DE10161820A1 - Elektrokorrosionsbeständiger Wälzlageraufbau - Google Patents
Elektrokorrosionsbeständiger WälzlageraufbauInfo
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Abstract
In einem Lagerring (1), der eine mit Keramik bespritzte Isolationsschicht (3) aufweist, die durch die Benutzung eines thermischen Spritzverfahrens gebildet wird, erscheinen eine Mehrzahl von Poren (4) in der mit Keramik besprühten Isolationsschicht (3), die durch feinverteilte Partikel (5) eines anorganischen Pulvers abgedichtet werden. Porenabdichtung wird durch Imprägnierung mit einer flüssigen Mischung eines flüchtigen organischen Lösungsmittels und des anorganischen Pulvers in den Poren (4) durchgeführt, gefolgt von einer Verflüchtigung des organischen Lösungsmittels, um dadurch die feinverteilten Partikel (5) innerhalb der Poren (4) zu hinterlassen.
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich im Allgemeinen
auf einen Wälzlageraufbau zur Verwendung in einem Traktionsmo
tor, einer Antriebsvorrichtung, Achsen und anderen beweglichen
Komponenten von Bahnwaggons, und insbesondere auf einen Wälzla
geraufbau, der in einem Umfeld benutzt wird, das eine den Wälz
lageraufbau aufnehmende Struktur erfordert, dass der Wälzla
geraufbau gegen Elektrokorrosion beständig ist, mit der Ab
sicht, den Fluss von elektrischem Strom durch den Wälzlagerauf
bau zu beseitigen.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auch auf ein
Verfahren zur Fertigung einer äußeren Laufrille für den Wälzla
geraufbau, auf einem keramikbeschichteten Lagerring, der darin
verwendet wird, und auf ein Verfahren zur Abdichtung von Poren
in einer darin benutzten keramikbeschichteten, elektrisch iso
lierten Auskleidung.
Wenn ein Erdungsschuh zur Verbindung der Elektrizi
tätsversorgungsanlage eines Bahnwaggons mit den Schienen über
die Räder unvollständig ist, erlaubt es das Wälzlager, das im
allgemeinen in Elektrizitätsversorgungsanlagen von Schienen
fahrzeugen benutzt wird, dass elektrischer Strom zwischen den
Rädern und der Schiene über Komponenten des Wälzlageraufbaus
wie der inneren und äußeren Laufrille (Rillen- bzw. Lagerele
ment, race) und den Wälzkörpern fließt. Aus diesem Grund beo
bachtet man oft, dass Funken zwischen den Wälzlagern und einer
Laufrille der äußeren oder inneren Laufrille auftreten, was zu
Elektrokorrosion führt, und was schließlich die Lebenszeit des
Lageraufbaus reduziert.
Angesichts des Vorangehenden ist ein Wälzlager-Aufbau
vorgeschlagen worden, bei welchem eine aus Kunstharz herge
stellte Isolierungs-Auskleidung (layer bzw. lining) eingesetzt
wird und auf die Passoberfläche der äußeren Laufrille gesetzt
wird, die in Kontakt mit einem Gehäuse steht. Da die harzhalti
ge Isolierungs-Auskleidung jedoch einen relativ großen linearen
Wärmeausdehnungskoeffizienten besitzt, entsteht zwischen der
äußeren Laufrille und dem Gehäuse unter Einfluss von Wärme, die
sich während des Betriebes des Wälzlageraufbaus entwickelt, ei
ne unerwünschte Lücke.
Unter Berücksichtigung, dass ein Keramikmaterial als
Material für die Isolierungs-Auskleidung bevorzugt wird, da es
einen kleineren linearen Wärmeausdehnungs-Koeffizienten und
bessere elektrische Isolationseigenschaften besitzt, ist vorge
schlagen worden, auf der äußeren Laufrille eine keramische Aus
kleidung als isolierende Auskleidung durch die Verwendung eines
thermischen Spritzverfahren zu bilden.
Unter Berücksichtigung der Eigenschaft einer ther
misch aufgespritzten Ablagerung, die Keramik aufweist, daß eine
isolierende Auskleidung eine Mehrzahl von darin enthaltenen
(übriggelassenen) Poren besitzt und dementsprechend eine Ab
dichtungsbehandlung erfordert, die zum Abdichten dieser Poren
führt, kann eine isolierende Auskleidung gute elektrische Isola
tionseigenschaften zeigen. Wie zum Beispiel in der japanischen
offengelegten Gebrauchsmusterveröffentlichung No. 60-85626 of
fenbart ist, wird die Abdichtungsbehandlung im allgemeinen
durch Auffüllen der Poren mit einem synthetischen harzigen Ma
terial durchgeführt.
Die in der mit Keramik beschichteten, isolierenden
Auskleidung gebildeten Poren, gebildet durch die Benutzung des
thermischen Spritzverfahrens, tendierten dazu, an einem Werk
stück - so zum Beispiel Lagerringen - zu kleben, nachdem ein
pulverförmiges Material, das aufgespritzt wurde, bei einer er
höhten Temperatur geschmolzen ist. Die Poren in der mit Kera
mik beschichteten, isolierenden Auskleidung variieren in Größe,
von Mikroporen, die durch Rissbildung entstanden sind, bis zu
Poren, die zwischen den pulverförmigen Partikeln, ohne ausrei
chend geschmolzen worden zu sein, vorliegen, als die bespritzte
Auskleidung durch Schmelzen der abgelagerten pulvrigen Partikel
gebildet worden ist. Damit dementsprechend die in der Größe va
riierenden Poren ausreichend mit synthetischem harzigen Materi
al abgedichtet werden können, so dass eine ausreichende Leis
tung gezeigt werden kann, ist es erforderlich, sorgfältig Mate
rial auszuwählen, das eine zugehörige Permeabilität aufweist,
und ein Verfahren, das es erlaubt, in das Material einzudringen
einschließlich etwa Imprägnierung unter Atmosphärenverhältnis
sen, Imprägnierung unter Vakuumverhältnissen und Imprägnierung
unter Druckverhältnissen. Jedoch würde, außer die Bedingungen
des benutzten Materials, die Prozesstemperatur und die
Drucksteuerung sind geeignet geregelt, die elektrische Isolie
rungsleistung beträchtlich beeinträchtigt sein. Aus diesem
Grund ist der Abdichtungsbehandlung schwer durchzuführen und
aufwendig. Ferner, da es schwierig ist, das Keramikmaterial in
Verbindung mit einem Material zu bringen, das benutzt wird, um
Lagerringe des Wälzlageraufbaus herzustellen, und, da es
schwierig ist, thermisch gespritzt zu werden, bringt die Benut
zung des Keramikmaterials ein Problem im Hinblick auf den Zu
sammenhalt zwischen der äußeren Laufrille und dem Gehäuse.
Auch hat es sich als problematisch herausgestellt, dass, wenn
die äußere Laufrille mittels einer Presspassung mit dem Gehäuse
verbunden wird, die keramische Auskleidung dazu neigt, sich ab
zulösen.
Um die vorgenannten Probleme wesentlich zu überwin
den, offenbart die offengelegte japanische Gebrauchsmusteran
meldung Nr. 2-46119 beispielsweise eine dreischichtige Ausklei
dung, die aus einer äußeren Metallschicht, einer dazwischenlie
genden keramischen Isolationsschicht und einer inneren Metall
schicht hergestellt ist, und die auf einer Oberfläche der äuße
ren Laufrille aufgebracht ist, die an das Gehäuse angepasst
ist. Jede dieser Schichten wird durch ein thermisches Spritz
verfahren gebildet. Von den drei Schichten wird die innere Me
tallschicht angesichts der Tatsache verwendet, dass das kerami
sche Material, das die Isolationsschicht bildet, weniger gut an
dem Material des Laufrings des Wälzlageraufbaus haftet und
nicht einfach thermisch bespritzt werden kann. Die äußere Me
tallschicht wird benutzt, um ein Abschälen (Abpellen) der Iso
lierschicht zu minimieren, was ansonsten geschehen würde, wenn
die äußere Laufrille mit dem Gehäuse mittels einer Presssitzan
passung verbunden sein würde.
Wie oben beschrieben, sind die innere und äußere Metall
schicht sowie die keramische Isolationsschicht der dreischich
tigen Auskleidung sämtlichst durch die Benutzung eines thermi
schen Spritzverfahrens gebildet. Das thermische Spritzverfahren
ist jedoch aufwendig, und, da der oben diskutierte Lageraufbau
eine dreischichtige Auskleidung verwendet, nimmt der entstehen
de Aufwand für das Durchführen des thermischen Spritzens den
größten Teil der beim Herstellen des Wälzlageraufbaus entste
henden Gesamtherstellungskosten ein, was zu einem erhöhten
Preis des Wälzlageraufbaus führt.
Ferner bringt im Falle des konischen Wälzlagers die
Bildung der dreischichtigen Auskleidung eine große Wahrschein
lichkeit des Auftretens von Graten an entsprechenden Abschnit
ten der thermisch bespritzten Auskleidung, benachbart gegenü
berliegenden Endflächen eines Lagerrings eines großen Durchmes
sers. Mit anderen Worten, während Luft gleichzeitig während des
thermischen Spritzens aus Kühlungsgründen eingeblasen wird, da
mit eine unerwünschte Zunahme der Temperatur eines Stahlwerk
stücks als Grundwerkstoff für den Lagerring unterdrückt wird,
wird das dann thermisch bespritzte Material ebenso gekühlt, be
gleitet durch das Entstehen einer Schrumpfungskraft. Aufgrund
dieser Schrumpfungskraft tendiert die Bindungsstärke zwischen
der thermisch bespritzten Auskleidung und dem Stahlwerkstück
dazu, sich zu verringern, was zur Bildung von Graten führt.
In einem Versuch, den Aufwand, der in der Umsetzung
des oben diskutierten thermischen Spritzens betrieben wird, zu
reduzieren, haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung die
japanische Patentanmeldung No. 2000-236791 eingereicht, die ei
ne doppelschichtige Struktur vorschlägt, die die vollständige
Beschichtungsschicht bedeckt. Jedoch hat es sich gezeigt, dass
Belastungsaspekte, die auf Bereiche des Lagerrings wirken, wo
die beschichtete Schicht gebildet ist, von Ort zu Ort variieren
und dementsprechend die Benutzung der doppelschichtigen Struk
tur für die vollständig beschichtete Schicht weit von der Ren
tabilität bezogen auf Bearbeitungsaufwand und verfügbare Funk
tionalitäten entfernt ist.
Auch aufgrund des in Fig. 23A gezeigten konventio
nellen Schleifprozesses, der auf eine äußere Laufrille 26 eines
konischen Wälzlagers wirkt, ist es allgemein üblich, zuerst ge
genüberliegende Endflächen B und C der äußeren Laufrille
gleichzeitig zu schleifen, dann eine äußere periphere Oberflä
che D mit den Endflächen B und C, die als Referenzebene verwen
det werden, zu schleifen, oder durch Benutzung eines nicht
zentrierten (centerless) Schleifverfahrens, und schließlich ei
nen Laufring E der äußeren Laufrille zu schleifen, während die
äußere Laufrille von der Endfläche B abgestützt wird und die
äußere periphere Oberfläche D als Referenzebene verwendet wird.
Dieses Verfahren ist dahingehend zufriedenstellend, dass das
konische Wälzlager mit einer hohen Maß- und Rotationsgenauig
keit hergestellt werden kann.
Im Gegensatz zu dem oben diskutierten standardgemäßen
konischen Wälzlager ist ein elektrokorrosionsbeständiges koni
sches Wälzlager, das im allgemeinen in dem Umfeld benutzt wird,
wo notwendig ein Strom innerhalb des Wälzlagers fließt, so aus
gebildet, dass die gegenüberliegenden Endflächen B und C sowie
eine äußere periphere Oberfläche D der äußeren Laufrille 26 mit
einer elektrisch isolierenden Auskleidung (beschichtete
Schicht) 27, wie in Fig. 23B gezeigt, beschichtet sind. Diese
elektrisch isolierende Auskleidung 27 wird im allgemeinen durch
thermisches Spritzen eines Keramikmaterials allein oder einer
Mischung eines Keramikmaterials und eines metallischen Materi
als in einer Vielzahl von Falten (plies) gebildet.
Jedoch tendiert bei dem konventionellen thermischen
Spritzverfahren die Dicke des thermisch bespritzten Materials
dazu, beträchtlich zu variieren, und ein gleichförmiges thermi
sches Spritzen ist schwer zu erreichen, infolgedessen führt es
zu einer beträchtlichen Reduktion in der Maßgenauigkeit des äu
ßeren Durchmessers und der Breite und der Rotationsgenauigkeit
nach dem thermischen Spritzen, sowie zu einem Zuwachs eines
Fehlers in der Schichtdicke.
Aus diesem Grunde ist es, falls ein Schleifen der ge
genüberliegenden Endflächen B und C sowie einer äußeren peri
pheren Oberfläche D der äußeren Laufrille 26 nach dem thermi
schen Spritzen in einer ähnlichen Weise durchgeführt wird, wie
der Schleifprozess, der benutzt wird, die äußere Laufrille des
standardisierten, bereits diskutierten, konischen Wälzlagers zu
schleifen, schwierig, den Schleifprozess so durchzuführen, dass
die Variation der Schichtdicke der isolierenden Auskleidung 27
unterdrückt wird, was die elektrische Isolierungsleistung be
einflusst. Dieses Problem ist ebenso in selbstausrichtenden
Wälzlagern und selbstausrichtenden Kugellagern gefunden worden.
Dementsprechend ist mit der vorliegenden Erfindung
beabsichtigt, durch Lösung der oben diskutierten Probleme einen
Wälzlageraufbau vorzusehen, der eine exzellente Beständigkeit
gegen Elektrokorrosion aufweist.
Insbesondere ist es Aufgabe der vorliegenden Erfin
dung, einen mit Keramik bespritzten beschichteten Lagerring
vorzusehen, der eine exzellente Beständigkeit gegen Elektrokor
rosion sowie verringerte Unterschiede in der Isolationsleistung
zeigt, sowie ferner eine Abdichtungsmethode zur Porenabdichtung
zu schaffen, bei der die isolierende Auskleidung durch thermi
sches Spritzen eines Keramikmaterials, in einer relativ einfa
chen Behandlung und Beschaffenheit, gebildet wird.
Es ist ein anderes Ziel der vorliegenden Erfindung,
einen elektrokorrosionsbeständigen Wälzlageraufbau vorzusehen,
der eine exzellente elektrische Isolationseigenschaft aufweist
und in dem aufgrund der Vereinfachung eines thermischen Spritz
prozesses die Anzahl der Bearbeitungsschritte und die Bearbei
tungszeit vorteilhaft reduziert werden kann, während eine aus
reichende Haftfähigkeit der isolierenden Auskleidung an dem La
gerring oder eine Beständigkeit vor Abblättern sichergestellt
wird, die andernfalls während einer Presspassung auftritt, so
wie um ein Auftreten eines Grates in der thermisch bespritzten
Auskleidung bei gegenüberliegenden Endflächen auf einer Seite
mit großem Durchmesser während einer Bearbeitung zu vermeiden.
Außerdem ist ein weiteres Ziel der vorliegenden Er
findung, einen elektrokorrosionsbeständigen Lageraufbau und ein
Verfahren zur Herstellung der äußeren Laufrille vorzusehen, wo
bei eine Variation und ein Fehler in der Dicke der mit Keramik
bespritzten isolierenden Auskleidung, die gebildet ist, um ge
genüberliegende Endflächen und eine äußere periphere Oberfläche
einer äußeren Laufrille zu bedecken, minimalisiert sind, so
dass eine günstige Maßgenauigkeit, Rotationsgenauigkeit und ex
zellente elektrische Isolationseigenschaften sichergestellt
werden können.
Die Aufgabe wird durch die Vorrichtung bzw. das Verfahren
nach den unabhängigen Patentansprüchen gelöst; vorteilhafte
Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen be
schrieben.
Ein mit Keramik bespritzter Lagerring ist entspre
chend eines ersten Aspektes der vorliegenden Erfindung ein La
gerring, der eine mit Keramik bespritzte Isolationsschicht auf
weist, die durch ein thermisches Spritzverfahren entstanden
ist, welches dadurch gekennzeichnet ist, dass Poren, die in der
mit Keramik bespritzten Isolationsschicht auftreten, durch ein
feinverteiltes anorganische Pulver abgedichtet werden.
Im allgemeinen hat anorganisches Material physikali
sche Eigenschaften, die es weniger empfindlich gegenüber
Schwankungen in Umweltbedingungen, wie zum Beispiel Temperatur
und relativer Luftfeuchtigkeit, machen. Wenn aus diesem Grund
das feinverteilte anorganische Pulver als Abdichtungsmaterial
benutzt wird, kann eine stabilisierende Porenabdichtung durch
geführt werden, ohne Notwendigkeit, streng die Bedingungen des
Materials, wie Temperatur, Behandlungsdruck und so weiter, zu
beachten. Folglich kann durch Stabilisierung des Porenabdich
tungsprozesses elektrisch leitendes Material, das in die mit
Keramik bespritzte Isolationsschicht eindringt, zum Beispiel
gasförmige oder flüssige elektrisch leitende Materialien wie
etwa eine Dampfkomponente und/oder eine Feuchtigkeitskomponen
te, die in der umgebenden Atmosphäre des Lagerrings vorhanden
sind, abgeschirmt werden, um eine geeignete elektrische Isolie
rungsleistung sicherzustellen. Auch ist ein Durchführen der Po
renabdichtung hinreichend einfach, und die Poren können durch
einen relativ einfachen Prozess abdichtet werden, wodurch der
Bearbeitungsaufwand reduziert wird.
Ein Verfahren zur Abdichtung einer mit Keramik be
spritzten Isolationsschicht entsprechend eines zweiten Aspektes
der vorliegenden Erfindung enthält die Schritte zur Imprägnie
rung der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht, die auf ei
ner Oberfläche eines Werkstücks durch die Benutzung eines ther
mischen Spritzverfahren gebildet wird, mit einer flüssigen Mi
schung eines organischen Lösungsmittels sowie mit einem fein
verteilten anorganischen Pulver, damit die flüssige Mischung in
die Poren eindringt; und Ruhen lassen der mit Keramik bespritz
ten Isolationsschicht oder Erwärmen der mit Keramik bespritzten
Isolationsschicht, so dass nach dem Verflüchtigen der organi
schen Lösungsmittel Partikel des feinverteilten anorganischen
Pulvers innerhalb der Poren verbleiben.
Gemäß diesem Aspekt, bei dem die flüssige Mischung
der flüchtigen organischen Lösungsmittel mit dem feinverteilten
anorganischen Pulver zur Imprägnierung eingesetzt wird, kann
das feinverteilte anorganische Pulver einfach in die Poren der
mit der Keramik bespritzten Isolationsschicht eindringen, und
durch das Zulassen, dass sich das Lösungsmittel verflüchtigt,
können nur feinverteilte Partikel des anorganischen Pulvers in
nerhalb der Poren verbleiben. Dadurch kann mit einem verein
fachten Prozess eine stabilisierte Abdichtung erreicht werden.
Ein elektrokorrosionsbeständiger Wälzlageraufbau
weist entsprechend eines dritten Aspektes der vorliegenden Er
findung einen Lagerring auf, der eine periphere Oberfläche be
sitzt, die so angepasst ist, dass sie in engem Kontakt mit ei
nem Gehäuse oder einer Welle gehalten wird, wobei der Lagerring
eine Belastungsseite und eine Nichtbelastungsseite an gegenü
berliegenden Endflächen aufweist, und eine auf dem Lagerring
gebildete Beschichtung, so dass die gegenüberliegenden Endflä
chen und die periphere Oberfläche davon bedeckt sind. Ein Be
reich dieser Beschichtung, der die periphere Oberfläche des La
gerrings bedeckt, ist von einer mehrschichtigen Struktur, die
eine mit Keramik bespritzte Isolationsschicht und eine Metall
schicht aufweist. Ein anderer Bereich der Beschichtung, der
die nichtbelastete (nichtbelastungsseitige) Endfläche des La
gerrings bedeckt, besitzt eine kleinere Anzahl von Schichten
als die mehrschichtige Struktur mit der mit Keramik bespritzten
Isolationsschicht, die ganz außen liegt. Ein weiterer Bereich
der Beschichtung, der die belastete (belastungsseitige) Endflä
che bedeckt, ist von derselben mehrschichtigen Struktur, welche
die äußere periphere Oberfläche des Lagerrings bedeckt.
Folglich kann, da die Anzahl der Schichten dieses Be
schichtungsbereiches, welcher die nichtbelastete Endfläche des
Lagerrings bedeckt, auf einen Wert reduziert sein, der kleiner
als der der mehrschichtigen Struktur ist, die die periphere O
berfläche des Lagerrings bedeckt, d. h., da ein Bereich der be
spritzten Schicht reduziert ist, der thermische Spritzprozess
ebenfalls entsprechend vermindert wird, so dass es ermöglicht
wird, die Anzahl der Prozessschritte und die Bearbeitungszeit
zu reduzieren, und dementsprechend kann der Aufwand reduziert
werden. Der Bereich, wo die Schichtenanzahl der bespritzten
Schicht reduziert ist, ist derjenige Bereich, der die nichtbe
lastete Endfläche des Lagerrings bedeckt, und in demjenigen Be
reich, wo die Anzahl der Schichten reduziert ist, bleibt die
mit Keramik bespritzte Isolationsschicht die äußerste Schicht,
und dementsprechend besteht kein Problem mit nichtausreichender
Stärke der Beschichtung und es kann während der Benutzung des
Lageraufbaus und/oder dessen Anbringen eine ausreichende elekt
rische Isolationseigenschaft sichergestellt werden. Folglich
kann, während keinerlei Reduktion der Funktionalität der Be
schichtung entsteht, Aufwand durch Reduktion der bespritzten
Schichten reduziert werden.
Der elektrokorrosionsbeständige Lageraufbau ist, ent
sprechend einem vierten Aspekt der vorliegenden Erfindung, ein
elektrokorrosionsbeständiger Lageraufbau, bei dem eine äußere,
auf einem Lagergehäuse zu befestigende Laufrille eine äußere
periphere Oberfläche sowie erste und zweite gegenüberliegende
Endflächen aufweist, und eine Beschichtung, die auf der äußeren
Laufrille gebildet ist, so dass diese von der ersten Endfläche
zu der zweiten Endfläche die äußere periphere Oberfläche be
deckt. Die Beschichtung weist eine mit Keramik bespritzte Iso
lationsschicht auf, die durch ein thermisches Spritzverfahren
und eine metallische Schicht gebildet ist. Dieser elektrokor
rosionsbeständige Lageraufbau ist gekennzeichnet dadurch, dass
eine Referenzebene zum Abschleifen der äußeren peripheren Ober
fläche und der ersten und zweiten Endfläche der äußeren Lauf
rille durch eine innere periphere Oberfläche der äußeren Lauf
rille definiert ist.
Entsprechend dieses Aspektes müssen, wenn nachträg
lich die Beschichtung thermisch aufgespritzt wurde, die Endflä
chen und die äußere periphere Oberfläche der äußeren Laufrille
geschliffen werden, und die äußere Laufrille kann dem Schleif
prozess unterworfen werden, wobei die äußere Laufrille durch
die Referenzebene abgestützt ist, die an seiner inneren peri
pheren Oberfläche definiert ist. Selbst wenn daher mögliche Va
riationen mögliche Variation und Fehler der Schichtdicke der
mit Keramik bespritzten Isolation in der Phase der Beschichtung
der äußeren Laufrille auftreten, kann die aufgetragene Be
schichtung auf den Endflächen und der äußeren peripheren Ober
fläche der äußeren Laufrille auf eine erforderliche Schichtdi
cke geschliffen werden, und dementsprechend weist der elektro
korrosionsbeständige Lageraufbau eine günstige Maßgenauigkeit
sowie eine Rotationsgenauigkeit auf, und eine elektrische Iso
lierungseigenschaft kann erhalten werden.
Ein Verfahren zur Herstellung einer äußeren Laufrille
für einen elektrokorrosionsbeständigen Lageraufbau entsprechend
eines fünften Aspektes der vorliegenden Erfindung ist ein Ver
fahren zur Herstellung der äußeren Laufrille für den elektro
korrosionsbeständigen Lageraufbau, der in der Form eines koni
schen Wälzlageraufbaus ist. Dieses Verfahren weist einen ersten
Prozess zur Herstellung der äußeren Laufrille auf, der die
Schritte zur Bildung einer inneren peripheren Oberfläche in ei
nem Laufring enthält, welcher eine konisch zulaufende Oberflä
che bildet, und Bilden einer Beschichtung, die eine mit Keramik
bespritzte Isolationsschicht aufweist, die durch ein thermi
sches Spritzverfahren erreicht wird, sowie eine metallische
Schicht, die sich von einer Endfläche zu der gegenüberliegenden
Endfläche der äußeren Laufrille über eine äußere periphere O
berfläche derselben erstrecken; und einen zweiten Prozess des
Abschleifens der Endflächen und der äußeren peripheren Oberflä
che der äußeren Laufrille, die dann dem ersten Prozess unter
worfen waren, unter Benutzung einer in den Laufring eingreifen
den Einspannvorrichtung (Lehre), welche eine konische Oberflä
che aufweist, wobei die äußere Laufrille dem ersten Prozess un
terworfen war und, der Laufring als Referenzebene benutzt wird.
Mit dieser Methode kann, da der Laufring der äußeren
Laufrille, der eine konische Oberfläche aufweist, als Referenz
oberfläche benutzt wird, ohne die Notwendigkeit einer speziel
len Referenzoberfläche auf der äußeren Laufrille im konischen
Wälzlageraufbau, ein präzises Schleifen erreicht werden. Aus
diesem Grund kann mit einer vereinfachten Methode derjenige Be
reich der Beschichtung, der die Endflächen und äußere periphere
Oberfläche der äußeren Laufrille überdeckt, auf eine erforder
liche Schichtdicke geschliffen werden, und dementsprechend
weist der elektrokorrosionsbeständige, konische Wälzlageraufbau
eine günstige Maßgenauigkeit sowie eine Rotationsgenauigkeit
auf, und eine elektrische Isolierungsleistung kann hergestellt
werden.
Ein Verfahren zur Herstellung einer äußeren Laufril
le für einen elektrokorrosionsbeständigen Lageraufbau entspre
chend eines sechsten Aspektes der vorliegenden Erfindung ist
ein Verfahren zur Herstellung der äußeren Laufrille für den e
lektrokorrosionsbeständigen Lageraufbau. Diese Methode weist
einen ersten Prozess zur Herstellung der äußeren Laufrille auf,
welcher einen Schritt zur Bildung einer inneren peripheren O
berfläche in einem Laufring aufweist, und einen Schritt zur De
finition einer Referenzoberfläche, die eine zylindrische Ober
fläche ist, die mit einer äußeren peripheren Oberfläche auf ei
ner inneren Peripherie konzentrisch ist; und einen zweiten Pro
zess des Schleifens gegenüberliegender Endflächen und der äuße
ren peripheren Oberfläche der äußeren Laufrille, die dem ersten
Prozess unterworfen war, durch Benutzung einer Lehre bzw. Ein
spannvorrichtung, die mit der Referenzoberfläche in Eingriff
treten kann.
Entsprechend dieser Methode können die gegenüberlie
genden Endflächen und die äußere periphere Oberfläche der äuße
ren Laufrille geschliffen werden, während die zu bearbeitende,
äußere Laufrille mit der Referenzebene abgestützt wird, die
durch die zylindrische Oberfläche beschrieben wird, die in ei
ner inneren Peripherie der äußeren Laufrille in konzentrischer
Beziehung mit der äußeren peripheren Oberfläche der äußeren
Laufrille definiert ist. Jener Bereich der mit Keramik be
spritzten Isolationsschicht, der die Endflächen und die äußere
periphere Oberfläche der äußeren Laufrille bedeckt, kann aus
diesem Grund bis zu einer erforderlichen Schichtdicke geschlif
fen werden, und dementsprechend weist der elektrokorrosionsbe
ständige Lageraufbau eine günstige Maßgenauigkeit sowie eine
Rotationsgenauigkeit auf und eine elektrische Isolierungsleis
tung kann hergestellt werden.
Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung
werden deutlicher durch die folgende Beschreibung bevorzugter
Ausführungsbeispiele der Erfindung in Verbindung mit den anlie
genden Zeichnungen. Bei den anliegenden Zeichnungen bezeichnen
identische Bezugszeichen identische Komponenten in den ver
schiedenen Ansichten, und
Fig. 1 ist ein erläuterndes Diagramm, das einen
Längsschnitt eines mit Keramik bespritzten Lagerrings zeigt,
entsprechend eines ersten bevorzugten Ausführungsbeispiels der
vorliegenden Erfindung, und eine davon vergrößerte konzeptio
nelle Ansicht eines Bereichs;
Fig. 2 ist ein Längsschnitt des mit Keramik be
spritzten Lagerrings entsprechend eines zweiten bevorzugten
Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung;
Fig. 3 ist ein Längsschnitt des mit Keramik be
spritzten Lagerrings entsprechend eines dritten bevorzugten
Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung;
Fig. 4 ist ein Längsschnitt der mit Keramik be
spritzten Lagerrings entsprechend eines vierten bevorzugten
Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung;
Fig. 5 ist eine teilweise Längsansicht, welche die
Poren konzeptionell zeigt, die in dem mit Keramik bespritzten
Lagerring vorliegen;
Fig. 6A und 6B sind schematische Diagramme, die
eine der Poren in dem mit Keramik bespritzten Lagerring vor be
ziehungsweise nach dem Abdichten zeigen;
Fig. 7 ist ein schematisches Diagramm, das den Ab
lauf eines verwendeten Porenabdichtungsprozesses in der vorlie
genden Erfindung zeigt;
Fig. 8 ist eine schematische Längsansicht, die ein
erhaltenes Ergebnis nach der Wiederabdichtung der Poren konzep
tionell zeigt;
Fig. 9 ist ein teilweiser Längsschnitt eines elekt
rokorrosionsbeständigen Wälzlageraufbaus entsprechend eines
fünften bevorzugten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Er
findung;
Fig. 10 ist ein Längsschnitt eines Lagersystems, das
die elektrokorrosionsbeständigen Wälzlageraufbauten verwendet;
Fig. 11A ist ein teilweiser Längsschnitt, der bei
vergrößertem Maßstab eine äußere Laufrille des elektrokorrosi
onsbeständigen Wälzlageraufbaus zeigt;
Fig. 11B ist eine gleichartige Ansicht wie Fig.
11A, die eine äußere Laufrille des konventionellen Wälzla
geraufbaus zeigt;
Fig. 12 ist eine gleichartige Ansicht wie Fig. 11A,
die ein sechstes bevorzugtes Ausführungsbeispiel der vorliegen
den Erfindung zeigt;
Fig. 13 ist ein teilweiser Längsschnitt von eines
Lageraufbaus entsprechend eines siebten bevorzugten Ausfüh
rungsbeispiels der vorliegenden Erfindung;
Fig. 14 ist ein erläuterndes Diagramm, das den Ab
lauf eines Schleifprozesses zeigt, der auf die äußere Laufrille
des elektrokorrosionsbeständigen Wälzlageraufbaus entsprechend
eines achten bevorzugten Ausführungsbeispiels der vorliegenden
Erfindung angewendet wird;
Fig. 15 ist eine Längsansicht des elektrokorrosions
beständigen Wälzlageraufbaus entsprechend einem achten bevor
zugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
Fig. 16 ist ein teilweiser Längsschnitt, der bei
vergrößerten Maßstab einen Bereich der äußeren Laufrille des
elektrokorrosionsbeständigen Wälzlageraufbaus zeigt, die in
Fig. 15 gezeigt wurde;
Fig. 17 ist ein Längsschnitt der äußeren Laufrille
des elektrokorrosionsbeständigen Wälzlageraufbaus entsprechend
eines neunten bevorzugten Ausführungsbeispiels der vorliegenden
Erfindung;
Fig. 18 ist ein erläuterndes Diagramm, das den Ab
lauf des Schleifprozesses zeigt, der in der äußeren Laufrille
des elektrokorrosionsbeständigen Wälzlageraufbaus angewendet
wird, die in Fig. 17 gezeigt wurde;
Fig. 19 ist ein Längsschnitt, der die äußere Lauf
rille des elektrokorrosionsbeständigen Wälzlageraufbaus ent
sprechend eines zehnten bevorzugten Ausführungsbeispiels der
vorliegenden Erfindung zeigt;
Fig. 20 ist ein Längsschnitt eines selbstausrichten
den Wälzlageraufbaus, der ein Beispiel des elektrokorrosionsbe
ständigen Wälzlageraufbaus ist;
Fig. 21 ist ein Längsschnitt eines selbstausrichten
den Kugellageraufbaus, der ein Beispiel des elektrokorrosions
beständigen Wälzlageraufbaus ist;
Fig. 22 ist ein teilweiser Längsschnitt des elektro
korrosionsbeständigen Wälzlageraufbaus entsprechend eines elf
ten bevorzugten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfin
dung; und
Fig. 23A und 23B sind teilweise Längsschnitte ei
ner äußeren Laufrille eines aus dem im Stand der Technik be
kannten Wälzlageraufbaus.
Ein erstes und zweites Ausführungsbeispiel der vor
liegenden Erfindung wird zuerst mit Bezug auf die anliegenden
Zeichnungen beschrieben.
Wie in Fig. 1 gezeigt, enthält ein mit Keramik be
spritzter Lagerring 1, wie drin gezeigt, eine mit Keramik be
spritzte Isolationsschicht 3, die durch die Benutzung eines
thermischen Spritzverfahrens auf einer Oberfläche eines Lager
ringelements 2 gebildet ist, das aus Stahl hergestellt wurde.
Wie konzeptionell in einem Kreis bei einem vergrößerten Maßstab
im oberen rechten Bereich der Zeichnung gezeigt wird, um
schließt dieser Kreis einen Bereich der mit Keramik bespritzte
Isolationsschicht 3, gezeigt durch A, Poren 4 in der mit Kera
mik bespritzte Isolationsschicht 3, die durch feinverteilte an
organische Partikel abgedichtet sind. Der dargestellte Lager
ring 1 dient zum Beispiel als äußere Laufrille eines Wälzla
geraufbaus.
Obwohl in dem in Fig. 1 gezeigten Beispiel der La
gerring 1 als eine äußere Laufrille (Lauf- bzw. Lagerring) ei
nes zylindrischen Wälzlageraufbaus gezeigt worden ist, kann die
vorliegende Erfindung ebenso auf die äußere Laufrille eines
Rillenkugellageraufbaus, wie in Fig. 3 gezeigt, angewendet
werden. Der Lagerring 1 braucht nicht immer von der äußeren
Laufrille begrenzt sein, sondern könnte eine innere Laufrille
(Lauf- bzw. Lagerring) des zylindrischen Wälzlageraufbaus oder
des Rillenkugellageraufbaus sein, wie in Fig. 2 oder 4 ge
zeigt. Wo der Lagerring 1 die äußere Laufrille bildet, ist die
mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 3 abgelagert worden,
um den gesamten äußeren Oberflächenbereich der äußeren Laufril
le einschließlich gegenüberliegender Endflächen und eine äußere
periphere Oberfläche davon zu bedecken, während, wo der Lager
ring 1 die innere Laufrille bildet, wird die mit Keramik be
spritzte Isolationsschicht 3 abgelagert, um den gesamten inne
ren Oberflächenbereich der inneren Laufrille einschließlich ge
genüberliegender Endflächen und eine innere periphere Oberflä
che davon zu bedecken. Wenn der Lagerring 1, der die mit Kera
mik bespritzte Isolationsschicht 3 aufweist, zusammen mit der
inneren Laufrille oder der äußeren Laufrille sowie Wälzelemen
ten kombiniert wird, kann ein elektrokorrosionsbeständiger
Wälzlageraufbau entstehen.
Ein Abdichtungsprozess zur Abdichtung von Poren in
der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht 3 wird nun be
schrieben. Wie konzeptionell in Fig. 5 gezeigt ist, hat die
mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 3, die auf einer Ober
fläche eines Werksstücks 2A durch die Benutzung eines thermi
schen Spritzverfahren gebildet wurde, eine Vielzahl von Poren
4, die zwischen gespitzten pulvrigen Partikeln 6 gebildet wer
den, die unzureichend geschmolzen worden sind. Das gezeigte
Werkstück 2A repräsentiert das Lagerringelement 2, das in Fig.
1 gezeigt ist. Wie in Fig. 6A gezeigt, könnten einige der Po
ren 4 sich vollständig über die Dicke der mit Keramik bespritz
ten Isolationsschicht 3 ausdehnen sowie mit entsprechenden O
berflächenbereichen des Werkstücks 2A, infolgedessen mit der
Atmosphäre, in Kontakt stehen.
Eine Mischung eines hochflüchtigen organischen Lö
sungsmittels wie zum Beispiel Aceton, Ethanol, Alkohol oder
dergleichen mit einem feinverteilten Pulver von anorganischem
Material, wie zum Beispiel Kieselerde oder Keramik, etwa Alumi
niumoxid oder dergleichen, wird in die Poren 4 imprägniert, wie
in Fig. 7(A) gezeigt, und danach wird das Werkstück 2A ruhen
gelassen oder erwärmt, um das organische Lösungsmittel zu ver
flüchtigen, wie in Fig. 7(B) gezeigt ist, so dass nur die
feinverteilten anorganischen Partikel 5, aufgefüllt in den Po
ren 4, erhalten bleiben.
In der Folge können, da die Poren 4 mit dem feinver
teilten anorganischen Partikel 5 aufgefüllt worden sind, wie in
Fig. 6B gezeigt, die Poren 4 im wesentlichen vollständig abge
dichtet werden. Dementsprechend kann elektrisch leitendes Ma
terial, das in die mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 3
eindringen würde, wie etwa gasförmige oder flüssige elektrisch
leitende Materialien, z. B. eine Dampfkomponente und/oder eine
Feuchtigkeitskomponente aus der Atmosphäre, vorteilhaft abge
schirmt werden, um eine geeignete elektrischen Isolierungsleis
tung sicherzustellen.
Das anorganische Material wird im Allgemeinen nicht
physikalisch durch Veränderung in Umgebungsbedingungen wie Tem
peratur und/oder relativer Luftfeuchtigkeit beeinflusst und
würde deshalb, falls es in der Form eines Pulvers 5 benutzt
wird, der Unterschied in elektrischer Isolierungsleistung, wel
cher durch Materialaspekte beeinflusst wird, außer Betracht ge
lassen. Auch während eines Imprägnierungsschrittes des Abdich
tungsprozesses kann ein Phänomen eingesetzt werden, in welche
kapillare Wirkung angewendet wird, um es der Mischung der orga
nischen Lösungsmittel mit dem feinverteilten anorganischen Par
tikel zu erlauben, die Pore 4 unter der Atmosphärenbedingung zu
imprägnieren. Dementsprechend kann, im Vergleich zu der Benut
zung einer atmosphärischen Imprägnierungsvorrichtung, eine Im
prägnierung mit der Mischung mit einem vereinfachten Prozess
erreicht werden, und aus diesem Grund kann die Anzahl der Din
ge, die während des Prozesses gesteuert werden, zum Beispiel
die Konzentration der Mischung, die Prozesstemperatur und der
gleichen andere, vorteilhaft reduziert werden, mit der Konse
quenz, dass jede Variation des Prozesses selbst unterdrückt
werden kann. Außerdem kann, da es ein vereinfachter Prozess
ist, der notwendige Aufwand durch Durchführen des die Prozess
ebenfalls reduziert werden.
Folglich ist es möglich, da das Material zur Abdich
tung der Poren 4 in der Form von feinverteilten anorganischen
Partikel aus Keramik oder dergleichen vorliegt, jede Variation
des Materials selbst kontrolliert zu unterdrücken, und der ver
wendete Prozess von einer Art ist, der es erlaubt unter norma
len Atmosphärenbedingungen durchgeführt zu werden, zur Redukti
on von Faktoren beizutragen, die sonst zu mechanischen Fehlern
in der Bearbeitungsvorrichtung und zu erhöhtem Bearbeitungsauf
wand führen würden.
Ein experimentelles Beispiel wird nun beschrieben.
Unter Benutzung einer äußeren Laufrille eines zylindrischen
Wälzlageraufbaus, gezeigt in Fig. 1, und einer äußeren Lauf
rille eines Rillenkugellageraufbaus nach Fig. 3 für den Lager
ring 1, wird eine mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 3,
die auf einer äußeren Peripherie von jeder der äußeren Laufril
len, wie in den Fig. 1 und 3 gezeigt, durch Mittel eines
thermischen Spritzverfahrens gebildet. Diese äußeren Laufril
len weisen passend eine mit Keramik bespritzte Isolations
schicht 3 auf, die danach dem Abdichtungsprozess unterworfen
wird. Besonders während dieses Abdichtungsprozess wird eine
Lösung, die eine Mischung eines organischen Lösungsmittels und
ein feinverteiltes Pulver von Aluminiumoxid enthält, impräg
niert, und das organische Lösungsmittel, wird verflüchtigt, wie
unter Bezugnahme auf das vorhergehende Ausführungsbeispiel be
schrieben. Die feinverteilten Aluminiumoxidpartikel haben eine
Partikelgröße von 0.05 bis 20 µm.
Als ein Ergebnis dieses Abdichtungsprozesses hat sich
gezeigt, dass der Isolierungswiderstand gleich oder größer als
100 MΩ/500 V Last bei jeder dieser äußeren Laufrillen erhalten
werden konnte.
Wo es gewünscht ist, dass die Isolationsleistung wei
ter zunimmt, ist das Verfahren, das nun beschrieben wird, an
wendbar. Obwohl die Poren mit dem feinverteilten anorganischen
Partikel 5 abgedichtet werden, bleiben feinere Poren zwischen
den feinverteilten anorganischen Partikeln 5 übrig, die dann
als Poren aufzufüllen sind. In diesem Fall kann, nachdem die
Poren durch die Verwendung der Mischung des organischen Lö
sungsmittel mit der feinverteilten anorganischen Partikel abge
dichtet worden sind, ein harziges Material (ein synthetischer
Harz), das imstande ist, sich von einer flüssigen Phase zu ei
ner festen (solid) Phase umzuwandeln, effektiv verwendet wer
den, um eine Abdichtung der Poren zu erreichen. Die Benutzung
des synthetischen Harzes 7, um die feinverteilten anorganischen
Partikel 5 innerhalb der Poren 4 zu verankern, während Zwi
schenräume zwischen den feinverteilten anorganischen Partikeln
5 gefüllt werden, ist wirksam, um die Porenabdichtung zu
verbessern. Der sekundäre Abdichtungsprozess kann, während das
harzige Material verwendet wird, auf das oben Bezug genommen
wurde, zu einen zusätzlichen Vorteil führen, so dass die fein
verteilten anorganischen Partikel 5, die während des primären
Abdichtungsprozesses zum Auffüllen der Poren benutzt werden,
nur noch schwer aus den Poren 4 herausgespült werden können.
Dementsprechend kann die elektrische Isolierungsleistung zuneh
men.
Fig. 8 zeigt die Beschaffenheit womit, als Ergebnis
des sekundären Abdichtungsprozesses, das synthetische Harz 7
die feinverteilten anorganischen Partikel 5 innerhalb jeder Po
re 4 verankert, während Zwischenräume zwischen den feinverteil
ten anorganischen Partikeln 5 aufgefüllt werden. Es ist zu be
tonen, obwohl das synthetische Harz 7, wie hierin gezeigt, in
die ganze Pore 4 eindringt, das synthetische Harz 7 nicht not
wendigerweise in einen tiefen Bereich 4a von jeder angrenzenden
Pore 4 des Lagerrings eindringen muss, aber es konnte in jede
Pore 4 eindringen, in einem solchen Umfang, um einen offenen
Bereich 4b von jeder entfernten Pore 4 aus dem Lagerringelement
2 abzudecken.
Während der vorhergehende Lagerring als ein Lagerring
für und von verschiedenen Maschinen, Ausrüstungen und Bestand
teile benutzt werden kann, könnte es eine äußere oder innere
Laufrille eines Wälzlageraufbaus sein. In diesem Fall kann der
elektrokorrosionsbeständige Lageraufbau, der eine exzellente
elektrische Isolierungsleistung aufweist, hergestellt werden.
Nachstehend wird ein dritter Aspekt (Ausführungsbei
spiel) der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die Fig. 9
bis 11A beschrieben.
Der darin gezeigte elektrokorrosionsbeständige Wälz
lageraufbau 8 weist innere und äußere Laufrillen 9 und 10 auf,
die innere und äußere Lagerringe bilden, wobei eine Mehrzahl
von Wälzelementen 12 zwischen den inneren und äußeren Laufril
len 9 und 10 liegt, während sie an einem Käfig bzw. einer Auf
nahme 11 befestigt sind. Die äußere Laufrille 10 weist auf
seinem gesamten äußeren Oberflächenbereich eine Beschichtung 13
auf. Dieser Lageraufbau 8 ist in der Form eines konisch zulau
fenden Wälzlageraufbaus, und infolgedessen hat die innere Lauf
rille 9 seine gegenüberliegenden Enden einstückig mit entspre
chenden Rippen 9a und 9b gebildet, während die äußere Laufrille
10 ohne Rippe (Kragen, collar) ist. Die Walzelemente 12 sind
in der Form einer konisch zulaufenden Walze ausgebildet.
Die Beschichtung 13 an der äußeren Laufrille 10 be
deckt den gesamten äußeren Oberflächenbereich der äußeren Lauf
rille 10, einschließlich einer äußeren peripheren Oberfläche
10a und gegenüberliegenden Endflächen 10b und 10c. Wie bei
vergrößertem Maßstab in Fig. 11A gezeigt, bildet ein Bereich
13a der Beschichtung 13, der auf der äußeren peripheren Ober
fläche 10a der äußeren Laufrille 10 abgelagert ist, und ein an
derer Bereich 13b der Beschichtung 13, der auf einer belas
tungsseitigen Endfläche 10b der äußeren Laufrille 10 abgelagert
ist, eine dreischichtige Struktur, einschließlich einer metal
lischen Schicht 14, welche die innerste Schicht ist, einer mit
Keramik bespritzten Isolationsschicht 15, welche eine Zwischen
schicht ist, und einer metallischen Schicht 16, welche die äu
ßerste Schicht ist. Ein weiterer Bereich 13c der Beschichtung
13, der auf einer nichtbelastungsseitigen Endfläche 10c der äu
ßeren Laufrille 10 abgelagert ist, besitzt eine Anzahl von
Schichten, die um eine weniger als der Rest der Beschichtung 13
ist und eine doppelschichtige Struktur bildet, einschließlich
einer metallischen Schicht 14 als innerste Schicht und einer
mit Keramik bespritzten Isolationsschicht 15 als äußerste
Schicht. Mit anderen Worten kann eine metallische Schicht, die
der metallischen äußeren Schicht 16 entspricht, aus den Berei
chen 13a und 13c der Beschichtung 13 weggelassen werden, die
auf der äußeren peripheren Oberfläche 10a und der nichtbelas
tungsseitigen Endfläche 10c abgelagert sind. Aufgrund der
Struktur der konisch zulaufenden Lagerstruktur, ist eine der
gegenüberliegenden Endflächen der äußeren Laufrille 10 der ei
nen kleineren Durchmesser aufweisenden Seite als belastungssei
tige Endfläche 10b definiert, wobei die andere der gegenüber
liegenden Endflächen der äußeren Laufrille 10 auf einer einen
großen Durchmesser aufweisenden Seite die nichtbelastungsseiti
ge Endfläche 10c definiert.
Obwohl jeweilige Ecken, definiert zwischen der äuße
ren peripheren Oberfläche 10a der äußeren Laufrille 10 und den
gegenüberliegenden Endflächen 10b und 10c abgeschrägt sind,
könnte die abgeschrägte Ecke, definiert zwischen der äußeren
peripheren Oberfläche 10a und der nichtbelastungsseitige End
fläche 10c, entweder eine doppelschichtige Beschichtung, wie es
der Fall mit dem Bereich 13c auf der belastungsseitige Endflä
che 10c ist, oder eine dreischichtige Beschichtung aufweisen,
wie es im Fall der Bereichs 13a auf der äußeren peripheren O
berfläche 10a der äußeren Laufrille 10 ist.
Wo die Beschichtung 13 der dreischichtigen Struktur
verwendet wird, bilden die metallischen Schichten 14 und 16 und
die mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 15 eine thermisch
bespritzte Schicht. Die äußerste Metallschicht 16 könnte eine
bearbeitete Oberfläche aufweisen. Mit anderen Worten, die me
tallische Schicht 16 ist thermisch, einschließlich einer
Schleifzugabe, auf eine Dicke bespritzt und wird, nachdem es
thermisch bespritzt wurde, bearbeitet oder geschliffen, um eine
äußere diametrale Oberfläche einer erforderlichen Abmessung zu
bilden.
Das thermische Spritzen ist ein Prozess zur Bildung
einer Oberflächenschicht durch Schmelzen eines Materials (pulv
rig oder stabförmig oder dergleichen), das bei einer ultrahohen
Temperatur zum Spritzen verwendet wird; das Herausspritzen der
Schmelze gegen das Werkstück bildet dadurch die Oberflächen
schicht. Damit jedoch die Haftfähigkeit zunimmt, ist es wün
schenswert, eine thermische Spritzvorrichtung von einer Art zu
verwenden, die eine relativ hohe (ultrahohe) Strahlgeschwindig
keit sowie eine ultrahohe Temperatur erreichen kann, um auch
geeignete Spritzbedingungen zu schaffen und zu verwenden.
Jede der metallischen Schichten 14 und 16 und die mit
Keramik bespritzte Isolationsschicht 15 werden sämtlichst in
Form der thermisch bespritzten Schicht gebildet und enthalten
darin die feinen Poren; und deshalb wird nach dem thermischen
Spritzen der vorher erwähnte Abdichtungsprozess durchgeführt.
Ein Keramikmaterial, das für die mit Keramik be
spritzte Isolationsschicht 15 verwendet werden kann, weist me
tallische Oxide auf wie zum Beispiel Aluminiumoxid (Al2O3),
graues Aluminiumoxid, Titanoxid (TiO2) oder Chromoxid (Cr2O3),
oder ein gemischtes Metalloxid, das eines von diesen als ein
Basismaterial enthält.
Ein Material für jede der metallischen Schichten 14
und 16 enthält Al, Ni, Cr oder Fe oder ein gemischtes Material,
das eine Mischung von diesem aufweist. Bevorzugt ist das Mate
rial für jede der metallischen Schichten 14 und 16 von einer
Art, die relativ weich ist und eine Vicker-Härte Hv von nicht
größer als 450 zeigt, besser nicht größer als 300, nach dem
thermischen Spritzen. Jede der metallischen Schichten 14 und
16 ist ein nichtisolierendes Material und weist deshalb bevor
zugt eine elektrische Leitfähigkeit auf.
Fig. 10 illustriert ein Lagersystem, dass zwei e
lektrokorrosionsbeständige Wälzlageraufbauten 8 verwendet, wo
bei jeder Aufbau 8 in Fig. 9 gezeigt ist. Die zwei elektro
korrosionsbeständigen Wälzlageraufbauten 8 sind innerhalb eines
Gehäuses 17 in einer Weise mit ihrer hintersten Seite jeweils
gegenüberstehend angeordnet, während die jeweiligen Rückseiten
der Lageraufbauten 8, dass heißt die einen kleineren Durchmes
ser aufweisende Endfläche 10b der zugehörigen äußeren Laufril
len 10, in Abstützung mit den Rippen 17a gehalten werden, die
auf der inneren peripheren Oberfläche des Gehäuses 17 gebildet
sind. Die jeweiligen äußeren Laufrillen 10 der Lageraufbauten
8 sind pressgepasst an das Gehäuse 17 und sind infolgedessen an
der inneren peripheren Oberfläche des Gehäuses 17 befestigt.
Die jeweiligen inneren Laufrillen 9 der Lageraufbauten 8 sind
fest oder lose auf einer äußeren peripheren Oberfläche einer
Welle 18 angebracht. Die innere Laufrille 9 des rechtsseitigen
Lageraufbaus 8 ist, wie darin gezeigt, mit einem ringförmigen
Absatz 18a einer Stufe 18a, die auf der Welle 18 gebildet ist,
versehen, und die jeweiligen inneren Laufrillen 9 der Lagerauf
bauten 8 sind fest gegen den ringförmigen Absatz 18a mittels
eines männlichen Schraubenelements befestigt, oder mittels ei
nes Anschlagrings (nicht gezeigt) mit einem inneren Laufrillen-
Distanzstück 19, der zwischen der inneren Laufrille 9 und einem
anderen inneren Laufrillen-Distanzstück 20 vorgesehen ist.
Da bei den elektrokorrosionsbeständigen Wälzlagerauf
bauten 8, gezeigt in Fig. 9, die Beschichtung 13 von drei
schichtiger Struktur ist, mit metallischer Schicht 14, der mit
Keramik bespritzten Isolationsschicht 15 und der metallischen
Schicht 16, ist der Einfluss der mit Keramik bespritzten Isola
tionsschicht 15 zwischen der äußeren Laufrille 10 und dem Ge
häuse 17 wirksam für eine Isolierung dazwischen, und eine e
lektrische Isolationseigenschaft kann sichergestellt werden
zwischen dem Gehäuse 17 und der Welle 18, die innerhalb der in
neren Laufrille 9 eingeführt. Die innerste metallische Schicht
14 dient dazu, die Haftfähigkeit der mit Keramik bespritzten
Isolationsschicht 15 zu verbessern. Die äußerste metallische
Schicht 16 dient, zu verhindern, dass die mit Keramik bespritz
te Isolationsschicht 15 während einer Presspassung der äußeren
Laufrille in dem Gehäuse 17 abblättert, wenn die äußere Lauf
rille 10 in das Gehäuse 17 unter Presssitzpassung (interference
fit) eingefügt wird.
Ein Merkmal dieses Lageraufbaus 8 besteht darin, dass
die Anzahl der Schichten der Beschichtung 13 in dem Bereich 13c
auf der Nichtbelastungsseite einer Endfläche 10c der äußeren
Laufrille 10 kleiner ist als im Bereich 13a der Beschichtung
13, der auf der äußeren peripheren Oberfläche 10a der äußeren
Laufrille 10 abgelagert ist. Mit anderen Worten ist ein Be
reich der bespritzten Schichten gegenüber der dreischichtigen
Struktur der Beschichtung 13, wie in Fig. 11B gezeigt, redu
ziert. Dementsprechend kann der Spritzprozess entsprechend
vereinfacht werden, und die Anzahl der Prozessschritte und die
Bearbeitungszeit kann ebenfalls reduziert werden, was zu einer
Reduktion des Aufwands führt. Da die Position, wo die Anzahl
der bespritzten Schichten in diesem Bereich 13c reduziert ist,
wo es die nichtbelastungsseitige Endfläche 10c der äußeren
Laufrille 10 bedeckt, und ein Bereich der mit Keramik be
spritzten Isolationsschicht 15 bedeckt als äußerste Schicht in
diesem Bereich 13c verwendet wird, besteht kein Problem mit un
genügender Stärke der Beschichtung 13 während der Benutzung des
Lageraufbaus 8 und/oder dessen Montage, und eine ausreichende
elektrische Isolationseigenschaft kann sichergestellt werden.
Unter Vermeidung jeglicher möglicher Reduktion in Funktionali
tät der Beschichtung 13, kann folglich der Aufwand als Resultat
der Reduktion der bespritzten Schichten reduziert werden.
Auch im Fall des konischen Wälzlageraufbaus ist, da
die Kühlung während des Spritzprozesses, wie oben beschreiben,
verwendet wird, der Bereich 13c der Beschichtung 13 an der ei
nen großen Durchmesser aufweisenden Endfläche 10c der Gefahr
von Bildung von Graten während des Spritzprozesses ausgesetzt.
Da jedoch aufgrund dieses bevorzugten Ausführungsbeispiels der
vorliegenden Erfindung die Anzahl der Schichten der Beschich
tung 13 an der einen großen Durchmesser aufweisenden Endfläche
10c reduziert ist, wie oben im Detail diskutiert, können Grate
kaum entstehen.
Nachstehend werden die Resultate von Experimenten be
schrieben. Da ein Bereich der bespritzten Schichten eliminiert
ist, wurde eine Reihe von Tests durchgeführt, um die Anwesend
heit oder Abwesendheit von Rissen nach einem Fall auf einen Bo
den zu bestimmen, und auch um zu bestimmen, ob der Isolierungs
widerstand verringert wurde. Musterbeispiele bildeten die äu
ßere Laufrille 10, die in Verbindung mit dem Ausführungsbei
spiel bezogen auf Fig. 11A beschrieben worden ist, und die Be
schichtung 13 der äußeren Laufrille 10, die dreischichtige
Struktur, wie in Fig. 11B gezeigt, aufweist. Die Tests wurden
durch Fallenlassen der Musterbeispiele auf eine Eisenplatte von
einer Position 100 Millimeter hoch oberhalb der Eisenplatte
durchgeführt, und eine Bestimmung der Anwesendheit oder Abwe
sendheit von Rissen in der mit Keramik bespritzten Isolations
schicht 15 wurde in jedem der Musterbeispiele sowie eine Mes
sung des Isolierungswiderstands durchgeführt. Als Bereich von
jedem der äußeren Laufrillen 10, der zuerst auf die Eisenplatte
aufprallt, wenn ein Fallen von der Position 100 Millimeter hoch
oberhalb der Eisenplatte durchgeführt wurde, wird die abge
schrägte Ecke zwischen der äußeren peripheren Oberfläche 10a
und der einen großen Durchmesser aufweisenden Endfläche 10c
ausgewählt. Resultate dieser Tests werden in der in unteren
Tabelle 1 gezeigt.
Die Resultate der Messung, die in Tabelle 1 gezeigt
sind, zeigen klar, dass weder Risse noch eine Reduktion im Iso
lierungswiderstand gefunden wurde, als die äußeren Laufrillen
auf die Eisenplatte fallen gelassen worden sind, folglich be
weist dies, das beide äußere Laufrillen in der Praxis verwendet
werden können.
Es ist zur Kenntnis zu nehmen, dass, obwohl es in dem
vorher beschriebenen Ausführungsbeispiel beschrieben worden
ist, die Beschichtung 13 prinzipiell die dreischichtige Struk
tur aufweist, wobei ein Bereich 13a der Beschichtung 13A, der
die äußere periphere Oberfläche 10a der äußeren Laufrille 10
bedeckt und ein anderer Bereich 13b der Beschichtung 13A, der
die belastungsseitige Endfläche 10b der äußeren Laufrille 10
bedeckt, eine doppelschichtige Struktur aufweisen kann, die die
mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 15 verwendet als die
innerste Schicht und die metallische Schicht 16 als die äußers
te Schicht, wie in Fig. 12 gezeigt. In diesem Fall hat ein
weiterer Bereich 13c der Beschichtung 13A, der die nichtbelas
tungsseitige Endfläche 10c der äußeren Laufrille 10 bedeckt,
eine Anzahl der Schichten, die um eins weniger als an dem Be
reich 13a ist, der die äußere periphere Oberfläche 10a der äu
ßeren Laufrille 10 bedeckt, und folglich wurde nur die mit Ke
ramik bespritzte Isolationsschicht 15 dort abgelagert.
Da ferner im Falle dieses Ausführungsbeispiels die
bespritzte Schicht, die in direkt Kontakt mit der äußeren Lauf
rille 10 gehalten wird, die mit Keramik bespritzte Isolations
schicht 15 ist, sind Oberflächenbereiche 10a, 10b und 10c der
äußeren Laufrille 10, wo die mit Keramik bespritzte Isolations
schicht 15 durch den thermische Spritzprozess gebildet wurde,
bevorzugt durch Oberflächenbehandlung behandelt, um die Haftfä
higkeit zu erhöhen. Diese Oberflächenbehandlung könnte mittels
eines Sandstrahlverfahren zum Aufrauen der Oberflächenbereiche
10a, 10b und 10c der äußeren Laufrille 10 durchgeführt werden.
Wenn die Beschichtung 13 vorbereitet wird, um eine
doppelschichtige Struktur wie oben beschreiben aufzuweisen,
kann der Spritzprozess weiter vereinfacht werden. In diesem
Fall kann, da der Bereich 13c der Beschichtung 13, der die
nichtbelastungsseitige Endfläche 10c der äußeren Laufrille 10
bedeckt, eine einschichtige Struktur darstellt, erstellt durch
die mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 15, die Anzahl der
Prozessschritte und die Bearbeitungszeit demnach weiter redu
ziert werden, was zu einer Reduktion im Aufwand führt. In dem
Fall des konisch zulaufenden Wälzlageraufbaus wird, falls die
einen großen Durchmesser aufweisende Endfläche, dass heißt die
nichtbelastungsseitige Endfläche 10c der äußeren Laufrille 10,
vorbereitet, um die einschichtige Struktur der bespritzten
Schicht zu bilden, und es wird eine Bildung von Graten (burrs),
welche andernfalls aus dem Kühlen während des thermischen
Spritzens resultieren würde, wirksam verhindert.
Fig. 13 illustriert ein weiteres bevorzugtes Ausfüh
rungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Der darin gezeigte
elektrokorrosionsbeständiger Wälzlageraufbau 8A ist von der
Form eines zylindrischen Wälzlageraufbaus, wobei die innere
Laufrille 9A ohne Rippe ist, die äußeren Laufrille 10A gegenü
berliegende Enden aufweist, die mit jeweiligen Rippen gebildet
werden, und die Walzelemente 12A liegen in der Form von zylind
rischen Walzen vor.
Die Beschichtung 13A ist auf der äußeren Laufrillen
10A so gebildet, dass nicht nur die äußere periphere Oberfläche
10Aa der äußeren Laufrille 10A, sondern auch die gegenüberlie
genden Endflächen 10Ac und 10Ac zu bedecken sind. Ein Bereich
13Aa der Beschichtung 13A, der die äußere periphere Oberfläche
10Aa der äußeren Laufrille 10A bedeckt, repräsentiert eine
dreischichtige Struktur, die die innerste metallische Schicht
14, die äußerste metallische Schicht 16 und die mit Keramik be
spritzte Isolationsschicht 15 zwischen den äußersten und in
nersten metallischen Schichten 14 und 16 liegend aufweist. Ein
anderer Bereich 13Ac der Beschichtung 13A, die jede die nicht
belastungsseitige Endfläche 10Ac der äußeren Laufrille 10A be
deckt, bildet eine Schichtstruktur, in welchem die Anzahl der
Schichten um eins weniger ist, als an dem Bereich 13Aa, der die
äußere periphere Oberfläche 10Aa bedeckt und nur die innerste
metallische Schicht 14 und die mit Keramik bespritzte Isolati
onsschicht 15 aufweist, die als äußerste Schicht dient. In dem
Fall des zylindrischen Wälzlageraufbaus, bei den die rippen
freie innere Laufrille verwendet wird, dienen aufgrund seiner
Struktur die gegenüberliegenden Endflächen 10Ac und 10Ac der
äußeren Laufrille 10A als nichtbelastungsseitige Endflächen.
Wie oben beschrieben kann, sogar wenn die vorliegende
Erfindung auf den zylindrischen Wälzlageraufbau angewendet
wird, der Bereich 13Ac der Beschichtung der die nichtbelas
tungsseitige Endfläche 10Ac der äußeren Laufrille 10A bedeckt,
mit der Anzahl der Schichten kleiner sein als die des Bereichs
13Aa der Beschichtung, der die äußere periphere Oberfläche 10Aa
bedeckt, und kann deshalb eine exzellente elektrische Isolati
onseigenschaft aufweisen. Außerdem kann, um die Haftfähigkeit
der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht 15 auf dem Lager
ring 10A und um die Verhinderung der Möglichkeit der mit Kera
mik bespritzte Isolationsschicht 15 zur Abtrennung sicherzu
stellen, der Spritzprozess vereinfacht werden, und die Anzahl
der Prozessschritte und die Bearbeitungszeit kann ebenfalls re
duziert werden, was zu einer Reduktion des Aufwands führt.
Jeweilige Ausführungsbeispiele des vierten bis sechs
ten Aspektes der vorliegenden Erfindung werden nun mit besonde
rem Bezug auf die Fig. 14 bis 23 beschrieben.
Wie in Fig. 15 gezeigt, enthält der elektrokorrosi
onsbeständige Lageraufbau die Wälzelemente 12, die zwischen den
inneren und äußeren Laufrillen 9 liegen und, wie in Fig. 16
gezeigt, eine Beschichtung 13, die über dem gesamten äußeren
Oberflächenbereich der äußeren Laufrille 10, einschließlich der
gegenüberliegenden Endflächen und der äußeren peripheren Ober
fläche davon, gebildet wird, wobei die äußere Laufrille 10 an
einem Lagergehäuse (nicht gezeigt) angebracht ist. Dieser La
geraufbau wird zur Unterstützung, zum Beispiel, eines Rotors
des Haupttriebwerks (main power plant) eines Schienenfahrzeuges
benutzt und ist in der Form eines konischen Wälzlageraufbaus
einschließlich der äußeren Laufrille 10 mit konischem Laufring
10d, aufgebaut. Der Laufring 10d, der eine konisch zulaufende
Oberfläche bildet, bildet eine Referenzebene für einen Schleif
betrieb der Beschichtung 13. Die Wälzelemente 12 sind inner
halb entsprechender Behälter, die durch eine Aufnahme oder ei
nen Käfig 11 definiert sind, aufbewahrt. Material, aus dem je
des der inneren und äußeren Laufrillen 9 und 10 sowie die Walz
elemente 12 gebildet ist, ist Metall, wie lagertauglicher
Stahl.
Die Beschichtung 13 ist von einer doppelschichtigen
Struktur, einschließlich einer mit Keramik bespritzten Isolati
onsschicht, direkt thermisch für die äußere Laufrille 10 auf
das Material gespritzt, und eine metallische Schicht ist ther
misch aufgespritzt, um so die mit Keramik bespritzte Isolati
onsschicht zu bedecken. Die äußere periphere Oberfläche 13g
und die gegenüberliegenden Endflächen 13h und 13i sind, nachdem
sie thermisch gespritzt wurden, auf eine geforderte Schichtdi
cke geschliffen worden. Anstelle der Benutzung der doppel
schichtigen Struktur der Beschichtung 13 könnte eine drei
schichtige Struktur verwendet werden, die in der Reihenfolge
der Materialien für die äußere Laufrille 10, eine metallische
Schicht, eine mit Keramik bespritzte Isolationsschicht und eine
Metallschicht enthalten, oder eine einschichtige Struktur ein
schließlich der nur mit Keramik bespritzten Isolationsschicht
könnte verwendet werden. Ungeachtet, ob die Beschichtung 13
von der einschichtigen Struktur oder von der mehrschichtigen
Struktur ist, ist die mit Keramik bespritzte Isolationsschicht
im wesentlichen eine isolierende Schicht. Die äußerste metal
lische Schicht ist eine Schicht, die ein Verhindern einer Ab
trennung während einer Presspassung in das Lagergehäuse vor
sieht, wobei die innerste metallische Schicht als Schicht zur
Vergrößerung der Haftfähigkeit der mit Keramik bespritzten Iso
lationsschicht relativ zu dem Material der äußeren Laufrille 10
vorgesehen ist. Es ist zur Kenntnis zu nehmen, dass Fig. 16
den Fall zeigt, bei welchem die Beschichtung 13 von der ein
schichtigen Struktur nur die mit Keramik bespritzte Isolations
schicht enthält.
Fig. 14 zeigt den Ablauf des Schleifens der äußeren
Laufrille 10 des vorher beschriebenen Lageraufbaus. Insbeson
dere (A) bis (D) von Fig. 14 zeigen eine vorbereitende Phase
des Schleifprozesses vor einer Beschichtung der einzigen, mit
Keramik bespritzte Isolationsschicht 3 auf der äußeren Laufril
le 10, wobei (E) bis (G) von Fig. 14 eine finale Phase des
Schleifprozesses nach der Beschichtung der einzigen mit Keramik
bespritzten Isolationsschicht 3 zeigen, wobei während dieser
Phase die isolierende Schicht 3 einem Schleifen unterworfen
ist.
Während der Vorbereitungsphase des Prozesses wird
beispielsweise durch Befestigen einer einen reduzierten Durch
messer aufweisenden Endfläche 10c der äußeren Laufrille 10 ge
genüber eine Referenzfläche 21, wie in (A) von Fig. 14 ge
zeigt, die äußere Laufrille 10 auf der Referenzfläche 21, die
die einen reduzierten Durchmesser aufweisenden Endfläche 10c
als Referenzebene verwendet, abgestützt, und während die äußere
Laufrille 10 in dieser Weise abgestützt wird, wird eine einen
großen Durchmesser aufweisenden Endfläche 10b der äußeren Lauf
rille 10 durch einen rotierenden Schleifstein 22A geschliffen.
Dann wird, wie in (B) gezeigt, die äußere Laufrille 10 auf der
Referenzfläche 21 mit der einen großen Durchmesser aufweisenden
Endfläche 10b als Referenzebene verwendet, abgestützt, und wäh
rend die äußere Laufrille 10 in dieser Weise abgestützt wird,
wird die einen reduzierten Durchmesser aufweisende Endfläche
10c der äußeren Laufrille 10 durch den rotierenden Schleifstein
22A geschliffen. Die gegenüberliegenden Endflächen 10b und 10c
könnten gleichzeitig geschliffen werden. Nachdem die gegenü
berliegenden Endflächen 10b und 10c geschliffen worden sind,
wie in (C) gezeigt, wird die einen großen Durchmesser aufwei
sende Endfläche 10b der äußeren Laufrille 10 in ein Magnet
spannfutter 23 eingespannt und zur selben Zeit wird die äußere
periphere Oberfläche 10a der äußeren Laufrille 10 durch einen
Beschlag (Schuh) 25 gehalten, und die äußere periphere Oberflä
che 10a wird dann durch einen rotierenden Schleifstein 22B ge
schliffen. Die äußere periphere Oberfläche 10a könnte mittels
eines spitzenlosen (unzentrierten) Schleifverfahren geschliffen
werden.
Danach wird, wie in (D) gezeigt, während die äußeren
Laufrille 10 mit der Endfläche 10b abgestützt wird und die äu
ßere periphere Oberfläche 10a als Referenzebene benutzt wird,
die äußere Laufrille 10 durch das Magnetspannfutter 23 so ge
dreht, dass der Laufring 10d der äußeren Laufrille 10, der eine
konisch zulaufende Oberfläche bildet, durch einen rotierenden
Schleifstein 22C geschliffen wird.
Während der finalen Phase des Schleifprozesses wird,
nachdem die mit Keramik bespritzten Isolationsschicht 3 auf der
äußeren Laufrille 10 gebildet wurde, wie in (E) von Fig. 14
gezeigt, eine kegelstumpfförmige unterstützende Einspannvor
richtung (auch als Lehre bezeichnet) 24, die eine konisch zu
laufende äußere periphere Oberfläche mit einem Winkel bildet,
der gleich dem konisch zulaufenden Winkel des Laufrings 10d der
äußeren Laufrille 10 ist, auf der Referenzfläche 21 bereit
stellt und der Laufring 10d der äußeren Laufrille 10 greift in
die äußere periphere Oberfläche dieser unterstützenden Ein
spannvorrichtung 24 ein. Mit anderen Worten, die äußere Lauf
rille 10 wird durch die unterstützende Einspannvorrichtung 24
mit dem Laufring 10d der äußeren Laufrille 10 abgestützt, die
als eine Referenzebene benutzt wird. Während die äußere Lauf
rille 10 durch die unterstützende Einspannvorrichtung 24 in
dieser Weise abgestützt wird, wird ein Bereich der mit Keramik
bespritzten Isolationsschicht 3, der auf der einen großen
Durchmesser aufweisenden Endfläche 3h der äußeren Laufrille 10
gelagert ist, durch einen rotierenden Schleifstein 22A abge
schliffen, bis die mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 3
an dieser Endfläche eine vorbestimmte Schichtdicke erreicht.
Dann ist die einen großen Durchmesser aufweisende Endfläche 3 h
so geschliffen, dass sie in engem Kontakt mit der Referenzflä
che 21 gehalten wird, wie in (F) gezeigt, so dass die äußere
Laufrille 10 abgestützt werden kann auf der Referenzfläche 21
mit der einen großen Durchmesser aufweisenden, Endfläche 3h als
Referenzebene. Während die äußere Laufrille 10 in dieser Weise
abgestützt wird, wird ein anderer Bereich der mit Keramik be
spritzten Isolationsschicht 3, der auf der einen reduzierten
Durchmesser aufweisenden Endfläche 3i abgelagert ist, durch den
rotierenden Schleifstein 22A abgeschliffen, bis die mit Keramik
bespritzte Isolationsschicht 3 an dieser Endfläche eine vorbe
stimmte Schichtdicke erreicht. Nachdem die gegenüberliegenden
Endflächen 3h und 3i auf diese Weise geschliffen worden sind,
wie in (G) gezeigt, wird die äußere Laufrille 10 durch die un
terstützende Einspannvorrichtung 24 abgestützt, wobei der Lauf
ring 10d als Referenzebene benutzt wird, so dass an dem Lauf
ring 10d der äußeren Laufrille 10 die äußere periphere Oberflä
che der abgeschnittenen, konisch unterstützenden Einspannvor
richtung (Lehre) 24 eingreifen kann, die an dem Magnetspannfut
ter 23 bereitgestellt wird. Ferner wird die äußere periphere
Oberfläche 3g der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht 3
durch den Schuh 25 aufgenommen. Auf diese Weise wird, während
die äußere Laufrille 10 mit dem Laufring 10d abgestützt wird
und die äußere periphere Oberfläche 3g der äußeren Laufrille 10
als Referenzebene benutzt wird, das Magnetspannfutter 23 zur
Rotation der äußeren Laufrille 10 angetrieben, so dass die äu
ßere periphere Oberfläche 3g der mit Keramik bespritzten Isola
tionsschicht 3 durch den rotierenden Schleifstein 22B auf eine
vorbestimmte Schichtdicke geschliffen werden kann. Es ist zur
Kenntnis zu nehmen, dass zu dieser Zeit die unterstützende Ein
spannvorrichtung 24 ein freies Ende hat, an welches eine Druck
platte 26 durch einen Bolzen 27 angreift, der wiederum die äu
ßere Laufrille 10 auf eine einen großen Durchmesser aufweisende
Seite der unterstützenden Einspannvorrichtung 24 presst, so
dass der Laufring 10d der äußeren Laufrille 10 in engem Kontakt
mit der äußeren peripheren Oberfläche der abstützenden, abge
schnitten-konischen Einspannvorrichtung 24 gehalten werden
kann.
Wie oben beschrieben ist in dem Elektrokorrosion vor
beugendem Lageraufbau, da die mit Keramik bespritzte Isolati
onsschicht 3 auf der äußeren Laufrille 10 geschliffen ist, mit
dem konisch zulaufenden Laufring 10d der äußeren Laufrille 10,
die als die Referenzebene benutzt wird, jede mögliche Variation
und Fehler der Schichtdicke der mit Keramik bespritzten Isola
tionsschicht 3, die von der einen Endfläche zu der gegenüber
liegenden Endflächen über die äußere periphere Oberfläche der
äußeren Laufrille 10 abgelagert ist, unterdrückt, um die erfor
derliche Schichtdicke zu erreichen. Dementsprechend weist der
elektrokorrosionsbeständige Lageraufbau eine bevorzugte Maßge
nauigkeit sowie eine Rotationsgenauigkeit auf, und eine elekt
rische Isolationsleistung kann erhalten werden.
Fig. 17 zeigt einen Längsschnitt der äußeren Lauf
rille 10 des elektrokorrosionsbeständigen Lageraufbaus entspre
chend eines weiteren Ausführungsbeispiels der vorliegenden Er
findung. Sogar dieser elektrokorrosionsbeständige Lageraufbau
ist ein konisch zulaufender Wälzlageraufbau, wie in dem Fall
des zuvor beschriebenen Ausführungsbeispiels. Die Bereitstel
lung der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht 3 bedeckt
als Beschichtung von einer Endfläche zu der gegenüberliegenden
Endfläche über die äußere periphere Oberfläche der äußeren
Laufrille 10, und die Struktur weist die innere Laufrille 9,
das Walzelement 12 und den Käfig 11 auf, die ähnlich zu jenen
in Verbindung mit den zuvor beschriebene Ausführungsbeispiel
beschriebenen sind, und dementsprechend, um der Kürze willen,
nicht wiederholt werden.
Obwohl der Laufring 10d der äußeren Laufrille 10 eine
konisch zulaufende Oberfläche bildet, wie in dem Fall des zuvor
beschriebenen Ausführungsbeispiels, wie zum Beispiel in Fig.
17 gezeigt, ist eine zylindrische Oberfläche 10e mit der glei
chen Mittelachse O wie die äußere periphere Oberfläche der äu
ßeren Laufrille 10 vor dem thermischem Spritzen der mit Keramik
bespritzten Isolationsschicht 3 gebildet, wobei die zylindri
sche Oberfläche 10e im Innern der der äußeren Laufrille 10 von
dem einen reduzierenden Durchmesser aufweisenden Ende des Lauf
ring 10d zu dessen innerer peripherer Oberfläche verlängert
wird. Diese zylindrische Oberfläche 10e wird als Referenzebene
verwendet, wenn die mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 3
geschliffen wird, und weist eine axiale Länge von zum Beispiel
nicht kleiner als 10 mm auf.
Fig. 18 zeigt den Ablauf des Schleifens der mit Ke
ramik bespritzte Isolationsschicht 3 auf der äußeren Laufrille
10 des Lageraufbaus, der in Fig. 17 gezeigt ist. Dieser
Schleifprozess wird in der folgenden Weise durchgeführt. An
der ersten Stelle, wie in (A) von Fig. 18 gezeigt, wird die
äußere Laufrille 10 auf einer unterstützenden Einspannvorrich
tung 24A (Lehre) abgestützt angebracht, auf einem Magnetspann
futter 23 mit der einen großen Durchmesser aufweisenden Endflä
che 3h der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht 3, die ge
gen das Magnetspannfutter 23 gepresst wird. Die unterstützende
Vorrichtung 24A, die in diesem Fall benutzt wird, ist von einer
zylindrischen Form, die eine zylindrische äußere periphere O
berfläche aufweist und mit der zylindrischen Oberfläche 10e,
die in dem Laufring 10d der äußeren Laufrille 10 gebildet ist,
in Eingriff treten kann. Es ist zur Kenntnis zu nehmen, dass
die unterstützende Vorrichtung 24A von einem Typ sein könnte,
der eine Vielzahl von Elementen, umfänglich angeordnet, ent
hält. Während die äußere Laufrille 10 mit der einen großen
Durchmesser aufweisenden Endfläche 3h der mit Keramik bespritz
te Isolationsschicht 3 abgestützt wird und die zylindrische O
berfläche 10e des Laufrings 10d der äußeren Laufrille 10 als
entsprechende Referenzebene verwendet wird, wird die einen re
duzierten Durchmesser aufweisende Endfläche 3i der mit Keramik
bespritzten Isolationsschicht 3 durch einen rotierenden
Schleifstein 22A geschliffen, so dass bis die mit Keramik be
spritzte Isolationsschicht 3 an dieser Endfläche eine vorbe
stimmte Schichtdicke erreichen kann. Nachträglich wird die ei
nen reduzierenden Durchmesser aufweisende Endfläche 31 so ge
schliffen, dass sie in engem Kontakt mit einer Referenzfläche
21 gehalten wird, wie in (B) von Fig. 18 gezeigt, während die
äußere Laufrille 10 auf der Referenzfläche 21 abgestützt wird,
mit der einen reduzierenden Durchmesser aufweisenden Endfläche
31 als Referenzebene. Unter dieser Bedingung wird die einen
großen Durchmesser aufweisende Endfläche 3h der mit Keramik be
spritzten Isolationsschicht 3 auf der äußeren Laufrille 10
durch den rotierenden Schleifstein 22A geschliffen, so dass die
mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 3 an dieser Endfläche
eine vorbestimmte Schichtdicke erreichen kann. Nachdem die ge
genüberliegenden Endflächen 3h und 3i geschliffen worden sind,
ist nicht nur die äußere Laufrille 10 auf der unterstützenden
Vorrichtung 24A abgestützt, mit der zylindrischen Oberfläche
10e des Laufrings 10d der äußeren Laufrille 10, angepasst an
die unterstützende Einspannvorrichtung 24A, die auf dem Magnet
spannfutter 23 vorgesehen ist, auch die äußere periphere Ober
fläche 3g der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht 3 wird
durch den Beschlag 25 gehalten, wie in (C) von Fig. 18 ge
zeigt. Auf diese Weise kann unter Benutzung der zylindrischen
Oberfläche 10e des Laufrings 10d und der einen großen Durchmes
ser aufweisenden Endfläche 3h und der äußeren peripheren Ober
fläche 3g als entsprechende Referenzebenen, die äußere Laufril
le 10 durch das Magnetspannfutter 23 und den Beschlag 25 abge
stützt werden und, während bei dieser Bedingung das Magnet
spannfutter 23 ungefähr um die Mittelachse O der äußeren Lauf
rille 10 rotiert, es wird die äußere periphere Oberfläche 3g
der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht 3 durch einen ro
tierenden Schleifstein 22B geschliffen.
Folglich kann in diesem elektrokorrosionsbeständigen
Lageraufbau, da die mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 3
auf der Laufrille 10, bezogen auf die Referenzebene, die durch
die zylindrische Oberfläche 10e definiert ist, die an dem einen
reduzierenden Durchmesser aufweisenden Ende des konisch zulau
fenden Laufrings 10d der äußeren Laufrille 10 gebildet worden
ist, geschliffen wird, die mit Keramik bespritzte Isolations
schicht 3 so abgelagert werden, dass sie sich von der einen
Endfläche zu der gegenüberliegenden Endfläche über die äußere
periphere Oberfläche der äußeren Laufrille 10 erstreckt, und
kann auf die erforderliche Schichtdicke geschliffen werden, und
dementsprechend weist der elektrokorrosionsbeständige Lagerauf
bau eine günstige Maßgenauigkeit sowie eine Rotationsgenauig
keit auf, und eine elektrische Isolierungsleistung kann erhal
ten werde.
Fig. 19 zeigt einen Längsschnitt der äußeren Lauf
rille 10, der in dem elektrokorrosionsbeständigen Lageraufbau
entsprechend eines weiteren Ausführungsbeispiels der vorliegen
den Erfindung verwendet wird. Dieser darin gezeigte elektro
korrosionsbeständige Lageraufbau ist von einem Typ, worin, wie
in dem Fall mit selbstausrichtendem Wälzlageraufbau, gezeigt in
Fig. 20, und dem selbstausrichtenden Kugellageraufbau, gezeigt
in Fig. 21, der Laufring 10d der äußeren Laufrille 10 keine
zylindrische Oberfläche aufweist, aber ähnlich zu dem vorher
beschriebenen Ausführungsbeispiel ist, indem die mit Keramik
bespritzte Isolationsschicht 3 vorgesehen ist, um von der einen
Endfläche zu der gegenüberliegenden Endfläche die äußere peri
phere Oberfläche der äußeren Laufrille 10 zu bedecken. Wie im
Fall des Ausführungsbeispiels, gemäß Fig. 17, wird vor dem
thermischen Spritzen der mit Keramik bespritzten Isolations
schicht 3 eine zylindrische Oberfläche 10e, die eine Mittelach
se O gleichachsig zu der äußeren peripheren Oberfläche der äu
ßeren Laufrille 10 aufweist, an dem einen Endbereich des Lauf
rings 10d der äußeren Laufrille 10 gebildet. In diesem Fall
wird sogar die zylindrische Oberfläche 10e als Referenzebene
verwendet, wenn die mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 3
geschliffen wird, und seine axiale Länge so eingestellt, dass
sie zum Beispiel nicht kleiner als 10 mm ist.
Sogar in diesem Ausführungsbeispiel, gezeigt in Fig.
19, wie im Fall des Schleifprozesses in Verbindung mit dem vor
herigen Ausführungsbeispiel in Fig. 18, wird die mit Keramik
bespritzte Isolationsschicht 3 auf der äußeren Laufrille ge
schliffen. Da die zylindrisch Oberfläche 10e, die an diesen
Endbereichen des Laufrings 10d der äußeren Laufrille 10 gebil
det ist, als die Referenzebene während eines Schleifens der
mit Keramik bespritzten Isolationsschicht 3 auf der äußeren
Laufrille verwendet wird, wird die mit Keramik bespritzte Iso
lationsschicht 3 so aufgebracht, um den vollständigen äußeren
Oberflächenbereich der äußeren Laufrille 10, einschließlich der
gegenüberliegenden Endflächen und der äußeren periphere Ober
fläche davon, abzudecken, und kann auf eine erforderliche
Schichtdicke geschliffen werden. Dementsprechend weist der e
lektrokorrosionsbeständige Lageraufbau eine günstige Maßgenau
igkeit, eine Rotationsgenauigkeit auf, und eine elektrische e
lektrischen Isolierungsleistung kann erhalten werden.
Fig. 22 zeigt ein anderes Ausführungsbeispiel, in
welchem die Referenzebene, die an dem Endbereich des Laufrings
der äußeren Laufrille 10 definiert wurde, verwendet wird in der
Form einer gestuften zylindrischen Oberfläche 10f, anstelle der
zylindrischen Oberfläche 10e in dem vorher beschriebenen Aus
führungsbeispiel. Besonders weist diese gestufte zylindrische
Oberfläche 10f eine zylindrische Oberfläche auf, die einen ei
nen großen Durchmesser aufweisenden Bereich auf der einen an
grenzenden Seite der Endfläche der äußeren Laufrille 10 auf
weist und auch einen kleinen Durchmesser aufweisenden Be
reich innerhalb des einen großen Durchmesser aufweisenden Be
reichs aufweist. Das Schleifen der mit Keramik bespritzten I
solationsschicht 3 auf der äußeren Laufrille dieses elektrokor
rosionsbeständigen Lageraufbaus wurde in einer ähnlichen Weise
durchgeführt wie in Zusammenhang mit dem vorher beschriebenen
Ausführungsbeispiel beschrieben wurde; während die äußere Lauf
rille 10 durch eine zylindrische unterstützende Einspannvor
richtung (Lehre) abgestützt wird, die eine zylindrische äußere
Oberfläche aufweist, die gestuft an die gestufte zylindrische
Oberfläche 10f angepasst wurde, dass heißt, komplementär ges
taltet zu der gestuften zylindrischen Oberfläche 10f. Dement
sprechend kann die mit Keramik bespritzte Isolationsschicht 3
vorteilhaft auf eine erforderliche Schichtdicke geschliffen
werden und dementsprechend weist der elektrokorrosionsbeständi
ge Lageraufbau eine günstige Maßgenauigkeit sowie eine Rotati
onsgenauigkeit auf, und eine elektrische Isolierungsleistung
kann erhalten werden.
Es ist zur Kenntnis zu nehmen, dass der Grund für die
gewählte Breite der zylindrischen Oberfläche 10e von nicht
kleiner als 10 mm in dem vorhergehenden Ausführungsbeispielen,
wie in den Fig. 17 bis 22 gezeigt, darin besteht, dass jede
mögliche Neigung der äußeren peripheren Oberfläche 3g der iso
lierenden Schicht 3 relativ zu der longitudinalen Achse unter
drückt wird, welche andernfalls auftreten würde, wenn die äuße
re Laufrille 10 auf der unterstützenden Einspannvorrichtung 24A
angebracht ist.
Obwohl die vorliegende Erfindung im Zusammenhang mit
den bevorzugten Ausführungsbeispielen und unter Bezug auf die
anliegenden Zeichnungen ausführlich beschrieben worden ist, so
ist dies nur für den Zwecke der Illustration, und der einschlä
gige Fachmann wird erkennen, dass zahlreiche Änderungen und Mo
difikationen innerhalb des Erfindungsgedankens liegen. Dement
sprechend gelten derartige Änderungen und Modifikationen, so
fern sie nicht von dem in den Ansprüchen definiertem Schutzum
fang abweichen, als von der vorliegenden Offenbarung umfasst.
Claims (16)
1. Mit einem Keramikmaterial mittels Spritzverfahren beschich
teter Lagerring (1), der eine mit Keramik bespritzte Isolati
onsschicht (3) aufweist, die durch ein thermisches Spritzver
fahren entsteht, dadurch gekennzeichnet, dass Poren (4), die in
der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht entstehen, durch
ein feinverteiltes anorganisches Pulver (5) abgedichtet sind.
2. Lagerring nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das
feinverteilte anorganische Pulver ein Pulver aus keramischem
Material ist.
3. Lagerring nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
dass ein Kunstharz zwischen Partikeln des feinverteilten anor
ganischen Pulvers vorgesehen ist.
4. Lagerring nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekenn
zeichnet, dass der Lagerring entweder ein äußerer Lagerring o
der ein innerer Lagerring eines Wälzlageraufbaus ist.
5. Verfahren zum Abdichten einer mit Keramik bespritzten Isola
tionsschicht, die auf einer Oberfläche eines Werkstücks mittels
eines thermischen Spritzverfahrens gebildet ist und die eine
Vielzahl von Poren aufweist, mit den Schritten:
Imprägnieren der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht mit einer flüssigen Mischung eines organischen Lösungsmittels und eines feinverteilten anorganischen Pulvers, so dass die flüssige Mischung in den Poren eindringen kann; und
Ruhen lassen der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht oder Erwärmen der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht, damit die organische Lösung sich verflüchtigt und Partikel des feinverteilten anorganischen Pulvers innerhalb der Poren verbleiben.
Imprägnieren der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht mit einer flüssigen Mischung eines organischen Lösungsmittels und eines feinverteilten anorganischen Pulvers, so dass die flüssige Mischung in den Poren eindringen kann; und
Ruhen lassen der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht oder Erwärmen der mit Keramik bespritzten Isolationsschicht, damit die organische Lösung sich verflüchtigt und Partikel des feinverteilten anorganischen Pulvers innerhalb der Poren verbleiben.
6. Verfahren zum Abdichten nach Anspruch 5, das einen weiteren
Schritt des Imprägnierens eines Kunstharzes in die Poren auf
weist, nachdem die Partikel des feinverteilten anorganischen
Pulvers in den Poren verblieben sind.
7. Elektrokorrosionsbeständiger Wälzlageraufbau mit:
einem Lagerring, der eine periphere Oberfläche aufweist, die in engem Kontakt mit einem Gehäuse oder einer Welle steht, wobei der Lagerring an den jeweils gegenüberliegenden Endflä chen eine Belastungsseite und eine Nichtbelastungsseite auf weist;
einer auf dem Lagerring gebildeten Beschichtung zum Bede cken der gegenüberliegenden Endflächen sowie dessen peripherer Oberfläche;
wobei ein Bereich der Beschichtung, der die periphere O berfläche des Lagerring bedeckt, als eine mehrschichtige Struk tur ausgebildet ist, die eine mit Keramik bespritzte Isolati onsschicht sowie eine metallische Schicht aufweist; und
ein anderer Bereich der Beschichtung, der die Nichtbelas tungsseite des Lagerrings bedeckt, eine Anzahl von Schichten aufweist, die kleiner ist als die der mehrschichtigen Struktur mit der mit der Keramik bespritzten Isolationsschicht, die ganz außen liegt.
einem Lagerring, der eine periphere Oberfläche aufweist, die in engem Kontakt mit einem Gehäuse oder einer Welle steht, wobei der Lagerring an den jeweils gegenüberliegenden Endflä chen eine Belastungsseite und eine Nichtbelastungsseite auf weist;
einer auf dem Lagerring gebildeten Beschichtung zum Bede cken der gegenüberliegenden Endflächen sowie dessen peripherer Oberfläche;
wobei ein Bereich der Beschichtung, der die periphere O berfläche des Lagerring bedeckt, als eine mehrschichtige Struk tur ausgebildet ist, die eine mit Keramik bespritzte Isolati onsschicht sowie eine metallische Schicht aufweist; und
ein anderer Bereich der Beschichtung, der die Nichtbelas tungsseite des Lagerrings bedeckt, eine Anzahl von Schichten aufweist, die kleiner ist als die der mehrschichtigen Struktur mit der mit der Keramik bespritzten Isolationsschicht, die ganz außen liegt.
8. Elektrokorrosionsbeständiger Wälzlageraufbau nach Anspruch
7, dadurch gekennzeichnet, dass eine äußerste Schicht der Be
schichtung, die eine äußere periphere Oberfläche des Lagerrings
und die Endfläche auf der Belastungsseite davon bedeckt, durch
eine Metallschicht realisiert ist.
9. Elektrokorrosionsbeständiger Wälzlageraufbau nach Anspruch 7
oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Lageraufbau ein koni
scher Wälzlageraufbau ist.
10. Elektrokorrosionsbeständiger Wälzlageraufbau, der eine äu
ßere Laufrille aufweist, die an einem Lagergehäuse angebracht
ist und eine äußere periphere Struktur und jeweils gegenüber
liegende erste und zweite Endflächen aufweist, und eine Be
schichtung, die auf der äußeren Laufrille gebildet ist, so dass
sie von einer der ersten Endfläche zu einer zweiten Endfläche
deren äußere periphere Oberfläche bedecket, wobei die Beschich
tung eine mit Keramik bespritzte Isolationsschicht aufweist,
die durch ein thermisches Spritzverfahren und eine metallische
Schicht gebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass eine Refe
renzebene zum Schleifen der äußeren peripheren Oberfläche sowie
der ersten und zweiten Endfläche der äußeren Laufrille durch
eine innere periphere Oberfläche der äußeren Laufrille defi
niert ist.
11. Elektrokorrosionsbeständiger Wälzlageraufbau nach Anspruch
10, dadurch gekennzeichnet, dass der elektrokorrosionsbeständi
ge Wälzlageraufbau ein konischer Wälzlageraufbau ist, in dem
die Referenzfläche durch eine konisch zulaufende Oberfläche de
finiert ist, die einen Laufring der äußeren Laufrille bestimmt.
12. Elektrokorrosionsbeständiger Wälzlageraufbau nach Anspruch
10, dadurch gekennzeichnet, dass die Referenzfläche durch eine
zylindrische Oberfläche definiert ist, die mit der äußeren pe
ripheren Oberfläche der äußeren Laufrille konzentrisch ist.
13. Elektrokorrosionsbeständiger Wälzlageraufbau nach Anspruch
12, dadurch gekennzeichnet, dass der elektrokorrosionsbeständi
ge Wälzlageraufbau ein konischer Wälzlageraufbau ist.
14. Elektrokorrosionsbeständiger Wälzlageraufbau nach Anspruch
12, dadurch gekennzeichnet, dass der elektrokorrosionsbeständi
ge Wälzlageraufbau ein selbstausrichtender (self-aligning) La
geraufbau ist.
15. Verfahren zum Herstellen einer äußeren Laufrille für ein
elektrokorrosionsbeständigen Wälzlageraufbau in der Form eines
konischen Wälzlageraufbaus, wobei das Verfahren aufweist:
einen ersten Prozess zur Herstellung der äußeren Laufrille, in dem die Schritte enthalten sind:
Bilden einer inneren peripheren Oberfläche in einem Lauf ring, der eine konische Oberfläche aufweist;
und
Bilden einer Beschichtung, die eine mit Keramik bespritzte Isolationsschicht aufweist, die durch ein thermisches Spritz verfahren gebildet wird, und eine metallische Schicht, die die äußerste Laufrille von einer Endfläche zu der gegenüberliegen den Endfläche der äußeren Laufrille über eine äußere periphere Oberfläche derselben bedeckt; und
einen zweiten Prozess des Schleifens der Endflächen und der äußeren peripheren Oberfläche der äußeren Laufrille, die dem ersten Prozess unterworfen ist, durch Einsatz einer in den Laufring eingreifenden Lehre oder Haltevorrichtung (jig), die eine konisch zulaufende Oberfläche bildet, wobei der Laufring als Referenzebene benutzt wird.
einen ersten Prozess zur Herstellung der äußeren Laufrille, in dem die Schritte enthalten sind:
Bilden einer inneren peripheren Oberfläche in einem Lauf ring, der eine konische Oberfläche aufweist;
und
Bilden einer Beschichtung, die eine mit Keramik bespritzte Isolationsschicht aufweist, die durch ein thermisches Spritz verfahren gebildet wird, und eine metallische Schicht, die die äußerste Laufrille von einer Endfläche zu der gegenüberliegen den Endfläche der äußeren Laufrille über eine äußere periphere Oberfläche derselben bedeckt; und
einen zweiten Prozess des Schleifens der Endflächen und der äußeren peripheren Oberfläche der äußeren Laufrille, die dem ersten Prozess unterworfen ist, durch Einsatz einer in den Laufring eingreifenden Lehre oder Haltevorrichtung (jig), die eine konisch zulaufende Oberfläche bildet, wobei der Laufring als Referenzebene benutzt wird.
16. Verfahren zur Herstellung einer äußeren Laufrille für einen
elektrokorrosionsbeständigen Wälzlageraufbau, mit:
einem ersten Prozess zur Herstellung der äußeren Laufrille, in dem die Schritte enthalten sind:
Bilden einer inneren peripheren Oberfläche in einem Lauf ring, sowie
Definieren einer Referenzoberfläche, die eine zylindrische Oberfläche ist, die mit einer äußeren peripheren Oberfläche auf der inneren peripheren Oberfläche konzentrisch ist; sowie
einen zweiten Prozess des Schleifens einander gegenüberliegen der Endflächen sowie der äußeren peripheren Oberfläche der äu ßeren Laufrille, die dem ersten Prozess unterworfen war, durch Benutzung einer Lehre oder Haltevorrichtung, die in die Re ferenzoberfläche eingreifen kann.
einem ersten Prozess zur Herstellung der äußeren Laufrille, in dem die Schritte enthalten sind:
Bilden einer inneren peripheren Oberfläche in einem Lauf ring, sowie
Definieren einer Referenzoberfläche, die eine zylindrische Oberfläche ist, die mit einer äußeren peripheren Oberfläche auf der inneren peripheren Oberfläche konzentrisch ist; sowie
einen zweiten Prozess des Schleifens einander gegenüberliegen der Endflächen sowie der äußeren peripheren Oberfläche der äu ßeren Laufrille, die dem ersten Prozess unterworfen war, durch Benutzung einer Lehre oder Haltevorrichtung, die in die Re ferenzoberfläche eingreifen kann.
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JP2000379734A JP2002181055A (ja) | 2000-12-14 | 2000-12-14 | セラミックス溶射軌道輪および封孔処理方法 |
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---|---|---|---|
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