seite der beweglichen Zähne 2b eine Kraft, die den Spiegel 1 nach unten bewegt, während auf der Seite der beweglichen Zähne 3b auf den Spiegel 1 eine Kraft wirkt, die diesen nach oben bewegt.As a result, an electrostatic attraction acts between the movable teeth 2 B and the solid teeth 6b and an electrostatic attraction between the moving teeth 3b and the solid teeth 7b , This electrostatic attraction makes the moving teeth 2 B down towards the solid teeth 6b pulled while the moving teeth 3b upwards towards the fixed teeth 7b to be pulled. Accordingly, it acts on the mirror 1 on the side of movable teeth 2 B a force, the mirror 1 moved down while on the side of the movable teeth 3b on the mirror 1 a force acts that moves it upwards.

Da der Spiegel 1 durch die Torsionsstäbe 4a und 4b schwenkbar gelagert ist, resultiert die Kippbewegung des Spiegels 1, die durch die elektrostatische Anziehung verursacht wird, in einer Drehbewegung des Spiegels 1. Dies bedeutet, dass der Spiegel 1 um die Drehachse OY in der X-Z-Ebene in die normale Drehrichtung kippt.Because the mirror 1 through the torsion bars 4a and 4b is pivotally mounted, resulting in the tilting movement of the mirror 1 , which is caused by the electrostatic attraction, in a rotational movement of the mirror 1 , This means that the mirror 1 about the rotational axis O Y in the XZ plane tilts in the normal direction of rotation.

Um den Spiegel 1 in die normale Drehrichtung um die Drehachse OX zu verkippen, legt die Spannungsversorgungseinheit 150 zwischen die beweglichen Zähne 12a und die festen Zähne 16a eine vorbestimmte Antriebsspannung an. Die gleiche Spannung legt die Spannungsversorgungseinheit 150 auch zwischen den beweglichen Zähnen 13a und den festen Zähnen 17a an. Die beweglichen Zähne 12a und 13a sind an die Elektrodenanschlussfläche EGND angeschlossen und so auf Erdpotential gehalten. Dagegen sind die festen Zähne 16a und 17a an die Elektrodenanschlussfläche E3 angeschlossen und so auf einer Spannung V3 gehalten.To the mirror 1 in the normal direction of rotation about the axis of rotation O X tilt, sets the power supply unit 150 between the moving teeth 12a and the solid teeth 16a a predetermined drive voltage. The same voltage is supplied by the power supply unit 150 also between the moving teeth 13a and the solid teeth 17a at. The moving teeth 12a and 13a are connected to the electrode pad E GND and held at ground potential. In contrast, the fixed teeth 16a and 17a connected to the electrode pad E 3 and held at a voltage V 3 .

Demzufolge wirkt eine elektrostatische Anziehung zwischen den beweglichen Zähnen 12a und den festen Zähnen 16a sowie eine elektrostatische Anziehung zwischen den beweglichen Zähnen 13a und den festen Zähnen 17a. Durch diese elektrostatische Anziehung werden die beweglichen Zähne 12a nach oben in Richtung der festen Zähne 16a gezogen, während die beweglichen Zähne 13a nach unten in Richtung der festen Zähne 17a gezogen werden. Dies bedeutet, dass auf der Seite der beweglichen Zähne 12a eine Kraft auf den Spiegel 1 wirkt, die diesen nach oben bewegt, während auf der Seite der beweglichen Zähne 13a eine Kraft auf den Spiegel 1 wirkt, die diesen nach unten bewegt.As a result, an electrostatic attraction acts between the movable teeth 12a and the solid teeth 16a and an electrostatic attraction between the moving teeth 13a and the solid teeth 17a , This electrostatic attraction makes the moving teeth 12a upwards towards the fixed teeth 16a pulled while the moving teeth 13a down towards the solid teeth 17a to be pulled. This means that on the side of the movable teeth 12a a power on the mirror 1 acts, which moves it up while on the side of the movable teeth 13a a power on the mirror 1 acts, which moves this down.

Da der Rahmenteil 5 und damit der Spiegel 1 durch die Torsionsstäbe 14a und 14b schwenkbar gelagert ist, resultiert die durch die elektrostatische Anziehung verursachte Kippbewegung des Spiegels 1 in einer Drehbewegung des Spiegels 1. Dies bedeutet, dass der Spiegel 1 in der Y-Z-Ebene um die Drehachse OX in die normale Drehrichtung kippt.As the frame part 5 and thus the mirror 1 through the torsion bars 14a and 14b pivoted, resulting from the electrostatic attraction caused tilting movement of the mirror 1 in a rotational movement of the mirror 1 , This means that the mirror 1 in the YZ plane about the rotation axis O X tilts in the normal direction of rotation.

Um den Spiegel 1 in die entgegengesetzte Drehrichtung um die Drehachse OX zu verkippen, legt die Spannungsversorgungseinheit 150 zwischen den beweglichen Zähnen 12b und den festen Zähnen 16b eine vorbestimmte Spannung an. Die gleiche Spannung legt die Spannungsversorgungseinheit 150 zwischen den beweglichen Zähnen 13b und den festen Zähnen 17b an. Die beweglichen Zähne 12b und 13b sind an die Elektrodenanschlussfläche EGND angeschlossen und so auf Erdpotential gehalten, während die festen Zähne 16b und 17b an die Elektrodenanschlussfläche E4 angeschlossen und so auf einer Spannung V4 gehalten sind.To the mirror 1 in the opposite direction of rotation about the axis of rotation O X to tilt, sets the power supply unit 150 between the moving teeth 12b and the solid teeth 16b a predetermined voltage. The same voltage is supplied by the power supply unit 150 between the moving teeth 13b and the solid teeth 17b at. The moving teeth 12b and 13b are connected to the electrode pad E GND and thus held at ground potential while the fixed teeth 16b and 17b are connected to the electrode pad E 4 and are held at a voltage V 4 .

Demzufolge wirkt zwischen den beweglichen, kammförmigen Zähnen 12b und den festen, kammförmigen Zähnen 16b eine elektrostatische Anziehung. Ferner wirkt zwischen den beweglichen, kammförmigen Zähnen 13b und den festen, kammförmigen Zähnen 17b eine elektrostatische Anziehung. Durch diese elektrostatische Anziehung werden die beweglichen Zähne 12b nach unten in Richtung der festen Zähne 16b und die beweglichen Zähne 13b nach oben in Richtung der festen Zähne 17b gezogen. Dies bedeutet, dass auf der Seite der beweglichen Zähne 12b eine Kraft auf den Spiegel 1 wirkt, die diesen nach unten bewegt, während auf der Seite der beweglichen Zähne 13b eine Kraft auf den Spiegel 1 wirkt, die diesen nach oben bewegt.As a result, it acts between the movable, comb-shaped teeth 12b and the solid, comb-shaped teeth 16b an electrostatic attraction. It also acts between the movable, comb-shaped teeth 13b and the solid, comb-shaped teeth 17b an electrostatic attraction. This electrostatic attraction makes the moving teeth 12b down towards the solid teeth 16b and the moving teeth 13b upwards towards the fixed teeth 17b drawn. This means that on the side of the movable teeth 12b a power on the mirror 1 acts, which moves it down while on the side of the movable teeth 13b a power on the mirror 1 acts, which moves it upwards.

Da der Rahmenteil 5 und damit der Spiegel 1 durch die Torsionsstäbe 14a und 14b schwenkbar gelagert ist, resultierte die durch die elektrostatische Anziehung verursachte Kippbewegung des Spiegels 1 in einer Drehbewegung des Spiegels 1. Dies bedeutet, dass der Spiegel 1 in der Y-Z-Ebene um die Drehachse OX in die entgegengesetzte Drehrichtung kippt.As the frame part 5 and thus the mirror 1 through the torsion bars 14a and 14b is mounted pivotally, resulting from the electrostatic attraction caused tilting movement of the mirror 1 in a rotational movement of the mirror 1 , This means that the mirror 1 in the YZ plane about the rotational axis O X tilts in the opposite direction of rotation.

In dem in 4A gezeigten Beispiel tragen sowohl die elektrostatische Anziehung, die den Spiegel 1 auf der Seite der kammförmigen Zähne 2a nach oben bewegt, als auch die elektrostatische Anziehung, die den Spiegel 1 auf der Seite der kammförmigen Zähne 3a nach unten bewegt, zur Drehbewegung des Spiegels 1 in der X-Z-Ebene in entgegengesetzter Drehrichtung bei. Bei dem in 4B gezeigten Beispiel, tragen sowohl die elektrostatische Anziehung, die den Spiegel 1 auf der Seite der kammförmigen Zähne 2b nach unten bewegt, als auch die elektrostatische Anziehung, die den Spiegel 1 auf der Seite der kammförmigen Zähne 3b nach oben bewegt, zur Drehbewegung des Spiegels 1 in der X-Z-Ebene in normaler Drehrichtung bei.In the in 4A shown example, carry both the electrostatic attraction, the mirror 1 on the side of the comb-shaped teeth 2a moved upwards, as well as the electrostatic attraction, the mirror 1 on the side of the comb-shaped teeth 3a moved down, to the rotational movement of the mirror 1 in the XZ plane in the opposite direction of rotation. At the in 4B shown example, carry both the electrostatic attraction, the mirror 1 on the side of the comb-shaped teeth 2 B moved down, as well as the electrostatic attraction, the mirror 1 on the side of the comb-shaped teeth 3b moved upward, to the rotational movement of the mirror 1 in the XZ plane in the normal direction of rotation.

In den Bereichen R3 und R'3 tragen sowohl die elektrostatische Anziehung, die den Spiegel 1 auf der Seite der kammförmigen Zähne 12a nach oben bewegt, als auch die elektrostatische Anziehung, die den Spiegel 1 auf der Seite der kammförmigen Zähne 13a nach unten bewegt, zur Drehung des Spiegels 1 in der Y-Z-Ebene in normaler Drehrichtung bei. In den Bereichen R4 und R'4 tragen sowohl die elektrostatische Anziehung, die den Spiegel 1 auf der Seite der kammförmigen Zähne 12b nach unten bewegt, als auch die elektrostatische Anziehung, die den Spiegel 1 auf der Seite der kammförmigen Zähne 13b nach oben bewegt, zur Drehung des Spiegels 1 in der Y-Z-Ebene in entgegengesetzter Drehrichtung bei.In the areas R 3 and R ' 3 carry both the electrostatic attraction, the mirror 1 on the side of the comb-shaped teeth 12a moved upwards, as well as the electrostatic attraction, the mirror 1 on the side of the comb-shaped teeth 13a moved down, to turn the mirror 1 in the YZ plane in the normal direction of rotation. In the areas R 4 and R ' 4 carry both the electrostatic attraction, the mirror 1 on the side of the comb-shaped teeth 12b moved down, as well as the electrostatic attraction, the mirror 1 on the side of the comb-shaped teeth 13b moved upwards, to turn the mirror 1 in the YZ plane in the opposite direction of rotation.

Indem, wie oben beschrieben, an die kammförmigen Zähne selektiv Spannungen angelegt werden, kippt der Spiegel 1 in der X-Z-Ebene oder in der Y-Z-Ebene. Dies bedeutet, dass der Spiegel 1 um zwei Drehachsen verkippt werden kann. Der Mikrospiegel 100 mit dem oben beschriebenen Aufbau ermöglicht so eine Abtastung um zwei Drehachsen.By selectively applying stresses to the comb-shaped teeth as described above, the mirror tilts 1 in the XZ plane or in the YZ plane. This means that the mirror 1 can be tilted about two axes of rotation. The micromirror 100 with the structure described above thus allows a scan around two axes of rotation.

Auf beide Seiten des Spiegels 1 wirken Kräfte ein, die den Spiegel 1 in der X-Z-Ebene oder in der Y-Z-Ebene in die gleiche Drehrichtung drehen. Der Spiegel 1 kann so mit einer ausreichend starken Antriebskraft gedreht werden. Indem eine solch starke Antriebskraft gewährleistet ist, können die Stabilität und die Ansprechgeschwindigkeit der Drehbewegung des Spiegels 1 erhöht werden. Wird die elektrostatische Anziehung zwischen den beweglichen, kammförmigen Zähnen und den festen, kammförmigen Zähnen bewirkt, so wirken symmetrische Vektoren, d. h. Vektoren gleicher skalarer Größe und entgegengesetzter Richtungen, an Stellen, die symmetrisch zur Drehachse OX des Spiegels 1 liegen.On both sides of the mirror 1 Forces the mirror 1 rotate in the same direction in the XZ plane or in the YZ plane. The mirror 1 can thus be rotated with a sufficiently strong driving force. By ensuring such a strong driving force, the stability and the response speed of the rotational movement of the mirror 1 increase. When the electrostatic attraction is effected between the movable comb-shaped teeth and the fixed comb-shaped teeth, symmetrical vectors, ie vectors of equal scalar magnitude and opposite directions, act at locations symmetrical to the axis of rotation O X of the mirror 1 lie.

Demzufolge werden die strukturellen Komponenten nicht ungleichgewichtig belastet. Dies gilt insbesondere für die Torsionsstäbe 4a und 4b des Mikrospiegels 100. Damit können Kräfte, die auf den Mikrospiegel 100 wirken und die genannten strukturellen Komponenten in unerwünschte Richtungen verformen, in ihrer Stärke herabgesetzt werden. So kann die Haltbarkeit des Mikrospiegels 100 verbessert werden. Auch kann ein Energieverlust vermieden werden. Die elektrostatische Anziehung wird so effektiv in die Drehbewegung des Spiegels umgesetzt. Ein solcher Aufbau des Mikrospiegels 100 ermöglicht es, die Antriebsspannung für den Spiegel zu verringern und so den Energieverbrauch zu reduzieren.As a result, the structural components are not unbalanced. This is especially true for the torsion bars 4a and 4b of the micromirror 100 , This allows forces acting on the micromirror 100 act and deform the said structural components in undesired directions, be reduced in their strength. So can the durability of the micromirror 100 be improved. Also, energy loss can be avoided. The electrostatic attraction is thus effectively converted into the rotational movement of the mirror. Such a construction of the micromirror 100 makes it possible to reduce the drive voltage for the mirror and thus to reduce energy consumption.

Wie oben beschrieben, ist der Mikrospiegel 100 so aufgebaut, dass der Spiegel 1 aus seiner normalen Stellung, die so festgelegt ist, dass keine Spannung an den Mikrospiegel 100 angelegt ist, in der X-Z-Ebene oder in der Y-Z-Ebene sowohl in die normale Drehrichtung als auch in die entgegengesetzte Drehrichtung geschwenkt werden kann. Durch diese Ausbildung des Mikrospiegels 100 kann ein ausreichend großer Kippwinkel erzielt werden. Außerdem sind die Kippwinkel in der normalen Drehung und der entgegengesetzten Drehung identisch. Dies bedeutet, dass für eine symmetrische Kippbewegung des Spiegels 1 gesorgt ist.As described above, the micromirror is 100 so constructed that the mirror 1 from its normal position, which is set so that no voltage to the micromirror 100 can be pivoted in the XZ plane or in the YZ plane both in the normal direction of rotation and in the opposite direction of rotation can be pivoted. Due to this design of the micromirror 100 a sufficiently large tilt angle can be achieved. In addition, the tilt angles in the normal rotation and the opposite rotation are identical. This means that for a symmetrical tilting movement of the mirror 1 is taken care of.

Der Mikrospiegel 100 gemäß Ausführungsbeispiel vereinfacht auch den Entwurf eines optischen Systems in einer Vorrichtung, in der der Mikrospiegel 100 anzubringen ist. Da der Mikrospiegel 100 im Hinblick auf die Kippbewegung bezüglich der normalen Stellung des Spiegels 1 symmetrisch ist, kann auch das optische System im Hinblick auf den Abtastbereich eines durch den Spiegel 1 abgelenkten Strahls symmetrisch ausgebildet werden.The micromirror 100 according to the embodiment also simplifies the design of an optical system in a device in which the micromirror 100 is to be attached. Because the micromirror 100 with regard to the tilting movement with respect to the normal position of the mirror 1 is symmetrical, can also be the optical system with regard to the scanning range of a through the mirror 1 deflected beam are formed symmetrically.

Die Erfindung wurde anhand eines bevorzugten Ausführungsbeispiels im Einzelnen erläutert. Die Erfindung ist jedoch nicht auf dieses Ausführungsbeispiel beschränkt.The The invention was based on a preferred embodiment in detail explained. The However, the invention is not limited to this embodiment.

So kann beispielsweise eine andere Zahl an kammförmigen Zähnen in dem Mikrospiegel verwendet werden.So For example, another number of comb-shaped teeth may be used in the micromirror become.

Claims (6)

Mikrospiegel (100), umfassend: – einen Reflexionsspiegel (1); – ein Paar erste Torsionsstäbe (4a, 4b), die von dem Reflexionsspiegel (1) abstehen; – einen ersten Trägerrahmen (5), der den Reflexionsspiegel (1) so hält, dass dieser über die ersten Torsionsstäbe (4a, 4b) um eine erste Drehachse (OY) verdrehbar ist; – ein Paar zweite Torsionsstäbe (14a, 14b), die von dem ersten Trägerrahmen (5) in eine Richtung abstehen, die im Wesentlichen senkrecht zu der Richtung liegt, in die die ersten Torsionsstäbe (4a, 4b) abstehen; und – einen zweiten Trägerrahmen (15), der den ersten Trägerrahmen (5) so hält, dass dieser um die zweiten Torsionsstäbe (14a, 14b) um eine zweite Drehachse (OX) verdrehbar ist, die im Wesentlichen senkrecht zu der ersten Drehachse (OY) liegt; – wobei die zweiten Torsionsstäbe (14a, 14b) jeweils zwei separate leitfähige Elemente aufweisen.Micromirror ( 100 ), comprising: - a reflection mirror ( 1 ); A pair of first torsion bars ( 4a . 4b ) separated from the reflection mirror ( 1 ) stand out; A first support frame ( 5 ), the reflection mirror ( 1 ) holds so that this over the first torsion bars ( 4a . 4b ) is rotatable about a first axis of rotation (O Y ); A pair of second torsion bars ( 14a . 14b ) coming from the first support frame ( 5 ) protrude in a direction which is substantially perpendicular to the direction in which the first torsion bars ( 4a . 4b ) stand out; and a second support frame ( 15 ), the first support frame ( 5 ) holds so that this around the second torsion bars ( 14a . 14b ) is rotatable about a second axis of rotation (O X ) which is substantially perpendicular to the first axis of rotation (O Y ); - wherein the second torsion bars ( 14a . 14b ) each have two separate conductive elements. Mikrospiegel (100) nach Anspruch 1, ferner umfassend: – ein Paar erste Elektroden (2a, 2b, 6a, 6b), von denen eine (2a, 2b) an dem Reflexionsspiegel (1) und die andere (6a, 6b) an dem ersten Trägerrahmen (5) ausgebildet ist, so dass der Reflexionsspiegel (1) um die erste Drehachse (OY) in eine normale Drehrichtung verdreht wird, wenn eine elektrostatische Anziehung zwischen den beiden ersten Elektroden (2a, 2b, 6a, 6b) wirkt; – ein Paar zweite Elektroden (3a, 3b, 7a, 7b), von denen eine (3a, 3b) an dem Reflexionsspiegel (1) und die andere (7a, 7b) an dem ersten Trägerrahmen (5) ausgebildet ist, so dass der Reflexionsspiegel (1) in eine entgegengesetzte Drehrichtung um die erste Drehachse (OY) verdreht wird, wenn eine elektrostatische Anziehung zwischen den beiden zweiten Elektroden (3a, 3b, 7a, 7b) wirkt; – ein Paar dritte Elektroden (12a, 12b, 16a, 16b), von denen eine (12a, 12b) an dem ersten Trägerrahmen (5) und die andere (16a, 16b) an dem zweiten Trägerrahmen (15) ausgebildet ist, so dass der Reflexionsspiegel (1) um die zweite Drehachse (OX) in eine normale Drehrichtung verdreht wird, wenn eine elektrostatische Anziehung zwischen den dritten Elektroden (12a, 12b, 16a, 16b) wirkt; und – ein Paar vierte Elektroden (13a, 13b, 17a, 17b), von denen eine (13a, 13b) an dem ersten Trägerrahmen (5) und die andere (17a, 17b) an dem zweiten Trägerrahmen (15) ausgebildet ist, so dass der Reflexionsspiegel (1) um die zweite Drehachse (OX) in eine entgegengesetzte Drehrichtung gedreht wird, wenn eine elektrostatische Anziehung zwischen den vierten Elektroden (13a, 13b, 17a, 17b) wirkt.Micromirror ( 100 ) according to claim 1, further comprising: - a pair of first electrodes ( 2a . 2 B . 6a . 6b ), one of which ( 2a . 2 B ) on the reflection mirror ( 1 ) and the other one ( 6a . 6b ) on the first support frame ( 5 ) is formed, so that the reflection mirror ( 1 ) is rotated about the first axis of rotation (O Y ) in a normal direction of rotation when an electrostatic attraction between the two first electrodes ( 2a . 2 B . 6a . 6b ) acts; A pair of second electrodes ( 3a . 3b . 7a . 7b ), one of which ( 3a . 3b ) on the reflection mirror ( 1 ) and the other one ( 7a . 7b ) on the first support frame ( 5 ) is formed, so that the reflection mirror ( 1 ) in an opposite direction of rotation about the first axis of rotation (O Y ) is rotated when an electrostatic attraction between the two second electrodes ( 3a . 3b . 7a . 7b ) acts; A pair of third electrodes ( 12a . 12b . 16a . 16b ), one of which ( 12a . 12b ) on the first support frame ( 5 ) and the other one ( 16a . 16b ) on the second support frame ( 15 ) is formed, so that the reflection mirror ( 1 ) is rotated about the second rotation axis (O X ) in a normal rotation direction when electrostatic attraction between the third electrodes ( 12a . 12b . 16a . 16b ) acts; and - a pair of fourth electrodes ( 13a . 13b . 17a . 17b ), one of which ( 13a . 13b ) on the first support frame ( 5 ) and the other one ( 17a . 17b ) on the second support frame ( 15 ) is formed, so that the reflection mirror ( 1 ) is rotated about the second axis of rotation (O X ) in an opposite direction of rotation when an electrostatic attraction between the fourth electrodes ( 13a . 13b . 17a . 17b ) acts. Mikrospiegel (100) nach Anspruch 1 oder 2, bei dem: – die zweiten Torsionsstäbe (14a, 14b) jeweils einen dreischichtigen Aufbau mit zwei leitfähigen Schichten und einer isolierenden Schicht aufweist, die zwischen den beiden leitfähigen Schichten angeordnet ist; und – die beiden leitfähigen Schichten des jeweiligen zweiten Torsionsstabs (14a, 14b) die beiden separaten leitfähigen Elemente bilden.Micromirror ( 100 ) according to claim 1 or 2, wherein: - the second torsion bars ( 14a . 14b ) each having a three-layered structure with two conductive layers and an insulating layer, which is arranged between the two conductive layers; and - the two conductive layers of the respective second torsion bar ( 14a . 14b ) form the two separate conductive elements. Mikrospiegelvorrichtung, umfassend: – einen Mikrospiegel (100) nach Anspruch 1; und – eine Spannungsversorgungseinheit (150), die den Mikrospiegel (100) mit einer Antriebsspannung versorgt, – wobei der Mikrospiegel (100) umfasst: – ein Paar erste Elektroden (2a, 2b, 6a, 6b), von denen eine (2a, 2b) an dem Reflexionsspiegel (1) und die andere (6a, 6b) an dem ersten Trägerrahmen (5) ausgebildet ist, so dass der Reflexionsspiegel (1) um die erste Drehachse (OY) in eine normale Drehrichtung verkippt wird, wenn eine elektrostatische Anziehung zwischen den ersten Elektroden (2a, 2b, 6a, 6b) wirkt; und – ein Paar zweite Elektroden (3a, 3b, 7a, 7b), von denen eine (3a, 3b) an dem Reflexionsspiegel (1) und die andere (7a, 7b) an dem ersten Trägerrahmen (5) ausgebildet ist, so dass der Reflexionsspiegel (1) um die erste Drehachse (OY) in eine entgegengesetzte Drehrichtung verdreht wird, wenn eine elektrostatische Anziehung zwischen den zweiten Elektroden (3a, 3b, 7a, 7b) wirkt, wobei – die Spannungsversorgungseinheit (150) über zwei der separaten leitfähigen Elemente der beiden zweiten Torsionsstäbe (14a, 14b) mit den ersten Elektroden (2a, 2b, 6a, 6b) verbunden ist, so dass eine Spannung zwischen den ersten Elektroden (2a, 2b, 6a, 6b) anlegbar ist; und – die Spannungsversorgungseinheit (150) über zwei der separaten leitfähigen Elemente der zweiten Torsionsstäbe (14a, 14b) mit den zweiten Elektroden (3a, 3b, 7a, 7b) verbunden ist, so dass eine Spannung zwischen den zweiten Elektroden (3a, 3b, 7a, 7b) anlegbar ist.Micromirror device comprising: - a micromirror ( 100 ) according to claim 1; and - a power supply unit ( 150 ), the micromirror ( 100 ) supplied with a drive voltage, - wherein the micromirror ( 100 ) comprises: - a pair of first electrodes ( 2a . 2 B . 6a . 6b ), one of which ( 2a . 2 B ) on the reflection mirror ( 1 ) and the other one ( 6a . 6b ) on the first support frame ( 5 ) is formed, so that the reflection mirror ( 1 ) is tilted about the first axis of rotation (O Y ) in a normal direction of rotation when an electrostatic attraction between the first electrodes ( 2a . 2 B . 6a . 6b ) acts; and a pair of second electrodes ( 3a . 3b . 7a . 7b ), one of which ( 3a . 3b ) on the reflection mirror ( 1 ) and the other one ( 7a . 7b ) on the first support frame ( 5 ) is formed, so that the reflection mirror ( 1 ) is rotated about the first axis of rotation (O Y ) in an opposite direction of rotation when an electrostatic attraction between the second electrodes ( 3a . 3b . 7a . 7b ), wherein - the power supply unit ( 150 ) over two of the separate conductive elements of the two second torsion bars ( 14a . 14b ) with the first electrodes ( 2a . 2 B . 6a . 6b ), so that a voltage between the first electrodes ( 2a . 2 B . 6a . 6b ) can be applied; and - the power supply unit ( 150 ) over two of the separate conductive elements of the second torsion bars ( 14a . 14b ) with the second electrodes ( 3a . 3b . 7a . 7b ), so that a voltage between the second electrodes ( 3a . 3b . 7a . 7b ) can be applied. Mikrospiegelvorrichtung nach Anspruch 4, bei der: – die zweiten Torsionsstäbe (14a, 14b) jeweils einen dreischichtigen Aufbau mit zwei leitfähigen Schichten und einer isolierenden Schicht aufweisen, die zwischen den beiden leitfähigen Schichten angeordnet ist; und – die beiden leitfähigen Schichten des jeweiligen zweiten Torsionsstabs (14a, 14b) die beiden separaten leitfähigen Elemente bilden.Micromirror device according to claim 4, in which: - the second torsion bars ( 14a . 14b ) each having a three-layer structure with two conductive layers and an insulating layer which is arranged between the two conductive layers; and - the two conductive layers of the respective second torsion bar ( 14a . 14b ) form the two separate conductive elements. Mikrospiegel (100), umfassend: – einen Reflexionsspiegel (1); – eine bewegliche Elektrodengruppe (2a, 2b) mit Elektroden, die von dem Reflexionsspiegel (1) abstehen; – ein Paar erste Torsionsstäbe (4a, 4b), die von dem Reflexionsspiegel (1) in eine Richtung abstehen, die verschieden von der Richtung ist, in die die Elektroden der beweglichen Elektrodengruppe (2a, 2b) abstehen; – eine feste Elektrodengruppe (6a, 6b) mit Elektroden, die von der ersten Trägerfassung (5) abstehen und der beweglichen Elektrodengruppe (2a, 2b) benachbart sind; – ein paar zweite Torsionsstäbe (14a, 14b), die von dem ersten Trägerrahmen (5) in eine Richtung abstehen, die im Wesentlichen senkrecht zu der Richtung liegt, in die die ersten Torsionsstäbe (4a, 4b) abstehen; und – einen zweiten Trägerrahmen (15), der den ersten Trägerrahmen (5) über die beiden zweiten Torsionsstäbe (14a, 14b) so hält, dass der erste Trägerrahmen (5) um eine zweite Drehachse (OX) verdrehbar ist, die im Wesentlichen senkrecht zu der ersten Drehachse (OY) liegt, wobei – die zweiten Torsionsstäbe (14a, 14b) jeweils zwei separate leitfähige Elemente aufweisen, – die bewegliche Elektrodengruppe (2a, 2b) und die feste Elektrodengruppe (6a, 6b) über zwei der separaten leitfähigen Elemente der zweiten Torsionsstäbe (14a, 14b) mit einer externen Vorrichtung (150) elektrisch verbindbar ist, so dass der Reflexionsspiegel (1) in eine normale Drehrichtung kippt, wenn die externe Vorrichtung (150) eine Spannung zwischen der beweglichen Elektrodengruppe (2a, 2b) und der festen Elektrodengruppe (6a, 6b) anlegt, und – die bewegliche Elektrodengruppe (2a, 2b) und die feste Elektrodengruppe (6a, 6b) über die beiden anderen separaten leitfähigen Elemente der zweiten Torsionsstäbe (14a, 14b) elektrisch mit der externen Vorrichtung (150) verbindbar sind, so dass der Reflexionsspiegel (1) in eine entgegengesetzte Drehrichtung kippt, wenn die externe Vorrichtung (150) eine Spannung zwischen der beweglichen Elektrodengruppe (2a, 2b) und der festen Elektrodengruppe (6a, 6b) anlegt.Micromirror ( 100 ), comprising: - a reflection mirror ( 1 ); A movable electrode group ( 2a . 2 B ) with electrodes coming from the reflecting mirror ( 1 ) stand out; A pair of first torsion bars ( 4a . 4b ) separated from the reflection mirror ( 1 ) in a direction different from the direction in which the electrodes of the movable electrode group (FIG. 2a . 2 B ) stand out; A fixed electrode group ( 6a . 6b ) with electrodes coming from the first carrier mount ( 5 ) and the movable electrode group ( 2a . 2 B ) are adjacent; - a few second torsion bars ( 14a . 14b ) coming from the first support frame ( 5 ) protrude in a direction which is substantially perpendicular to the direction in which the first torsion bars ( 4a . 4b ) stand out; and a second support frame ( 15 ), the first support frame ( 5 ) over the two second torsion bars ( 14a . 14b ) holds so that the first support frame ( 5 ) about a second axis of rotation (O X ) is rotatable, which is substantially perpendicular to the first axis of rotation (O Y ), wherein - the second torsion bars ( 14a . 14b ) each have two separate conductive elements, - the movable electrode group ( 2a . 2 B ) and the solid electrode group ( 6a . 6b ) over two of the separate conductive elements of the second torsion bars ( 14a . 14b ) with an external device ( 150 ) is electrically connectable, so that the reflection mirror ( 1 ) tilts in a normal direction of rotation when the external device ( 150 ) a voltage between the movable electrode group ( 2a . 2 B ) and the fixed electrode group ( 6a . 6b ), and - the movable electrode group ( 2a . 2 B ) and the solid electrode group ( 6a . 6b ) over the other two separate conductive elements of the second torsion bars ( 14a . 14b ) electrically with the external device ( 150 ) are connectable, so that the reflection mirror ( 1 ) tilts in an opposite direction of rotation when the external device ( 150 ) a voltage between the movable electrode group ( 2a . 2 B ) and the fixed electrode group ( 6a . 6b ) applies.
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