DE102006027306B4 - Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit einer Granatphase und Verwendung der danach hergestellten Glaskeramik - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit einer Granatphase und Verwendung der danach hergestellten Glaskeramik Download PDFInfo
- Publication number
- DE102006027306B4 DE102006027306B4 DE102006027306A DE102006027306A DE102006027306B4 DE 102006027306 B4 DE102006027306 B4 DE 102006027306B4 DE 102006027306 A DE102006027306 A DE 102006027306A DE 102006027306 A DE102006027306 A DE 102006027306A DE 102006027306 B4 DE102006027306 B4 DE 102006027306B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- temperature
- range
- glass
- ceramization
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 239000002223 garnet Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 43
- 238000002468 ceramisation Methods 0.000 claims abstract description 22
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 28
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 26
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 7
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 4
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 3
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims description 2
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- -1 BaTiO 3 Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 6
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 3
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 2
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101001094044 Mus musculus Solute carrier family 26 member 6 Proteins 0.000 description 1
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- 229910003668 SrAl Inorganic materials 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000005385 borate glass Substances 0.000 description 1
- GTDCAOYDHVNFCP-UHFFFAOYSA-N chloro(trihydroxy)silane Chemical compound O[Si](O)(O)Cl GTDCAOYDHVNFCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000012681 fiber drawing Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N gadolinium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Gd+3].[Gd+3] CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000005398 lithium aluminium silicate glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910003443 lutetium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N scandium(III) oxide Inorganic materials O=[Sc]O[Sc]=O HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- FIXNOXLJNSSSLJ-UHFFFAOYSA-N ytterbium(III) oxide Inorganic materials O=[Yb]O[Yb]=O FIXNOXLJNSSSLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/77—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals
- C09K11/7766—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals containing two or more rare earth metals
- C09K11/7774—Aluminates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
- C03B32/02—Thermal crystallisation, e.g. for crystallising glass bodies into glass-ceramic articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0009—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing silica as main constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0054—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing PbO, SnO2, B2O3
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/50—Wavelength conversion elements
- H01L33/501—Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/50—Wavelength conversion elements
- H01L33/501—Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
- H01L33/502—Wavelength conversion materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit den folgenden Schritten: – Erschmelzen eines Ausgangsglases, das (auf Oxidbasis) 5–50 Gew.-% SiO2, 5–50 Gew.-% Al2O3 und 10–80 Gew.-% mindestens eines Oxides enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die durch Y2O3, Sc2O3 gebildet ist, sowie 0,1–30 Gew.-% mindestens eines Oxides enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die durch B2O3 und Oxide der Lanthanoiden, außer Lu2O3, Gd2O3 und Yb2O3 gebildet ist, und das ferner 0,1 bis 80 Gew.-% eines Oxides enthält, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die durch Lu2O3, Gd2O3 und Yb2O3 gebildet ist; – Aufheizen zur Keramisierung mit einer Heizrate von mindestens 10 K/min, vorzugsweise mittels Infrarotheizung, auf eine Temperatur im Bereich von 1000°C bis 1400°C, bis sich Kristallite bilden, die eine Granatphase enthalten, – wobei die Aufheizung zur Keramisierung bis auf eine erste Temperatur T1 erfolgt, diese für eine erste Zeit t1 gehalten wird und dann auf Raumtemperatur abgekühlt wird.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit einer Granatphase und eine vorteilhafte Verwendung einer derartigen Glaskeramik.
- In neuerer Zeit werden LEDs vermehrt für Beleuchtungszwecke eingesetzt, da sie einige vorteilhafte Eigenschaften besitzen, wozu unter anderem ein hoher Wirkungsgrad durch direkte Umwandlung von elektrischer Energie in Lichtenergie und eine große Kompaktheit gehören.
- Bis vor einigen Jahren wurden LEDs jedoch nur als ”low emitting”-Anwendungen herangezogen, insbesondere für Anzeigen. In jüngster Zeit wurde jedoch das große Potential von LEDs für Anwendungen mit höherem Lichtbedarf erkannt, und es wurden verstärkte Anstrengungen unternommen, um bei LEDs eine verbesserte Energieeinkopplung und ein verbessertes Wärmemanagement zu erreichen.
- LEDs erzeugen Licht in einem sehr engen Spektralbereich, während für Beleuchtungszwecke meist weißes Licht benötigt wird. Kommerziell erhältliche weiße LEDs verwenden einen III-V-Halbleiter-Emitter für die Anregung eines lumineszierenden Materials, das eine Sekundärwellenlänge in einem niedrigeren Wellenlängenbereich emittiert (Downkonversion). Eine bekannte Möglichkeit verwendet eine blaue InGaN/GaN LED, um einen breitbandigen, gelben Leuchtstoff, YAG:Ce, anzuregen. Bei diesen mittels Leuchtstoff konvertierten LEDs gelangt ein bestimmter Anteil der blauen Emission durch die Leuchtstoffschicht, die den LED-Chip bedeckt, so dass das sich ergebende Gesamtspektrum eine Farbe aufweist, die weißem Licht sehr nahe kommt. Wegen des Fehlens von Spektralanteilen im Blau/Grün-Bereich und dem roten Wellenlängenbereich ist die Farbe hierbei jedoch in den meisten Fällen nicht zufriedenstellend.
- Aus der
US 2003/0025449 A1 - Wie eine derartige lumineszierende Glaskeramik mit einer Granatphase hergestellt werden soll, die möglichst vorteilhafte Eigenschaften aufweist, ist diesem Dokument jedoch nicht entnehmbar. Vielmehr wird lediglich allgemein auf die schmelztechnologische Herstellung verwiesen.
- Aus der
US 6 791 259 B1 ist eine weitere Beleuchtungsquelle mit einer LED bekannt, die blaues Licht emittiert. Zur Erzeugung von weißem Licht wird ein gelb emittierender Phosphor wie etwa YAG:Ce oder ZnS:Mn verwendet, der in einer Epoxidharz- oder Silikonschicht oder in einer Glasschicht verteilt ist. Zusätzlich ist eine Schicht mit strahlungsstreuenden Partikeln vorgesehen, die Partikel aus TiO2, BaTiO3, Al2O3, SiO2, CaCO3 oder BaSo4 enthält. Auch diese strahlungsstreuenden Partikel sind in einer Trägerschicht aus Epoxidharz, Silikon oder Glas eingebettet. - Ein derartiges Lichtkonversionsmaterial weist gewisse Nachteile auf, die durch die Einbettung der verwendeten Leuchtstoffe in anorganischen Trägermaterialien bedingt sind. Durch die verwendeten Granulate entstehen Streuverluste. Auch kann eine nicht-homogene Verteilung des Granulats auf dem Halbleiteremitter winkelabhängig zu unterschiedlichen Farbeindrücken führen. Darüber hinaus sind Epoxidharze in vielerlei Hinsicht nicht langzeitstabil, insbesondere bezüglich ihrer optischen und mechanischen Eigenschaften. Auch die thermische Stabilität ist für die Erzeugung von hohen Helligkeiten in der Regel unzulässig. Soweit die betreffenden Streumaterialien und Lumineszenzmaterialien in Trägerschichten aus Glas eingeschlossen sind, so ist dem genannten Dokument nicht entnehmbar, wie diese hergestellt werden. Auch ist die Herstellung und Auftragung mehrerer übereinanderliegender Schichten aufwändig und teuer.
- Aus der
EP 1 642 869 A1 ist eine Glaskeramik bekannt, die vorzugsweise zur Downkonversion von Anregungsstrahlung im blauen und UV-Spektralbereich verwendet wird. Die Glaskeramik weist (auf Oxidbasis) folgende Bestandteile auf: 5–50 Gew.-% SiO2, 5–50 Gew.-% Al2O3, 10–80 Gew.-% Y2O3, 0–20 Gew.-% B2O3, 0,1–30 Gew.-% seltene Erden, vorzugsweise 15–35 Gew.-% SiO2, 15–35 Gew.-% Al2O3, 25–60 Gew.-% Y2O3, 1–15 Gew.-% B2O3 und 1–15 Gew.-% seltene Erden. Die Glaskeramik enthält kristalline Phasen, in denen zumindest teilweise Seltenerd-Ionen aufgenommen sind. Hierbei sind kristalline Phasen mit Yttrium-Ionen als Bestandteil zumindest teilweise durch Seltenerd-Ionen ersetzt. Es kann sich etwa um die Phasen Y3Al5O12 (YAG), Y2SiO5, Y2Si2O7, SrAl2O4, BaMgAl10O17, Sr2P2O7, Sr4Al14O25 und YbO3 handeln, die zumindest teilweise als Wirtsphase zur Aufnahme von Seltenerd-Ionen dienen. - Die betreffenden Gläser werden schmelztechnologisch hergestellt und können anschließend keramisiert werden. Die Keramisierung erfolgt, indem zunächst bei einer Keimbildungstemperatur zwischen 850°C und 900°C über eine Zeitdauer von mehreren Stunden getempert wird und anschließend bei einer Temperatur von 1050 bis 1150°C eine Stunde lang keramisiert wird. Als Kristallphasen wurden hierbei Y2Si2O7, Y2SiO5, YbO3 identifiziert.
- Der Konversionswirkungsgrad derartiger Glaskeramiken ist allerdings für viele Anwendungen noch nicht ausreichend, da die Glaskeramik eine Reihe nicht konversionsfähiger Kristallphasen enthält, wie z. B. Y2Si2O7.
- Aus der
JP 04-119 941 A - Beide Verfahrensvarianten sind sehr zeitaufwändig. Außerdem werden nicht immer die gewünschten Granatphasen gebildet.
- Vor diesem Hintergrund liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik anzugeben, die besonders vorteilhafte Eigenschaften als Strahlungskonversionsmedium aufweist, insbesondere zur Downkonversion von LED-Strahlung aufweist. Dabei soll die Herstellung möglichst kostengünstig und gut reproduzierbar sein, so dass auch eine Herstellung im Großserienbetrieb ist.
- Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren gemäß Anspruch 1 und durch ein Verfahren gemäß Anspruch 2 gelöst.
- Erfindungsgemäß wurde festgestellt, dass bei der Keramisierung eines Ausgangsglases einer üblichen Zusammensetzung beim Aufheizen des gekühlten Glases von Raumtemperatur aus zuerst unerwünschte, nicht konversionsfähige Kristallphasen (Yttriumsilikate, z. B. Y2Si2O7 in verschiedenen Isotypen) gebildet werden und erst bei einer höheren Temperatur die gewünschten, mit seltenen Erden dotierten Kristallphasen, wie z. B. YAG (Y3Al5O12) gebildet werden. Bei der herkömmlichen Herstellung von Glaskeramiken wird zunächst ein homogenes Glas erschmolzen und dann zunächst bei einer niedrigeren Keimbildungstemperatur und anschließend bei einer höheren Keramisierungstemperatur über längere Zeit getempert, um so eine kontrollierte Kristallisation bzw. Teilkristallisation zu erhalten. Erfindungsgemäß wurde festgestellt, dass bei der herkömmlichen Herstellungsroute die Kristallisation der gewünschten Kristallphasen teilweise unterdrückt oder sogar verhindert wird, wenn die unerwünschten Yttriumsilikate bei tieferer Temperatur ausgeschieden werden, da große Teile des Yttriums nun chemisch gebunden sind. Als sekundäre Phasen werden Aluminosilicatphasen aussgeschieden, die für eine Lichtkonversion völlig ungeeignet sind (z. B. Mullit: 3Al2O3·2SiO2). Ferner werden die zugesetzten Dotierungselemente, z. B. Cer, ebenfalls in den Kristallphasen gebunden oder in eine für eine gute Konversion des blauen Lichtes ungeeignete Oxidationsstufe umgesetzt.
- Durch das erfindungsgemäße Verfahren werden derartige Probleme vermieden, indem das Ausgangsglas mit einer hohen Heizrate von mindestens 10 K/min zur Keramisierung auf eine Temperatur im Bereich von 1000°C bis 1400°C aufgeheizt wird, bis sich Kristallite bilden, die eine Granatphase enthalten, und anschließend auf Raumtemperatur abgekühlt wird. Die bevorzugte Temperatur von 1150°C bis 1250°C, auf die zunächst eine Aufheizung in kurzer Zeit erfolgt, liegt etwa 100–200 K, vorzugsweise etwa 150 K oberhalb der Temperatur, bei der sich die unerwünschten Kristallphasen erstmalig ausbilden würden.
- Durch eine derartige Aufheizung auf die Temperatur zur Keramisierung der erwünschten Granatphasen wird die Ausbildung der unerwünschten, nicht konversionsfähigen Kristallphasen vermieden. Durch den Verzicht auf eine im Stand der Technik übliche Keimbildung bei einer niedrigeren Temperatur kann so eine schnelle Bildung der gewünschten mit Lanthanoiden dotierten lumineszierenden Grantphasen erreicht und die Bildung der unerwünschten nicht konversionsfähigen Kristallphasen vermieden werden. Die Aufheizung erfolgt hierbei vorzugsweise homogen, d. h. die Temperaturgradienten über die Probe betragen höchstens etwa 10 K.
- Erfindungsgemäß wird so eine deutlich höhere Konversionsfähigkeit der hergestellten Glaskeramik und somit ein deutlich besserer Konversionswirkungsgrad erzielt.
- Es ist zwar im Stand der Technik grundsätzlich bekannt (
US 6 843 073 B2 ), Lithium-Aluminium-Silikat-Ausgangsgläser (LAS-Gläser) durch Infrarotheizung mit hohen Heizraten zu keramisieren, jedoch ist hierdurch die Erfindung nicht nahegelegt, da LAS-Glaskeramiken eine völlig andere Zusammensetzung und völlig andere Eigenschaften als die erfindungsgemäßen Glaskeramiken haben. - Erfindungsgemäß wird entweder zur Keramisierung bis auf eine erste Temperatur T1 ohne Zwischenschritt aufgeheizt, diese für eine erste Zeit t1 gehalten und dann auf Raumtemperatur abgekühlt.
- Alternativ wird zur Keramisierung bis auf eine erste Temperatur T1 aufgeheizt, diese für eine erste Zeit t1 gehalten, dann auf eine zweite Temperatur T2 abgekühlt, diese für eine zweite Zeit t2 gehalten und dann auf Raumtemperatur abgekühlt.
- Im Gegensatz zur herkömmlichen Keramisierung, bei der zunächst bei einer niedrigeren Temperatur Keime gebildet werden und anschließend bei einer höheren Temperatur keramisiert wird, wird so erfindungsgemäß mit hoher Heizrate sehr schnell auf eine erste Temperatur aufgeheizt, dann gehalten und wieder abgekühlt, oder auf eine erste höhere Temperatur schnell aufgeheizt und dann kurz bei einer niedrigeren Temperatur gehalten, um die erwünschten Granatphasen auszukristallisieren. Durch eine derartige Verfahrensführung wird die Bildung der unerwünschten nicht konversionsfähigen Kristallphasen vermieden.
- Hierbei kann die erste Temperatur T1 etwa für eine erste Zeit t1 gehalten werden, die im Bereich von 0 bis 30 min liegt, vorzugsweise im Bereich von 0 bis 20 min, besonders bevorzugt im Bereich von 2 bis 20 min, besonders bevorzugt im Bereich von 4 bis 15 min.
- Gemäß einer weiteren Ausführung der Erfindung beträgt die Aufheizgeschwindigkeit auf die erste Temperatur mindestens 20 K/min, vorzugsweise mindestens 50 K/min, vorzugsweise mindestens 100 K/min, vorzugsweise mindestens 200 K/min, weiter bevorzugt mindestens 500 K/min, weiter bevorzugt mindestens 600 K/min, weiter bevorzugt mindestens 1000 K/min, weiter bevorzugt mindestens 1200 K/min, besonders bevorzugt mindestens 2000 K/min.
- Durch eine derartig hohe Aufheizgeschwindigkeit und homogenes Aufheizen kann die Ausbildung der unerwünschten nicht-konversionsfähigen Kristallphasen weitgehend vollständig vermieden werden. Auch können sehr kurze Behandlungszeiten erzielt werden.
- Wird das Ausgangsglas nach dem Aufheizen auf die erste Temperatur auf die zweite Temperatur abgekühlt, die niedriger als die erste Temperatur ist, so erfolgt vorzugsweise eine Abkühlung um 50 bis 200 K, weiter bevorzugt um 50 bis 150 K, besonders bevorzugt um etwa 100 K, auf die zweite Temperatur.
- Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung wird die zweite Temperatur für eine zweite Zeit t2 gehalten, die im Bereich von 0 bis 30 min, vorzugsweise im Bereich von 1 bis 20 min, weiter bevorzugt im Bereich von 2 bis 15 min, besonders bevorzugt im Bereich von 3 bis 10 min, liegt.
- Durch eine derartige Verfahrensführung wird die Ausbildung der lumineszierenden Kristallphasen optimiert, um so eine möglichst hohe Ausbeute bei der Lichtkonversion zu gewährleisten.
- Die Temperaturbehandlung wird vorzugsweise so gesteuert, dass bei der Keramisierung ein Kristallphasenanteil von 10 bis 95%, besonders bevorzugt von 20 bis 80%, weiter bevorzugt von 25 bis 75%, in einer Restglasphase erzeugt wird.
- Der Kristallphasenanteil kann so an die Erfordernisse der gewünschten Anwendung durch die Verfahrensführung angepasst und optimiert werden.
- Bei der mit mindestens einem Lanthanoid dotierten Granatphase handelt es sich um eine Phase des Typs A3B2C3O12, wobei
A als verzerrte Würfel koordinierte Plätze für große Ionen sind;
B Oktaeder-Plätze sind;
C Tetraeder-Plätze sind. - Wenn A und C durch dreiwertige Kationen besetzt sind (z. B. durch Y3+ und durch Al3+), kann der Platz A durch eine dreiwertiges Lanthanoid-Kation wie etwa Ce3+ teilweise ersetzt werden. Auf die Tetraeder-Plätze passt wegen des geringen Abstandes zu den nächsten Sauerstoffatomen nur ein kleines Kation wie etwa Aluminium oder Silizium. Der Oktaeder-Platz muss immer von einem dreiwertigen Kation besetzt sein.
- Grundsätzlich denkbar, jedoch in dieser Anmeldung nicht bevorzugt ist auch eine Konfiguration, bei der A durch ein zweiwertiges Kation (z. B. Ba2+) und C durch ein vierwertiges Kation (z. B. Si4+) besetzt ist.
- Bei den bei der Keramisierung erzeugten, mit mindestens einem Lanthanoid dotierten Granatphasen kann es sich etwa um Granatphasen handeln wie Y3Al5O12 (YAG), Lu3Al5O12 (LuAG), Gd3Al5O12 (GdAG), Yb3Al5O12 (YbAG), Y3Sc2Al3O12, Y3Sc2Al3O12, Lu3Sc2Al3O12, Gd3Sc2Al3O12 und Yb3Sc2Al3O12. Beispielsweise kann es sich um Ce0,09Y2,91Al5O12 handeln.
- Gemäß einer weiteren Ausführung der Erfindung wird bei der Keramisierung eine Granatphase erzeugt, die mit mindestens einem Element dotiert ist, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die gebildet ist durch die Lanthanoiden Cer, Lanthan, Praseodym, Neodym, Samarium, Europium, Terbium, Dysprosium, Holmium, Erbium, Thulium und Thorium.
- Durch die Zudotierung von weiteren Lanthanoiden, wie etwa Tm, Tb, Dy, Sm usw., können der Farbort, die Farbtemperatur und der Farbwiedergabeindex (CRI) optimiert und an bestimmte Konversionsaufgaben angepasst werden.
- Gemäß einer weiteren Ausführung der Erfindung wird bei der Keramisierung eine Glaskeramik erzeugt, die einen Anteil an Lanthanoiden aufweist, der 0,1 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 15 Gew.-%, besonders bevorzugt 2 bis 10 Gew.-% beträgt.
- Der Gehalt der Glaskeramik an Lanthanoiden kann auf diese Weise an die gewünschte Konversionsaufgabe angepasst werden, um eine möglichst optimale Konversion zu erhalten.
- Wie bereits erwähnt, erfolgt die Keramisierung vorzugsweise, indem ein homogenes Ausgangsglas mittels einer Infrarotheizung mit sehr hohen Heizraten zur Keramisierung aufgeheizt wird. Hierzu wird das Ausgangsglas vorzugsweise zur Keramisierung auf einer Unterlage platziert, die für IR-Strahlung stark absorbierend ist, wie etwa Platin oder Quarzal. Daneben bieten sich stark streuende Unterlagen an, wie etwa Al2O3, SiO2, vorzugsweise in Pulverform.
- Durch Verwendung einer pulverförmigen Unterlage lässt sich die Klebeneigung verringern, gleichermaßen durch Verwendung von Quarzglas als Unterlage.
- Unter Verwendung einer Infrarotheizung mit einem KIR-Flächenheizaggregat mit IR-reflektierenden Wänden, die etwa aus Quarzal bestehen können, lassen sich äußerst hohe Heizraten erzielen.
- Das verwendete Ausgangsglas ist vorzugsweise, abgesehen von zufälligen Verunreinigungen, frei von Alkalioxiden, weiter frei von PbO, weiter frei von TiO2, weiter frei von MgO, und vorzugsweise frei von ZrO2.
- Das verwendete Ausgangsglas enthält ferner vorzugsweise folgende Bestandteile (in Gew.-% auf Oxidbasis):
Y2O3 25–60 SiO2 10–40 Al2O3 10–40 B2O3 0–20 Lanthanoide 0,1–20. - Weiter bevorzugt wird ein Ausgangsglas verwendet, das folgende Bestandteile (in Gew.-% auf Oxidbasis) enthält:
Y2O3 30–50 SiO2 15–35 Al2O3 15–40 B2O3 0–10 Lanthanoide 1–20. - Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung wird ein Ausgangsglas verwendet, das außer Läutermitteln und zufälligen Verunreinigungen keine weiteren Bestandteile enthält.
- Bei den Lanthanoiden kann es sich vorzugsweise zumindest um eines der Elemente Cer oder Europium handeln, wobei jedoch auch die anderen Lanthanoide in Frage kommen und darüber hinaus kleine Mengen weiterer Lanthanoide zudotiert werden können, um den Farbort, die Farbtemperatur und den Farbwiedergabeindex zu optimieren.
- Wie bereits erwähnt, wird eine erfindungsgemäß hergestellte Glaskeramik vorzugsweise als Strahlungskonversionskörper zur Konversion einer ersten Strahlung in eine Strahlung mit einem anderen Energiegehalt oder einer anderen Spektralverteilung verwendet, vorzugsweise zur Downkonversion von Anregungsstrahlung im blauen und im UV-Spektralbereich.
- Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung wird der Strahlungskonversionskörper mit einer Dicke von 0,01 bis 5 mm, vorzugsweise von 0,02 bis 0,5 mm, besonders bevorzugt 0,05 bis 0,5 mm hergestellt.
- Dies erlaubt eine Konversion auf einer kurzen Länge.
- Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung wird der Strahlungskonversionskörper mit einer Länge von 0,1 bis 10 mm, vorzugsweise von 0,2 bis 5 mm, besonders bevorzugt von 0,5 bis 2 mm hergestellt.
- Eine derartige Geometrie erlaubt eine Anpassung an die Halbleiterübergänge der zugehörigen LED-Chips.
- Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung wird der Strahlungskonversionskörper als Scheibe mit einem Durchmesser zwischen 2 und 40 cm hergestellt, vorzugsweise mit einem Durchmesser zwischen 3 und 30 cm, weiter bevorzugt mit einem Durchmesser zwischen 4 und 20 cm.
- Ferner kann der Strahlungskonversionskörper als Scheibe mit einem Durchmesser hergestellt werden, der dem Durchmesser eines Wafers entspricht, vorzugsweise einem Wafer von 2 Zoll, 3 Zoll, 4 Zoll, 5 Zoll oder 6 Zoll Durchmesser.
- Auf diese Weise kann der Strahlungskonversionskörper zunächst mit einem Wafer kombiniert werden, der im Zuge der Herstellung von LED-Chips benutzt wird, und anschließend gemeinsam mit dem Wafer auf die betreffenden Größen zerschnitten werden.
- Gemäß einer Variante der Erfindung erfolgt die Herstellung der Glaskeramik durch folgendes Verfahren:
- – Erschmelzen und Homogenisieren eines Ausgangsglases, das (auf Oxidbasis) 5–50 Gew.-% SiO2, 5–50 Gew.-% Al2O3 und 10–80 Gew.-% mindestens eines Oxides enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die gebildet ist durch Y2O3, Lu2O3, Sc2O3, Gd2O3, Yb2O3, sowie 0,1–30 Gew.-% mindestens eines Oxides enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die gebildet ist durch Oxide der Lanthanoiden und B2O3;
- – Kontrolliertes Abkühlen aus der Schmelze bis auf eine Kristallisationstemperatur im Bereich von 1000°C bis 1400°C, vorzugsweise im Bereich von 1050°C bis 1300°C, weiter bevorzugt im Bereich von 1100°C bis 1250°C, besonders bevorzugt im Bereich von 1150°C bis 1250°C, bis sich Kristallite bilden, die eine Granatphase enthalten und
- – Abkühlen auf Raumtemperatur.
- Auch auf diese Weise wird die Aufgabe der Erfindung vollständig gelöst, da eine Ausbildung der unerwünschten Kristallphasen vermieden wird und überwiegend die erwünschte Granatphase ausgeschieden wird.
- Nach erfolgter Erstarrung und Kristallisation wird vorzugsweise relativ schnell auf eine Temperatur etwas oberhalb der Transformationstemperatur abgekühlt, um so die Ausbildung der unerwünschten Phasen zu unterdrücken. So kann etwa mit einer Kühlrate von 50 K/min bis 200 K/min bis auf eine Temperatur etwas oberhalb der Transformationstemperatur Tg, vorzugsweise auf eine Temperatur, die 5 bis 50 K oberhalb von Tg liegt, abgekühlt werden, und dann kontrolliert auf Raumtemperatur abgekühlt werden.
- Bei der Kristallisationstemperatur wird vorzugsweise für eine Zeit von 0 bis 30 min, vorzugsweise von 1 bis 10 min gehalten, bevor die weitere Abkühlung erfolgt.
- Es versteht sich, dass die vorstehend genannten und die nachstehend noch zu erläuternden Merkmale der Erfindung nicht nur in der jeweils angegebenen Kombination, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung verwendbar sind, ohne den Rahmen der Erfindung zu verlassen.
- Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die Zeichnung. Es zeigen:
-
1 eine rasterelektronenmikroskopische Aufnahme (SEM) einer erfindungsgemäß hergestellten Glaskeramik; -
2 eine Aufsicht eines erfindungsgemäß verwendeten KIR-Heizaggregates; -
3 eine schematischen Querschnitt durch das KIR-Heizaggregat gemäß2 und -
4 Eine Röntgendiffaktionsanalyse (XRD) einer erfindungsgemäß hergestellten Probe. - Ausführungsbeispiele
- In Tabelle 1 sind verschiedene Zusammensetzungen von Ausgangsgläsern zusammengefasst, die für die Herstellung der erfindungsgemäßen Glaskeramiken verwendet werden.
- Die kalorimetrische Glastransformationstemperatur (Tg) liegt im Bereich von 830°C < Tg < 900°C, der Schmelzpunkt Tm liegt im Bereich von 1210°C < Tm < 1400°C, der Brechungsindex nd (bei 588 nm) 1.69 < nd < 1.74, die Abbe-Zahl νd liegt bei 50 < νd < 55 und die Dichte ρ der Gläser liegt im Bereich 3 g/cm3 < ρ < 4 g/cm3. Tabelle 1
Gew.-% G1 G2 G3 G4 G5 G6 G7 G8 G9 Y2O3 46,4 43,7 44,88 44,88 38,5 34,14 41,9 39,6 40,4 SiO2 23,6 22,3 28,29 28,29 21 39,02 22,85 21,6 22 Al2O3 20,9 31 24,39 24,39 29,6 24,39 32,25 30,4 31 B2O3 6,4 0,8 Eu2O3 2,7 2,44 2,45 CeO2 3 2,44 10,9 3 8,4 5,7 Summe 100 100 100 100 100 100 100 100 99,9 Aggregat: KIR-Flächenheizaggregat Abmessung (b × t × h): 450 mm × 370 mm × 345 mm (Innenmaße von Wand zu Wand) Material Wände: Allseitig Quarzal, Wandstärke 30 mm Wärmeisolierung: Keine Strahlerbauform: Zwillingsrohrstrahler 33 × 15 mm2 Anordnung Strahler: Unter der Deckenfläche, parallel zur Aggregatbreite Anzahl Strahler: 9 Stück Wendel je Strahler: 2 Stück Leistung je Wendel: 8,4 kW Farbtemperatur: 3000 K - Die verwendeten Ausgangsgläser sind sämtlich thermodynamisch stabil, um in einem technischen Glasherstellungsverfahren (Hafen- oder Wannenschmelze) produziert und in einem technischen Heißformgebungsverfahren (Ziehen, Pressen, Walzen, Rohr- und Faserziehen, Floaten) ausgeformt zu werden.
- Beispiel 1
- Es wird ein Glas (vgl. Tabelle 1, Ausgangsglas G7) in einem Platin-Tiegel bei einer Temperatur von etwa 1450 bis 1600°C erschmolzen und homogenisiert. Nach Abkühlung auf Raumtemperatur wird ein homogenes, klares, durchsichtiges Glas erhalten.
- Hieraus werden zu keramisierende Proben in Form von Platten mit einem Durchmesser von 60 mm und einer Dicke von 0,5 mm herausgetrennt. Derartige Glasproben werden in einem kIR-Flächenheizaggregat platziert, wie schematisch in den
2 bzw.3 dargestellt ist. Das KIR-Flächenheizaggregat (Kurzwellen-Infrarot-Heizaggregat), das in den2 und3 insgesamt mit der Ziffer10 bezeichnet ist, wird mit kurzwelligen Infrarot-Heizstrahlern16 gemäß Tabelle 2 beheizt. Die Strahler16 sind unter der Deckenfläche parallel zur Aggregatbreite angeordnet. Auf dem Boden des KIR-Flächenheizaggregates10 ist eine geeignete Auflage12 aus einem hochtemperaturstabilen Material vorgesehen, das für IR-Strahlung stark absorbierend oder stark streuend ist. Hierbei kann es sich beispielsweise um Al2O3, Quarzglas oder Quarzglas handeln, vorzugsweise in Pulverform. Auf der Auflage12 werden die zu keramisierenden Proben14 aus dem Ausgangsglas platziert. - Zur Keramisierung erfolgt die Aufheizung mit einer Heizrate von 2400 K/min bis auf eine Zieltemperatur von 1200°C. Nach einer Haltezeit von 10 min erfolgt eine Abkühlung auf Raumtemperatur durch Abschaltung des KIR-Heizaggregates
10 . - Beispiele 2–7
- Verschiedene Varianten der verwendeten Aufheizraten und Haltezeiten mit gegebenenfalls einer zweiten Zieltemperatur T2, die niedriger als die erste Zieltemperatur T1 ist, sind in Tabelle 3 zusammengefasst. Bei allen Versuchen erfolgt eine Abkühlung auf Raumtemperatur durch Ausschaltung des KIR-Heizaggregates gemäß Ofenkennlinie (OK). Tabelle 3
Beispiel 2 3 4 5 6 7 Ausgangstemperatur RT RT RT RT RT RT Heizrate (K/min) 600 1200 600 200 120 30 Zieltemperatur T1 [°C] 1200 1200 1200 1200 1200 1200 Haltezeit t1 [min] bei T1 8 9 0 0 0 0 Zieltemperatur T2 [°C] - - 1100 1100 - - Haltezeit t2 [min] bei T2 - - 8 4 - - Abkühlung auf RT durch Ausschalten gemäß Ofenkennlinie (OK) OK OK OK OK OK OK - Bei sämtlichen Varianten werden homogene Glaskeramiken erhalten, die überwiegend eine mit Lanthanoiden dotierte YAG-Phase enthalten. Die Kristallite der gewünschten YAG-Phase sind homogen in einer Restglasphase verteilt.
-
1 zeigt eine SEM-Aufnahme eines Anschliffes der Probe gemäß Beispiel 1 (Aufheizrate von 2400 K/min auf eine Zieltemperatur von 1200°C, Haltezeit von 10 min). Die hellen Bereiche zeigen die Ce:YAG-Kristallphase, während die dunklen Bereiche die Restglasphase zeigen. Die Kristallite der gewünschten YAG-Phase sind homogen mit einer Größe zwischen 1 μm und 500 μm verteilt (gemäß1 mit einer durchschnittlichen Kristallitgröße von etwa 10 μm). Der Anteil der Restglasphase kann zwischen 1% und 90% liegen, liegt vorzugsweise jedoch zwischen 25% und 75%. -
4 zeigt eine Röntgenbeugungsaufnahme (XRD) der erhaltenen Glaskeramik gemäß1 . Bei der Kristallphase handelt es sich um reinen YAG mit den Bragg-Reflexen die praktisch identisch sind zum Einkristall (hellgraues Linienspektrum). Dies ist außer kleinen Mengen von Korund (Al2O3) auf der Oberfläche die einzige Kristallphase in dem System. - Beispiel 8
- Es wird ein Glas (vgl. Tabelle 1, Ausgangsglas G7) in einem Platin-Tiegel bei einer Temperatur von etwa 1450 bis 1600°C erschmolzen und homogenisiert. Anschließend erfolgt eine schnelle Abkühlung mit 200 K/min auf 1100°C bis 1250°C, beispielsweise auf etwa 1150°C, nach 5 Minuten Haltezeit wird mit 200 K/min auf etwa 900°C abgekühlt, dann mit einer Kühlrate von etwa 50 K/min auf Raumtemperatur abgekühlt.
- Die so erhaltene Probe enthält überwiegend YAG als Kristallphase.
Claims (28)
- Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit den folgenden Schritten: – Erschmelzen eines Ausgangsglases, das (auf Oxidbasis) 5–50 Gew.-% SiO2, 5–50 Gew.-% Al2O3 und 10–80 Gew.-% mindestens eines Oxides enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die durch Y2O3, Sc2O3 gebildet ist, sowie 0,1–30 Gew.-% mindestens eines Oxides enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die durch B2O3 und Oxide der Lanthanoiden, außer Lu2O3, Gd2O3 und Yb2O3 gebildet ist, und das ferner 0,1 bis 80 Gew.-% eines Oxides enthält, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die durch Lu2O3, Gd2O3 und Yb2O3 gebildet ist; – Aufheizen zur Keramisierung mit einer Heizrate von mindestens 10 K/min, vorzugsweise mittels Infrarotheizung, auf eine Temperatur im Bereich von 1000°C bis 1400°C, bis sich Kristallite bilden, die eine Granatphase enthalten, – wobei die Aufheizung zur Keramisierung bis auf eine erste Temperatur T1 erfolgt, diese für eine erste Zeit t1 gehalten wird und dann auf Raumtemperatur abgekühlt wird.
- Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit den folgenden Schritten: – Erschmelzen eines Ausgangsglases, das (auf Oxidbasis) 5–50 Gew.-% SiO2, 5–50 Gew.-% Al2O3 und 10–80 Gew.-% mindestens eines Oxides enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die gebildet ist durch Y2O3, Sc2O3, sowie 0,1–30 Gew.-% mindestens eines Oxides enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die durch B2O3 und Oxide der Lanthanoiden, außer Lu2O3, Gd2O3 und Yb2O3 gebildet ist, und das ferner 0,1 bis 80 Gew.-% eines Oxides enthält, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die durch Lu2O3, Gd2O3 und Yb2O3 gebildet ist; – Aufheizen zur Keramisierung mit einer Heizrate von mindestens 10 K/min, vorzugsweise mittels Infrarotheizung, auf eine Temperatur im Bereich von 1000°C bis 1400°C, bis sich Kristallite bilden, die eine Granatphase enthalten, bei dem zur Keramisierung bis auf eine erste Temperatur T1 aufgeheizt wird, diese für eine erste Zeit t1 gehalten wird, dann auf eine zweite Temperatur T2 abgekühlt wird, diese für eine zweite Zeit t2 gehalten wird und dann auf Raumtemperatur abgekühlt wird.
- Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem zur Keramisierung bis auf die erste Temperatur T1 im Bereich von 1000°C bis 1400°C, vorzugsweise im Bereich von 1050°C bis 1300°C, weiter bevorzugt im Bereich von 1100°C bis 1250°C, besonders bevorzugt im Bereich von 1150°C bis 1250°C, aufgeheizt wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem die erste Temperatur T1 für eine erste Zeit t1 im Bereich von 0 bis 30 min, vorzugsweise im Bereich von 0 bis 20 min, besonders bevorzugt im Bereich von 2 bis 20 min, besonders bevorzugt im Bereich von 4 bis 15 min, gehalten wird.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem auf die erste Temperatur mit einer Aufheizgeschwindigkeit von mindestens 20 K/min, vorzugsweise von mindestens 50 K/min, vorzugsweise von mindestens 100 K/min, vorzugsweise von mindestens 200 K/min, weiter bevorzugt von mindestens 500 K/min, weiter bevorzugt von mindestens 600 K/min, weiter bevorzugt von mindestens 1000 K/min, weiter bevorzugt von mindestens 1200 K/min, besonders bevorzugt von mindestens 2000 K/min, aufgeheizt wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 5, bei dem die zweite Temperatur niedriger als die erste Temperatur ist, vorzugsweise um 50 bis 200 K, weiter bevorzugt um 50 bis 150 K, besonders bevorzugt um etwa 100 K.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 6, bei dem die zweite Temperatur für eine zweite Zeit t2 gehalten wird, die im Bereich von 0 bis 30 min, vorzugsweise im Bereich von 1 bis 20 min, weiter bevorzugt im Bereich von 2 bis 15 min, besonders bevorzugt im Bereich von 3 bis 10 min, liegt.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem bei der Keramisierung ein Kristallphasenanteil von 10 bis 95%, bevorzugt von 20 bis 80%, besonders bevorzugt von 25 bis 75%, in einer Restglasphase erzeugt wird.
- Verfahren nach Anspruch 8, bei dem bei der Keramisierung eine mit mindestens einem Lanthanoid dotierte Granatphase erzeugt wird, die ausgewählt ist aus der Gruppe, die gebildet ist durch Y3Al5O12 (YAG), Lu3Al5O12 (LuAG), Gd3Al5O12 (GdAG), Yb3Al5O12 (YbAG), Y3Sc2Al3O12, Y3Sc2Al3O12, Lu3Sc2Al3O12, Gd3Sc2Al3O12 und Yb3Sc2Al3O12.
- Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, bei dem bei der Keramisierung eine Granatphase erzeugt wird, die mit mindestens einem Element dotiert ist, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die gebildet ist durch die Lanthanoiden Cer, Lanthan, Praseodym, Neodym, Samarium, Europium, Terbium, Dysprosium, Holmium, Erbium, Thulium und Thorium.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem bei der Keramisierung eine Glaskeramik erzeugt wird, die einen Anteil an Lanthanoiden aufweist, der 0,1 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 15 Gew.-%, besonders bevorzugt 2 bis 10 Gew.-% beträgt.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem das Ausgangsglas zur Keramisierung auf einer Unterlage aus Platin, Quarzglas, Aluminiumoxid oder Quarzal platziert wird.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem das Ausgangsglas zur Keramisierung auf einer pulverförmigen Unterlage platziert wird.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem ein Ausgangsglas verwendet wird, das abgesehen von zufälligen Verunreinigungen frei ist von Alkalioxiden.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem ein Ausgangsglas verwendet wird, das abgesehen von zufälligen Verunreinigungen frei ist von PbO.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem ein Ausgangsglas verwendet wird, das abgesehen von zufälligen Verunreinigungen frei ist von TiO2.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem ein Ausgangsglas verwendet wird, das abgesehen von zufälligen Verunreinigungen frei ist von MgO.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem ein Ausgangsglas verwendet wird, das abgesehen von zufälligen Verunreinigungen frei ist von ZrO2.
- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem ein Ausgangsglas verwendet wird, das folgende Bestandteile (in Gew.-% auf Oxidbasis enthält):
Y2O3 25–60 SiO2 10–40 Al2O3 10–40 B2O3 0–20 Lanthanoide 0,1–20. - Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem ein Ausgangsglas verwendet wird, das folgende Bestandteile (in Gew.-% auf Oxidbasis enthält):
Y2O3 30–50 SiO2 15–35 Al2O3 15–40 B2O3 0–10 Lanthanoide 1–20. - Verfahren nach Anspruch 19 oder 20, bei dem ein Ausgangsglas verwendet wird, das außer Läutermitteln und zufälligen Verunreinigungen keine weiteren Bestandteile enthält.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 21, bei dem ein Ausgangsglas verwendet wird, das als Lanthanoide zumindest eines der Elemente Cer oder Europium enthält.
- Verfahren zur Herstellung eines Strahlungskonversionskörpers zur Konversion einer ersten Strahlung in eine Strahlung mit einem anderen Energiegehalt oder einer anderen Spektralverteilung, vorzugsweise zur Downkonversion von Anregungsstrahlung im blauen und im UV-Spektralbereich, bei dem der Strahlungskonversionskörper durch ein Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche hergestellt wird.
- Verfahren nach Anspruch 23, bei dem der Strahlungskonversionskörper mit einer Dicke von 0,01 bis 0,5 mm, vorzugsweise von 0,05 bis 0,2 mm hergestellt wird.
- Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, bei dem der Strahlungskonversionskörper mit einer Länge von 0,1 bis 10 mm, vorzugsweise von 0,2 bis 5 mm, besonders bevorzugt von 0,5 bis 2 mm hergestellt wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 23 bis 25, bei dem der Strahlungskonversionskörper als Scheibe mit einem Durchmesser zwischen 2 und 40 cm hergestellt wird, vorzugsweise mit einem Durchmesser zwischen 3 und 30 cm, weiter bevorzugt mit einem Durchmesser zwischen 4 und 20 cm.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 23 bis 25, bei dem der Strahlungskonversionskörper als Scheibe mit einem Durchmesser hergestellt wird, der dem Durchmesser eines Wafers entspricht, vorzugsweise einem Wafer von 2 Zoll, 3 Zoll, 4 Zoll, 5 Zoll oder 6 Zoll Durchmesser.
- Verwendung einer nach einem der Ansprüche 1 bis 27 hergestellten Glaskeramik als Material zur Konversion einer ersten Strahlung in eine Strahlung mit einem anderen Energiegehalt oder einer anderen Spektralverteilung, vorzugsweise zur Downkonversion von Anregungsstrahlung im blauen und im UV-Spektralbereich.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102006027306A DE102006027306B4 (de) | 2006-06-06 | 2006-06-06 | Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit einer Granatphase und Verwendung der danach hergestellten Glaskeramik |
FR0703865A FR2901785B1 (fr) | 2006-06-06 | 2007-05-31 | Procede de preparation d'une ceramique de verre avec une phase de grenat |
JP2007147310A JP4961267B2 (ja) | 2006-06-06 | 2007-06-01 | ガーネット相を有するガラスセラミックの製造方法 |
US11/757,609 US7958746B2 (en) | 2006-06-06 | 2007-06-04 | Method for producing a glass ceramic having a garnet phase |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102006027306A DE102006027306B4 (de) | 2006-06-06 | 2006-06-06 | Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit einer Granatphase und Verwendung der danach hergestellten Glaskeramik |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102006027306A1 DE102006027306A1 (de) | 2007-12-13 |
DE102006027306B4 true DE102006027306B4 (de) | 2013-10-17 |
Family
ID=38663847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102006027306A Expired - Fee Related DE102006027306B4 (de) | 2006-06-06 | 2006-06-06 | Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit einer Granatphase und Verwendung der danach hergestellten Glaskeramik |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7958746B2 (de) |
JP (1) | JP4961267B2 (de) |
DE (1) | DE102006027306B4 (de) |
FR (1) | FR2901785B1 (de) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006027307B4 (de) * | 2006-06-06 | 2014-08-07 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung einer Sinterglaskeramik und deren Verwendung |
US7504053B1 (en) | 2008-04-11 | 2009-03-17 | Deep Photonics Corporation | Method and structure for nonlinear optics |
JP5712768B2 (ja) | 2010-05-10 | 2015-05-07 | 信越化学工業株式会社 | 波長変換部材、発光装置、及び波長変換部材の製造方法 |
CN101880487A (zh) * | 2010-06-08 | 2010-11-10 | 天津大学 | 多重光学频率变换防伪涂料的制备方法及防伪检测方法 |
DE102010047474A1 (de) * | 2010-10-06 | 2012-04-12 | Merck Patent Gmbh | Mn-aktivierte Leuchtstoffe |
WO2013008751A1 (ja) * | 2011-07-08 | 2013-01-17 | 宇部興産株式会社 | 光変換用セラミック複合体の製造方法 |
CN103395997B (zh) * | 2013-07-23 | 2015-12-02 | 南京邮电大学 | 一种白光led用稀土掺杂透明玻璃陶瓷及其制备方法 |
KR101484634B1 (ko) * | 2014-02-13 | 2015-01-21 | 주식회사 베이스 | 색변환 효율 및 광 추출 효율이 우수한 led 색변환 소재 및 그 제조 방법 |
CN104163572A (zh) * | 2014-07-15 | 2014-11-26 | 南昌大学 | 一种具有高效白光发射的透明玻璃陶瓷及制备方法 |
KR20160038094A (ko) * | 2014-09-26 | 2016-04-07 | 코닝정밀소재 주식회사 | 발광 다이오드의 색변환용 기판 및 그 제조방법 |
JP6497544B2 (ja) * | 2015-01-28 | 2019-04-10 | 日本電気硝子株式会社 | 結晶化ガラス蛍光体及びそれを用いた波長変換部材 |
CN105800938B (zh) * | 2016-05-09 | 2018-06-05 | 南昌大学 | 一种具有高效白光发射的玻璃陶瓷及制备方法 |
CN106800410B (zh) * | 2017-01-13 | 2020-01-24 | 中国计量大学 | 一种Yb敏化的氧化钇基激光陶瓷及其制备方法 |
CN111542898B (zh) * | 2017-10-09 | 2022-05-24 | 新泽西鲁特格斯州立大学 | 富含Al2O3的硬且抗裂的玻璃和玻璃陶瓷 |
IT201800020920A1 (it) * | 2018-12-21 | 2020-06-21 | Luca Toncelli | Metodo per la produzione di manufatti in lastra a partire da un impasto base, fritta vetrosa per la realizzazione dellimpasto base e manufatto in lastra così ottenuto |
CN112851124B (zh) * | 2021-02-04 | 2022-03-22 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 一种激光照明用玻璃陶瓷膜复合材料 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04119941A (ja) * | 1990-09-06 | 1992-04-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 結晶化ガラスの製造方法 |
US20030025449A1 (en) * | 2001-08-03 | 2003-02-06 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Hybrid LED |
US6791259B1 (en) * | 1998-11-30 | 2004-09-14 | General Electric Company | Solid state illumination system containing a light emitting diode, a light scattering material and a luminescent material |
US6843073B2 (en) * | 2000-09-22 | 2005-01-18 | Schott Glas | Method and apparatus for ceramizing the starting glass of glass-ceramics |
EP1642869A1 (de) * | 2004-09-29 | 2006-04-05 | Schott AG | Y2O3-haltiges Aluminosilicat Glas oder Glaskeramik |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1383201A (en) * | 1971-02-19 | 1975-02-05 | Pilkington Brothers Ltd | Glass ceramic material |
DE3671886D1 (de) * | 1986-01-08 | 1990-07-19 | Philips Nv | Zusammengesetzter koerper. |
JPS6345148A (ja) * | 1986-08-11 | 1988-02-26 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 機械加工性の針状結晶析出結晶化ガラスの製造方法 |
US6197429B1 (en) * | 1998-02-26 | 2001-03-06 | Corning Incorporated | Method for making transparent glass-ceramics with high temperature dimensional stability |
US6802894B2 (en) | 1998-12-11 | 2004-10-12 | Jeneric/Pentron Incorporated | Lithium disilicate glass-ceramics |
JP4785221B2 (ja) | 2000-01-07 | 2011-10-05 | 山本貴金属地金株式会社 | ガラスセラミックス及びその製造方法 |
US6451077B1 (en) * | 2000-02-02 | 2002-09-17 | 3M Innovative Properties Company | Fused abrasive particles, abrasive articles, and methods of making and using the same |
US7258707B2 (en) * | 2003-02-05 | 2007-08-21 | 3M Innovative Properties Company | AI2O3-La2O3-Y2O3-MgO ceramics, and methods of making the same |
JP2005029431A (ja) * | 2003-07-04 | 2005-02-03 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 結晶化ガラス |
-
2006
- 2006-06-06 DE DE102006027306A patent/DE102006027306B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-05-31 FR FR0703865A patent/FR2901785B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-01 JP JP2007147310A patent/JP4961267B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-04 US US11/757,609 patent/US7958746B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04119941A (ja) * | 1990-09-06 | 1992-04-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 結晶化ガラスの製造方法 |
US6791259B1 (en) * | 1998-11-30 | 2004-09-14 | General Electric Company | Solid state illumination system containing a light emitting diode, a light scattering material and a luminescent material |
US6843073B2 (en) * | 2000-09-22 | 2005-01-18 | Schott Glas | Method and apparatus for ceramizing the starting glass of glass-ceramics |
US20030025449A1 (en) * | 2001-08-03 | 2003-02-06 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Hybrid LED |
EP1642869A1 (de) * | 2004-09-29 | 2006-04-05 | Schott AG | Y2O3-haltiges Aluminosilicat Glas oder Glaskeramik |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7958746B2 (en) | 2011-06-14 |
JP2007326772A (ja) | 2007-12-20 |
US20080041106A1 (en) | 2008-02-21 |
FR2901785A1 (fr) | 2007-12-07 |
FR2901785B1 (fr) | 2011-04-15 |
JP4961267B2 (ja) | 2012-06-27 |
DE102006027306A1 (de) | 2007-12-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102006027306B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit einer Granatphase und Verwendung der danach hergestellten Glaskeramik | |
DE102006027307B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Sinterglaskeramik und deren Verwendung | |
DE102004048041B4 (de) | Verwendung eines Glases oder einer Glaskeramik zur Lichtwellenkonversion | |
EP2576725B1 (de) | Leuchtstoffe | |
EP2616523B1 (de) | Silicophosphat-leuchtstoffe | |
EP2401342B1 (de) | Mit zirkonium und hafnium co-dotierte nitridosilikate | |
EP2841529B1 (de) | Silicat-leuchtstoffe | |
EP2324096B1 (de) | Co-dotierte 1-1-2 nitride | |
DE102006054330A1 (de) | Leuchtstoffplättchen für LEDs aus strukturierten Folien | |
EP2528991A1 (de) | Leuchtstoffe | |
WO2013143645A1 (de) | Kompositkeramik, die einen konversionsleuchtstoff und ein mit einem negativen thermischen ausdehnungskoeffizienten material enthält | |
Fernández-Rodríguez et al. | Processing and luminescence of Eu/Dy-doped Sr2MgSi2O7 glass-ceramics | |
EP2914688A1 (de) | Eu-aktivierte leuchtstoffe | |
WO2017092849A1 (de) | Mn-aktivierte leuchtstoffe | |
DE102009050542A1 (de) | Sm-aktivierte Aluminat- und Borat-Leuchtstoffe | |
Tratsiak et al. | Garnet-type crystallites, their isomorphism and luminescence properties in glass ceramics | |
EP2596681A1 (de) | Carbodiimid-leuchtstoffe | |
DE112018003818T5 (de) | Beta-SiAlON-Wellenlängenumwandler und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE102017121339B4 (de) | Leuchtstoff und Konversions-LED | |
EP3178904A1 (de) | Leuchtstoffe |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20140118 |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |