DE102005014640A1 - Object illuminating arrangement for e.g. microscope, has light beam bundling lenses projecting far field of light bundles leaving from diffractive diffusers in two levels of microscope, where levels correspond to field level or pupil level - Google Patents
Object illuminating arrangement for e.g. microscope, has light beam bundling lenses projecting far field of light bundles leaving from diffractive diffusers in two levels of microscope, where levels correspond to field level or pupil level Download PDFInfo
- Publication number
- DE102005014640A1 DE102005014640A1 DE102005014640A DE102005014640A DE102005014640A1 DE 102005014640 A1 DE102005014640 A1 DE 102005014640A1 DE 102005014640 A DE102005014640 A DE 102005014640A DE 102005014640 A DE102005014640 A DE 102005014640A DE 102005014640 A1 DE102005014640 A1 DE 102005014640A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- doe
- level
- light
- microscope
- arrangement according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 title claims abstract description 24
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 14
- 241001270131 Agaricus moelleri Species 0.000 description 4
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000010009 beating Methods 0.000 description 1
- 238000005314 correlation function Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005338 frosted glass Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/06—Means for illuminating specimens
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0944—Diffractive optical elements, e.g. gratings, holograms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Beleuchtung eines Objektes in der eine partiell kohärente Lichtquelle verwendet und das Lichtbündel durch computergenerierte Hologramme homogenisiert wird. Diese dient insbesondere zur Befeuchtung eines Objektes in einem Mikroskop, in dem die Pupillenebene und die Feldebene möglichst gleichmäßig ausgeleuchtet werden sollen. Ein weiteres Anwendungsgebiet der Erfindung ist eine Beleuchtungsanordnung für Fotolithographiegeräte.The The invention relates to an arrangement for illuminating an object in which a partially coherent light source used and the light beam homogenized by computer generated holograms. This serves in particular for moistening an object in a microscope, in which the pupil plane and the field plane are illuminated as evenly as possible should be. Another field of application of the invention is a Lighting arrangement for Photolithography equipment.
Die WO 03/010588 A1 beschreibt eine vorteilhafte Auslegung eines diffraktiven Diffuser zur Homogenisierung partiell kohärenter Laserstrahlung, wie sie bei Excimer-Lasern typisch auftritt. Die Homogenisierung des Laserstrahles erfolgt jedoch nur in einer Ebene, die sich in einem Abstand von der Laserquelle oder im Fernfeld befindet. Bei Verwendung dieser Anordnung in einem Mikroskop wäre diese Ebene zum Beispiel die Feldebene, wobei dann die Pupillenebene mit dem Rohstrahlprofil des Lasers ausgeleuchtet würde.The WO 03/010588 A1 describes an advantageous design of a diffractive Diffuser for homogenizing partially coherent laser radiation, such as it typically occurs with excimer lasers. Homogenization of the Laser beam, however, takes place only in one plane, which is in one Distance from the laser source or in the far field. Using this arrangement in a microscope would be this level for example the field plane, in which case the pupil plane with the beam profile the laser would be illuminated.
Die
Das in Lichtausbreitungsrichtung erste DOE dient zur Aufspaltung des Laserlichtbündels in mehrere Teillichtbündel (Funktion eines Beam-Splitter). Diese Teillichtbündel durchdringen das Mittel zur Strahlkonvergierung und das zweite DOE, welches eine Strahlformungsfunktion hat. Jeder der Teilstrahlen erzeugt dann in einer Ebene einen schart begrenzten Spot.The in the light propagation direction first DOE is used to split the Laser beam in several partial light bundles (Function of a beam splitter). These partial light bundles penetrate the agent for beam convergence and the second DOE, which is a beamforming function Has. Each of the partial beams then produces a sharp in a plane limited spot.
Die
Die Beleuchtung in einem Mikroskop sollte so ausgelegt sein, daß sowohl die Pupillenebene als auch die Feldebene homogen ausgeleuchtet werden. Eine inhomogene Lichtverteilung in der Pupillenebene schlägt sich in der Abbildung als Intensitätsumverteilung nieder und ist besonders gut im defokussierten Bildfeld zu beobachten. In der Feldebene schlägt sich die inhomogene Lichtverteilung in der Linienbreitevariation der abgebildeten Strukturen nieder. Bei den klassischen Mikroskopen die mit klassischen Beleuchtungsquellen arbeiten, z.B. mit einer Glühwendel, tritt aufgrund des geringen Kohärenzvolumens keine Strukturierung in der Pupillenebene und der Feldebene auf. Ist man jedoch auf die Verwendung zumindest partiell kohärenter Lichtquellen angewiesen, weil es zum Beispiel für die betrachtete Wellenlänge keine inkohärente Lichtquelle gibt oder weil eine hohe Intensität gefordert ist, so treten aufgrund des größeren Kohärenzvolumens Interferenzen in der Pupillenebene und in der Feldebene auf.The Illumination in a microscope should be designed so that both the pupil plane as well as the field plane are homogeneously illuminated. An inhomogeneous light distribution in the pupil plane is reflected in the figure as intensity redistribution down and is particularly good in the defocused field of view. Beating in the field level the inhomogeneous light distribution in the line width variation down the depicted structures. In the classical microscopes who work with classical illumination sources, e.g. with a filament, occurs due to the low coherence volume no structuring at the pupil level and the field level. However, one is on the use of at least partially coherent light sources because, for example, there is no incoherent There is light source or because a high intensity is required, so occur due to the larger coherence volume Interference at the pupil level and at the field level.
Die Erfindung soll das Problem lösen, in einem Mikroskop, welches eine partiell kohärente Lichtquelle zur Beleuchtung verwendet, die Lichtverteilung in der Feldebene und in der Pupillenebene homogen zu erzeugen.The Invention is intended to solve the problem in a microscope, which is a partially coherent light source for illumination used, the light distribution at the field level and in the pupil plane to produce homogeneous.
Die Lösung der Aufgabe gelingt erfindungsgemäß mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 1.The solution the object succeeds according to the invention with the characterizing features of claim 1.
Die Unteransprüche 2 bis 12 sind vorteilhafte Ausgestaltungen des Hauptanspruches.The under claims 2 to 12 are advantageous embodiments of the main claim.
Die optische Anordnung zur Strahlhomogenisierung eines partiell kohärenten Laserstrahls bezüglich Intensitätsverteilung sowohl in der Feldebene als auch in der Pupillenebene ist vorzugsweise aus folgenden, in Lichtausbreitungsrichtung angeordneten Bauelementen aufgebaut: einem ersten DOE mit Phasenstruktur und einer ersten strahlbündelnden Optik, welche das Fernfeld des von dem ersten DOE austretenden Lichtbündels in einer ersten Ebene abbildet, weiterhin einem zweiten DOE mit Phasenstruktur, welches in der ersten Ebene angeordnet ist und einer zweiten strahlbündelnden Optik, welche das Fernfeld des von dem zweiten DOE austretenden Lichtbündels in einer zweiten Ebene abbildet, wobei die erste Ebene der Feldebene oder der Pupillenebene und die zweite Ebene der Pupillenebene oder der Feldebene entsprechen.The Optical arrangement for beam homogenization of a partially coherent laser beam with respect to intensity distribution in both the field plane and the pupil plane is preferred from the following, arranged in the light propagation direction components constructed: a first DOE with phase structure and a first beam forming Optics showing the far field of the light beam emerging from the first DOE in a first level, and a second DOE with a phase structure, which is arranged in the first plane and a second beam-focusing Optics that the far field of the emerging from the second DOE light beam in a second level, where the first level is the field level or the pupil plane and the second plane of the pupil plane or correspond to the field level.
Unter den hier verwendeten DOE verstehen wir ein transmissives optisches Element, auf dem eine reine Phasenstruktur aufgeprägt ist. Diese Phasenstruktur kann im einfachsten Fall eine binäre Struktur sein und kann je nach Effizienzforderungen auch mehrstufige Phasenstrukturen enthalten.Under The DOE used here is a transmissive optical one Element on which a pure phase structure is imprinted. This phase structure can in the simplest case be a binary structure and can also be multi-level phase structures depending on the efficiency requirements contain.
Das erste DOE und das zweite DOE wirken jeweils als diffraktive Diffuser, wobei die Strukturgrößen der DOEs vom abgestrahlten Divergenzwinkel abhängen.The the first DOE and the second DOE each act as diffractive diffusers, where the structure sizes of Depend on DOEs to the radiated divergence angle.
Typische Intensitätsverteilungen derartiger diffraktiver Diffuser sind z.B. Flat-Top, Gauß, Annular, Dipol, Quadrupol oder ähnliche.typical intensity distributions such diffractive diffusers are e.g. Flat-top, Gauss, Annular, Dipole, quadrupole or similar.
Das
erste DOE hat einen Streuwinkel, der wenigstens 3 bis 20 mal größer ist
als die Divergenz des einfallenden Laserstrahles
Das
zweite DOE hat einen Streuwinkel, der wenigstens 3 bis 10 mal größer ist
als der Streuwinkel des ersten Lichtbündels
Die
DOEs sind kommerzielle Komponenten, welche durch die folgenden Forderungen
spezifiziert werden:
Resultierenden Streuwinkel, Intensitätsverteilung
im Fernfeld Speckle-Kontrast im Fernfeld und Effizienz des optischen
Elementes.The DOEs are commercial components specified by the following requirements:
Resulting scattering angle, intensity distribution in the far field Speckle contrast in the far field and efficiency of the optical element.
Die strahlbündelnde Optik ist vorzugsweise eine strahlbündelnde optische Linse. Die strahlbündelnde Optik kann aber auch ein Spiegel oder ein entsprechend ausgelegtes weiteres diffraktives optisches Element sein.The beamformer Optics are preferably a beam-focusing optical lens. The beam-focusing optics but can also be a mirror or a suitably designed further be diffractive optical element.
Das Mikroskop ist insbesondere ein Mikroskop, welches zur Maskeninspektion bei 193 nm verwendet wird und als Lichtquelle einen Excimer-Laser verwendet.The Microscope is in particular a microscope, which is used for mask inspection at 193 nm and as an excimer laser light source used.
Die Erfindung wird nachfolgend an Hand von Ausführungsbeispielen beschrieben. Es zeigen:The The invention will be described below with reference to exemplary embodiments. Show it:
Der
Aufbau der Anordnung zur Beleuchtung besteht gemäß
Die
Lichtquelle
Das
erste DOE
Das
mittels des ersten DOE
Da
die Anforderungen an die Homogenität des zweiten Lichtbündels in
der Feldebene in der Regel sehr hoch sind, ist vorgesehen, daß das diese
Ebene erzeugende zweite DOE
Die
Lichtquelle
Die
erste strahlbündelnde
Optik
Aufgrund
der diffusen Wirkung des ersten DOE
Herstellungsbedingt besteht bei diffraktiven Diffusern (DOE) ein Problem mit dem Anteil des ungebeugten Lichtes. Ein DOE besteht zum Beispiel aus einer reinen, ins Glas eingeprägten, Phasenstruktur. Die Phasenstrukturtiefe hat fertigungsbedingt eine Toleranz, die zu einer Erhöhung der Intensität 0. Beugungsordnung führt. Der Energieanteil in dieser 0. Beugungsordnung beträgt zwar nur etwa 1 % oder weniger, aber im Fernfeld manifestiert sich dieser Anteil als extrem überhöhter Peak in der Intensitätsverteilung. Dieser erscheint um so dominanter, je größer das Verhältnis von Streuwinkel des jeweiligen DOE zur Divergenz des beleuchtenden Strahls ist.the preparation, diffractive diffusers (DOE) have a problem with the proportion of the undiffracted light. For example, a DOE consists of one pure, impressed in the glass, Phase structure. The phase structure depth has a production due to a Tolerance that leads to an increase the intensity 0. diffraction order leads. The energy content in this 0th diffraction order is indeed only about 1% or less, but in the far field this manifests itself Share as extremely excessive peak in the intensity distribution. This appears all the more dominant, the greater the ratio of Scattering angle of the respective DOE to the divergence of the illuminating beam is.
Bei
einer sehr kleiner Divergenz des Laserstrahles
Ist
die 0. Ordnung jedoch in der Feldebene dominant, so findet ein dezentrierter
Aufbau Anwendung, wie dieser in
Durch
den gleichen Versatz der ersten strahlbündelnden Optik
Bei
symmetrisch wirkenden DOEs ist es besonders vorteilhaft, wenn das
Fernfeld des zweiten DOE
Die
in den
- 11
- erstes DOEfirst DOE
- 22
- zweites DOEsecond DOE
- 33
- Lichtquellelight source
- 44
- erste strahlbündelnde Optikfirst beamformer optics
- 55
- zweite strahlbündelnde Optiksecond beamformer optics
- 66
- erste Ebenefirst level
- 77
- zweite Ebenesecond level
- 88th
- Blendecover
- 99
- optische Achseoptical axis
- 1010
- Meßfeldmeasuring field
- 1111
- Laserstrahllaser beam
- 1212
- erstes diffuses Lichtbündelfirst diffused light beam
- 1313
- zweites diffuses Lichtbündelsecond diffused light beam
- 1414
- ungebeugtes Lichtundiffracted light
- 1515
- Objektobject
- 1616
- Objektivlens
- 1717
- Tubuslinsetube lens
- 1818
- Zwischenbildintermediate image
- RR
- Radius des Ring-Intensitätsprofilsradius of the ring intensity profile
Claims (12)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102005014640.6A DE102005014640B4 (en) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | Arrangement for illuminating an object |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102005014640.6A DE102005014640B4 (en) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | Arrangement for illuminating an object |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102005014640A1 true DE102005014640A1 (en) | 2006-10-05 |
DE102005014640B4 DE102005014640B4 (en) | 2019-11-28 |
Family
ID=36998832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102005014640.6A Expired - Fee Related DE102005014640B4 (en) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | Arrangement for illuminating an object |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102005014640B4 (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007023445A1 (en) * | 2007-05-16 | 2008-11-20 | Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh | Confocally imaging optical system for measuring instrument, has shading element designed as center screen that is formed by half nominal diameter of aperture, where shading element is designed as elliptical center screen |
DE102007027083A1 (en) * | 2007-06-12 | 2008-12-18 | Carl Zeiss Sms Gmbh | microscope illumination |
WO2013009235A1 (en) * | 2011-07-08 | 2013-01-17 | Tobii Technology Ab | Eye-tracker illumination |
DE102007005791B4 (en) * | 2007-02-06 | 2018-01-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Diffractive beam splitter |
DE102018216392A1 (en) * | 2018-09-26 | 2020-03-26 | Carl Zeiss Meditec Ag | Light source unit for an operating microscope |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1367442A2 (en) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Nikon Corporation | Illumination device |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19946594A1 (en) * | 1999-09-29 | 2001-04-12 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Microscope, preferably for inspection in semiconductor manufacturing |
-
2005
- 2005-03-31 DE DE102005014640.6A patent/DE102005014640B4/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1367442A2 (en) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Nikon Corporation | Illumination device |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007005791B4 (en) * | 2007-02-06 | 2018-01-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Diffractive beam splitter |
DE102007023445A1 (en) * | 2007-05-16 | 2008-11-20 | Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh | Confocally imaging optical system for measuring instrument, has shading element designed as center screen that is formed by half nominal diameter of aperture, where shading element is designed as elliptical center screen |
DE102007027083A1 (en) * | 2007-06-12 | 2008-12-18 | Carl Zeiss Sms Gmbh | microscope illumination |
US9097911B2 (en) | 2007-06-12 | 2015-08-04 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Microscope illumination |
WO2013009235A1 (en) * | 2011-07-08 | 2013-01-17 | Tobii Technology Ab | Eye-tracker illumination |
US9924864B2 (en) | 2011-07-08 | 2018-03-27 | Tobii Ab | Eye-tracker illumination |
DE102018216392A1 (en) * | 2018-09-26 | 2020-03-26 | Carl Zeiss Meditec Ag | Light source unit for an operating microscope |
DE102018216392B4 (en) | 2018-09-26 | 2020-06-25 | Carl Zeiss Meditec Ag | Light source unit for a surgical microscope |
US11428918B2 (en) | 2018-09-26 | 2022-08-30 | Carl Zeiss Meditec Ag | Light source for a surgical microscope |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102005014640B4 (en) | 2019-11-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3528029B1 (en) | Microscope | |
DE102009045096A1 (en) | Lighting system for microlithographic-projection exposure system for illuminating object field in object level with illumination radiation, has two mirrors, where one mirror is flat mirror | |
DE29601263U1 (en) | Illumination device for a surgical microscope | |
DE2360197A1 (en) | PROCESS FOR INCREASING THE DEPTH OF FOCUS AND / OR THE RESOLUTION OF LIGHT MICROSCOPES | |
DE102014113716B4 (en) | Device for separately modulating the wave fronts of two components of a light beam and a scanning fluorescence light microscope | |
DE102005014640B4 (en) | Arrangement for illuminating an object | |
DE102010030089A1 (en) | Illumination optics for micro lithography and projection exposure apparatus with such an illumination optics | |
DE10345430A1 (en) | lighting device | |
DE102011076658A1 (en) | Illumination lens for use in projection illumination system for extreme UV-projection lithography for manufacturing e.g. semiconductor chip, has first selection facet comprising larger surface than surfaces of second and third facets | |
DE10010154C2 (en) | Double confocal scanning microscope | |
DE112012002140B4 (en) | lighting device | |
DE3229768A1 (en) | Dark-surface illuminating system | |
WO2018104536A1 (en) | Lighting device for a confocal microscope and confocal microscope | |
DE102008042438B4 (en) | Microlithography projection exposure machine with at least two working states | |
DE102004035489A1 (en) | Optical system for converting a primary intensity distribution into a given, space-angle-dependent intensity distribution | |
WO2004097492A1 (en) | Dark field illumination system | |
DE19532340A1 (en) | Parallel light-beam device for optical instrument | |
DE102008043324B4 (en) | Optical arrangement for the three-dimensional structuring of a material layer | |
DE102009047316A1 (en) | Optical reflective component for inserting in illuminating optics of illuminating system for illuminating object field of projection illumination system, has static structures on reflective upper surface | |
DE102009025656A1 (en) | Projection lens for imaging optical field in microlithography projection exposure facility, has screen provided within illuminating lens and arranged such that zeroth diffraction order is partly dimmed | |
WO2020127647A1 (en) | Fluorescent light microscopy with increased axial resolution | |
DE102014223453A1 (en) | Illumination optics for EUV projection lithography | |
WO2020030410A1 (en) | Illumination arrangement for a microscope, microscope and method for illuminating a sample volume in a microscope | |
DE10201870B4 (en) | Arrangement and method for changing the light output in a microscope | |
DE102007005791B4 (en) | Diffractive beam splitter |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
R012 | Request for examination validly filed |
Effective date: 20120310 |
|
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: CARL ZEISS JENA GMBH, DE Free format text: FORMER OWNERS: CARL ZEISS SMS GMBH, 07745 JENA, DE; CARL ZEISS JENA GMBH, 07745 JENA, DE Owner name: CARL ZEISS SMT GMBH, DE Free format text: FORMER OWNERS: CARL ZEISS SMS GMBH, 07745 JENA, DE; CARL ZEISS JENA GMBH, 07745 JENA, DE |
|
R020 | Patent grant now final | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |