DE10062453A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln

Info

Publication number
DE10062453A1
DE10062453A1 DE10062453A DE10062453A DE10062453A1 DE 10062453 A1 DE10062453 A1 DE 10062453A1 DE 10062453 A DE10062453 A DE 10062453A DE 10062453 A DE10062453 A DE 10062453A DE 10062453 A1 DE10062453 A1 DE 10062453A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
light sources
optical element
beams
individual light
intermediate images
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE10062453A
Other languages
English (en)
Other versions
DE10062453B4 (de
Inventor
Harald G Kleinhuber
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MY OPTICAL SYSTEMS GMBH, 97232 GIEBELSTADT, DE
Original Assignee
Harald G Kleinhuber
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Harald G Kleinhuber filed Critical Harald G Kleinhuber
Priority to DE10062453A priority Critical patent/DE10062453B4/de
Publication of DE10062453A1 publication Critical patent/DE10062453A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10062453B4 publication Critical patent/DE10062453B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • B23K26/0608Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams in the same heat affected zone [HAZ]
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0004Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
    • G02B19/0019Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors)
    • G02B19/0023Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors) at least one surface having optical power
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • G02B19/0052Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
    • G02B19/0057Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode in the form of a laser diode array, e.g. laser diode bar
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10Beam splitting or combining systems
    • G02B27/1066Beam splitting or combining systems for enhancing image performance, like resolution, pixel numbers, dual magnifications or dynamic range, by tiling, slicing or overlapping fields of view
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10Beam splitting or combining systems
    • G02B27/14Beam splitting or combining systems operating by reflection only
    • G02B27/143Beam splitting or combining systems operating by reflection only using macroscopically faceted or segmented reflective surfaces
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/08Mirrors
    • G02B5/09Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
    • G02B6/4249Packages, e.g. shape, construction, internal or external details comprising arrays of active devices and fibres
    • G02B6/425Optical features
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)

Abstract

Zur Überlagerung von Strahlenbündeln, die von einer Mehrzahl von Einzellichtquellen (D1 bis D5) ausgehen, wird folgendermaßen ausgegangen: Zunächst werden durch ein erstes, allen Einzellichtquellen (D1 bis D5) gemeinsam zugeordnetes abbildendes optisches Element (5) die Einzellichtquellen (D1 bis D5) in virtuelle Zwischenbilder (Z1 bis Z5) abgebildet. Die den Einzellichtquellen (D1 bis D5) zugeordneten Strahlenbündel werden vor Erreichen der Zwischenbildstellen (Z1 bis Z5) durch ein facettiertes optisches Element (6) abgefangen und so unterschiedlich abgelenkt, daß sie sich in mindestens einem Abbildungsfleck (A) superponieren, in dem sich die Strahlungsintensitäten mehrerer Einzellichtquellen (D1 bis D5) überlagern.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln, die von einer Mehrzahl von Einzellichtquellen, insbesondere Laserdioden, ausgehen, in mindestens einen Abbildungsfleck.
Derartige Verfahren und Vorrichtungen finden ihren Einsatz dort, wo das Licht mehrerer Einzellichtquellen z. B. zur Leistungssteigerung in einem relativ kleinen räumlichen Arbeitsbereich konzentriert werden soll. Derartige Anwen­ dungen liegen in der Materialbearbeitung, z. B. beim Laser­ schweißen, -schneiden oder -bohren sowie bei der Oberflä­ chenbehandlung. Ein weiteres Einsatzgebiet liegt im Bereich der Telekommunikation, wenn in einem durch eine optische Faser realisierten Datenübertragungskanal eine hohe Licht­ leistung zur Informationsübertragung über weite Strecken ohne zwischengeschaltete Verstärker erfolgen soll. Dort ist eine kleine numerische Apertur der einkoppelnden Optik erforderlich.
Bei bekannten derartigen Verfahren und Vorrichtungen einge­ setzte Einzel-Lichtquellen sind Laserdioden-Arrays, die auch als "Barren" bezeichnet werden. Ein derartiges Laser­ dioden-Array weist eine Vielzahl von in einer linearen Reihe angeordneten einzelnen Laserdioden auf. Ein Hoch­ leistungs-Laserdioden-Array hat eine Ausgangslichtleistung von etwa 50 W. Typische Emissionsflächen derartiger Laser­ dioden-Arrays haben eine Längsseite (lange Achse) von etwa 10 mm und eine Schmalseite (kurze Achse) von weniger als einem Mikrometer. Dabei ist die Strahldivergenz des von den Laserdioden-Arrays emittierten Lichtes in den Ebenen parallel zur kurzen Achse der Emissionsfläche um typischerweise einen Faktor 3 größer als in den dazu senk­ rechten Richtungen.
Es ist bekannt, derartige Laserdioden-Arrays aufeinander in sogenannte "Stacks" zu stapeln. Die Emissionsbündel der einzelnen Emissionsflächen der Laserdioden-Arrays innerhalb des Stacks werden überlagert, um die Lichtlei­ stung des gesamten Stacks zu nutzen. Hierzu ist es be­ kannt, jedem Einzel-Emitter innerhalb der im Stack ge­ stapelten Laserdioden-Arrays eine Mikrolinse zuzuordnen, die das Emissionsbündel eines Einzel-Emitters auf das Einkoppelende einer diesem zugeordneten optischen. Faser ermöglicht. Auf diese Weise ist einem Laserdioden-Array oder auch einem Stack eine Vielzahl von Fasern zugeordnet, die in einem Faserbündel geführt werden können. Das Aus­ koppelende des Faserbündels kann dann zur Erzeugung eines Arbeits-Laserstrahlbündels abgebildet werden. Mit dieser Anordnung sind zwei Nachteile verbunden: Zum einen geht Licht verloren, weil die Optik nicht vollständig ausgeleuch­ tet werden kann. Zum anderen muß, um einen kleinen Brenn­ punkt zu erhalten, die Brennweite der Linsen klein gehalten werden, was zu einer mit Einkoppelverlusten verbundenen großen numerischen Apertur führt.
Die Handhabung eines derartigen Mikrolinsen-Arrays ist relativ kompliziert, da die Mikrolinsen nahe an die Einzel- Emitter herangeführt werden müssen und die Justage entspre­ chend kritisch ist. Zusätzlich ist bei Einsatz von Mikro­ linsen in Verbindung mit Hochleistungs-Laserdioden-Arrays die Herstellung und Materialauswahl sehr kritisch, da kleinste Absorptionen bei der Emissionswellenlänge der Laserdioden zu einer nicht tolerablen Aufheizung der Mikro­ linsen führen.
Daneben ist es bekannt, die Emissionsbündel von Laserdio­ den-Arrays mit unterschiedlichen Emissionswellenlängen über dichroitische Einkoppelspiegel zu überlagern. Dabei ergibt sich der Nachteil, daß nur Laserdiodenstrahlen unterschiedlicher Wellenlänge auf diese Weise überlagerbar sind.
Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, daß eine effiziente Überlage­ rung der Einzellichtquellen mit möglichst geringen Verlus­ ten und geringem Justieraufwand möglich ist.
Diese Aufgabe wird, was das erfindungsgemäße Verfahren angeht, dadurch gelöst, daß
von einem ersten allen Einzellichtquellen gemeinsam zugeordneten abbildenden optischen Element virtuelle Zwischenbilder der Einzellichtquellen erzeugt werden und daß durch ein zweites facettiertes optisches Element die von den Einzellichtquellen ausgehenden Strahlenbündel so unterschiedlich abgelenkt werden, daß sie sich in mindestens einem Abbildungsfleck superponieren.
Beim erfindungsgemäßen Verfahren wird also ein erstes optisches Element eingesetzt, mit dem die Einzellichtquellen "normal" abgebildet werden können. Dieses erste, allen Einzellichtquellen gemeinsam zugeordnete optische Element würde für sich alleine Zwischenbilder erzeugen, die an unterschiedlichen Stellen liegen. Um nun zumindest einen Teil dieser Zwischenbilder übereinander zu bringen, wird jedes einzelne Strahlenbündel von einer zugeordneten Facette des zweiten optischen Elements erfaßt und so abgelenkt, daß die Positionen der jeweiligen Bilder der Einzellichtquellen in einem zugehörigen Abbildungsfleck zusammenfallen.
Dabei brauchen nicht alle Abbildungsflecke zusammenfallen. Vielmehr kann das facettierte optische Element auch so ausgebildet sein, daß mehrere Abbildungsflecke mit einem gewünschten Muster in einer gemeinsamen Ebene oder in Abstand voneinander auf der optischen Achse des Systems entstehen.
Das facettierte optische Element kann sich an jeder beliebigen Stelle des Strahlenganges hinter dem ersten abbildenden optischen Element befinden, an welcher die Einzelstrahlbündel voneinander getrennt sind, sich also nicht überlappen. Insbesondere braucht also dieses facet­ tierte Element nicht unmittelbar hinter den Einzellicht­ quellen angeordnet zu sein, wie dies beim Stande der Technik der Fall war. Ebensowenig müssen die einzelnen Facetten, jede für sich, justiert werden. Sich können bereits werksseitig eine solche Ausrichtung erhalten, daß die angestrebte Ablenkung der Strahlenbündel erzielt wird. Justagearbeiten sind daher praktisch nicht mehr erforderlich; auch ist die Positionierung des facettierten optischen Elementes im Strahlengang nicht sehr kritisch und einfach durchzuführen.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich sehr schlanke Strahlenbündel erhalten, die sich gut in eine Faser eines Lichtleiters einkoppeln lassen.
Eine vorteilhafte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens zeichnet sich dadurch aus, daß von den Einzel­ lichtquellen zunächst vergrößerte Zwischenbilder erzeugt werden. Diese "Vorvergrößerung" der Einzellichtquellen vor der Ablenkung der Strahlenbündel ermöglicht die Verwendung größerer facettierter optischer Elemente, die leichter herzustellen und leichter richtig in den Strah­ lengang eingesetzt werden können.
Die oben genannte Aufgabe wird, was die Vorrichtung angeht, dadurch gelöst, daß diese umfaßt:
  • a) mindestens ein erstes, allen Einzellichtquellen gemein­ sam zugeordnetes abbildendes optisches Element, das virtuelle Zwischenbilder der Einzellichtquellen erzeugt;
  • b) mindestens ein zweites optisches Element, das Facetten aufweist, die den von den Einzellichtquellen ausgehen­ den Strahlenbündeln zugeordnet und so gerichtet sind, daß die verschiedenen Strahlenbündel unterschiedlich abgelenkt und in mindestens einem Abbildungsfleck super­ poniert werden.
Die Vorteile dieser erfindungsgemäßen Vorrichtung stimmen sinngemäß mit den oben erwähnten Vorteilen des erfindungs­ gemäßen Verfahrens überein.
Die Wirkung der Facetten kann auf die reine Strahlablenkung beschränkt sein. Die Facetten können aber auch konvex oder konkav gekrümmt sein und so eine eigene abbildende Wirkung auf die ihnen zugeordneten Strahlenbündel haben.
Zweckmäßigerweise sind die vom ersten optischen Element erzeugten Zwischenbilder vergrößert. Auf die Vorteile dieser "Vorvergrößerung" wurde ebenfalls bereits oben hingewiesen.
Ganz besonders bevorzugt wird eine Ausgestaltung der erfin­ dungsgemäßen Vorrichtung, bei welcher
  • a) das erste und das zweite optische Element ringförmig ausgebildet und koaxial zu einer gemeinsamen Bezugs­ achse angeordnet sind;
  • b) die Einzellichtquellen auf mindestens einem die Bezugs­ achse umgebenden Ring in mindestens einer Meridional­ ebene angeordnet sind;
  • c) den Einzellichtquellen unmittelbar mindestens ein drittes abbildendes optisches Element nachgeschaltet ist, welches in Sagittalrichtung die Abbildungseigen­ schaften einer Zylinderlinse aufweist und die einzelnen Strahlenbündel in sagittaler Richtung auf der Bezugs­ achse abbildet.
Diese Ausführungsform eignet sich ganz besonders gut für die Überlagerung von Strahlenbündeln, die von einer Viel­ zahl von Laserdioden-Arrays (Barren) ausgehen. Die Anord­ nung ist mit Ausnahme derjenigen der Barren selbst und der diesen nachgeschalteten dritten optischen Elemente rotationssymmetrisch. In allen Meridionalebenen, die sich in der Bezugsachse schneiden, können Barren so angeordnet werden, daß deren einzelne Laserdioden in der Meridional­ ebene liegen. Eine Grenze für die Anzahl von Barren, die in dieser Weise zusammengefaßt werden können, ist nur durch den vorhandenen Platz und die Abmessungen der Barren gesetzt. Aufgrund der Ringform des ersten und des zweiten optischen Elementes können die Abbildungseigenschaften in meridionaler und in sagittaler Richtung unabhängig voneinander betrachtet werden. Wenn also die Zylinderlin­ seneigenschaften aufweisenden dritten abbildenden optischen Elemente die Einzellaserdioden des zugehörigen Barrens in sagittaler Richtung auf der Bezugsachse abbilden, so ändert sich hieran durch Einfügung ringförmiger zusätzlichere Abbildungselement nichts. In allen Meridionalebenen wird daher durch die Facettierung des ersten abbildenden optischen Elementes erreicht, daß die von den in der entsprechenden Meridionalebene liegenden Einzellaserdioden der jeweiligen Barren ausgehenden Strahlen alle auf der Bezugsachse superponiert werden. Hier läßt sich eine extrem hohe Leistungsdichte erreichen.
Das erste und das zweite optische Element sollten reflek­ tive optische Elemente, also Spiegel sein.
Das dritte abbildende optische Element hingegen, welches die Eigenschaften einer Zylinderlinse aufweist und die Abbildung in sagittaler Richtung besorgt, ist zweckmäßiger­ weise ein refraktives optisches Element.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert; die einzige Figur zeigt im Meridionalschnitt den Strahlengang einer Vorrich­ tung zur Fokussierung der von mehreren Barren ausgehenden Strahlenbündel.
Die nachfolgend beschriebene Vorrichtung ist im wesent­ lichen ringförmig zu einer Bezugsachse ausgebildet, die in der Zeichnung mit dem Bezugszeichen 1 versehen ist. Auf einer ringförmigen, gekühlten Halterung, die in der Zeichnung nicht dargestellt ist, ist eine Mehrzahl von Barren 2 montiert; zwei dieser Barren 2 sind in der Figur erkennbar. Jeder dieser Barren enthält 2 seinerseits eine Mehrzahl einzelner Laserdioden, im dargestellten Fall fünf Laserdioden D1, D2, D3, D4, D5, von denen jeweils ein Strahlenbündel ausgeht. Die einzelnen Laser­ dioden D1 bis D5 der dargestellten Barren 2 liegen in der von der Zeichenebene gebildeten Meridionalebene des Systems. Auch in anderen, gegenüber der Zeichenebene verdrehten Meridionalebenen der Bezugsachse 1 können entsprechende Barren 2 angeordnet sein.
Die von den Laserdioden D1 bis D5 ausgehenden Strahlen­ bündel durchsetzen zunächst jeweils zwei Zylinderlinsen 3, 4, welche diese Strahlenbündel in sagittaler Richtung so beeinflussen, daß diese nach dem Durchlaufen der weiteren, nachfolgend zu beschreibenden optischen Elemente alle auf der Bezugsachse 1 abgebildet werden. Da alle diese optischen Elemente ringförmig sind, braucht der Verlauf der einzelnen Strahlenbündel in sagittaler Richtung nicht erläutert zu werden; letztendlich wird unabhängig von der Art dieser ringförmigen optischen Elemente immer in sagittaler Richtung auf der Bezugsachse 1 abgebildet.
Es bleibt daher, den Verlauf der einzelnen Strahlenbündel in meridionaler Richtung zu erläutern; dieser Strahlenver­ lauf ist in der einzigen Figur dargestellt.
Die von den Laserdioden D1 bis D5 ausgesandten Strahlen­ bündel bleiben in meridionaler Richtung von den beiden Zylinderlinsen 3, 4 im wesentlichen unbeeinflußt und treffen auf einen ersten Ringspiegel 5, welcher von den Laserdioden D1 bis D5 an den Stellen Z1 bis Z5 vergrößerte Zwischenbilder erzeugt.
Innerhalb des Strahlengangs und noch vor Erreichen der Zwischenbildsstellen Z1 bis Z5 ist ein zweiter Ringspiegel 6 vorgesehen, der zum ersten Ringspiegel 5 und zu der Halterung der Barren 2 koaxial ist. Der Ringspiegel 6 befindet sich an einer Stelle, an welcher die von den Laserdioden D1 bis D5 ausgehenden Strahlenbündel voneinan­ der getrennt sind.
Der Ringspiegel 6 besitzt für jedes von den Laserdioden D1 bis D5 ausgehende Strahlenbündel eine ringförmige Facette F1 bis F5. Jede dieser Facetten F1 bis F5 ist eine Konusfläche, im dargestellten Meridionalschnitt also geradlinig, wobei die Konuswinkel - bezogen auf die Bezugsachse 1 - unterschiedlich sind; dies hat zur Folge, daß alle Facetten F2 bis F5 gegeneinander verkippt sind. Die Wirkung der Facetten F1 bis F5 ist so, daß die vom ersten Ringspiegel 5 herkommenden Strahlenbündel, die zu­ nächst divergieren, konvergent auf einen einzigen Abbil­ dungsfleck A reflektiert werden, der auf der Bezugsachse 1 liegt. Dieser Abbildungsfleck A entsteht also durch Superposition aller von den Laserdioden D1 bis D5 ausge­ hender Strahlenbündel, die auf der die Bezugsachse 1 umgebenden ringförmigen Halterung angeordnet sind. So gelingt es, in dem Abbildungsfleck A eine hohe Leistungs­ dichte zu erzielen, die dann für die Laserbearbeitung eines Werkstücks eingesetzt werden kann.

Claims (7)

1. Verfahren zur Überlagerung von Strahlenbündeln, die von einer Mehrzahl von Einzellichtquellen, insbeson­ dere Laserdioden, ausgehen, in mindestens einem Abbildungs­ fleck, dadurch gekennzeichnet, daß von einem ersten, allen Einzellichtquellen gemeinsm zugeordneten abbildenden optischen Element (5) virtu­ elle Zwischenbilder (Z1 bis Z5) der Einzellichtquellen (D1 bis D5) erzeugt werden und daß durch ein zweites facettiertes optisches Element (6) die von den Einzel­ lichtquellen (D1 bis D5) ausgehenden Strahlenbündel so unterschiedlich abgelenkt werden, daß sie sich in mindes­ tens einem Abbildungsfleck (A) superponieren.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß von den Einzellichtquellen (D1 bis D5) vergrößerte Zwischenbilder (Z1 bis Z5) erzeugt werden.
3. Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln, die von einer Mehrzahl von Einzellichtquellen insbe­ sondere Laserdioden, ausgehen, in mindestens einem Arbeits­ fleck, dadurch gekennzeichnet, daß sie umfaßt:
  • a) mindestens ein erstes, allen Einzellichtquellen gemeinsam zugeordnetes abbildendes optisches Element (5), das virtuelle Zwischenbilder (Z1 bis Z5) der Einzellichtquellen (D1 bis D5) erzeugt;
  • b) mindestens ein zweites optisches Element (6), das Facetten (F1 bis F5) aufweist, die den von Einzellicht­ quellen (D2 bis D5) ausgehenden Strahlenbündeln zugeordnet und so gerichtet sind, daß die verschiedenen Strahlenbündel unterschiedlich abgelenkt und in mindestens einem Abbildungsfleck (A) superponiert werden.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die von dem ersten optischen Element (5) erzeugten Zwischenbilder (Z1 bis Z5) vergrößert sind.
5. Vorrichtung nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekenn­ zeichnet, daß
  • a) das erste (5) und das zweite (6) optische Element ringförmig ausgebildet und koaxial zu einer gemeinsamen Bezugsachse (1) angeordnet sind;
  • b) die Einzellichtquellen (D1 bis D5) auf mindestens einem die Bezugsachse (1) umgebenden Ring in mindes­ tens einer Meridionalebene angeordnet sind;
  • c) den Einzellichtquellen (D1 bis D5) unmittelbar mindes­ tens ein drittes abbildendes optisches Element (3, 4) nachgeschaltet ist, welches in Sagittalrichtung die Abbildungseigenschaften einer Zylinderlinse aufweist und die einzelnen Strahlenbündel in sagittaler Richtung auf der Bezugsachse (1) abbildet.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das erste (5) und das zweite (6) optische Element reflektive optische Elemente sind.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das dritte abbildende optische Element (3, 4) ein refraktives optisches Element ist.
DE10062453A 2000-12-14 2000-12-14 Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln Expired - Fee Related DE10062453B4 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10062453A DE10062453B4 (de) 2000-12-14 2000-12-14 Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10062453A DE10062453B4 (de) 2000-12-14 2000-12-14 Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE10062453A1 true DE10062453A1 (de) 2002-07-04
DE10062453B4 DE10062453B4 (de) 2007-07-19

Family

ID=7667223

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10062453A Expired - Fee Related DE10062453B4 (de) 2000-12-14 2000-12-14 Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE10062453B4 (de)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1637918A1 (de) 2004-09-20 2006-03-22 My Optical Systems GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
EP1637919A1 (de) 2004-09-20 2006-03-22 My Optical Systems GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
DE102004045912A1 (de) * 2004-09-20 2006-04-06 My Optical Systems Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
WO2006037566A1 (de) * 2004-10-06 2006-04-13 Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg Laseranordnung
WO2016079062A1 (de) * 2014-11-19 2016-05-26 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Optisches system zur strahlformung
US10620444B2 (en) 2014-11-19 2020-04-14 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Diffractive optical beam shaping element
US10882143B2 (en) 2014-11-19 2021-01-05 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh System for asymmetric optical beam shaping

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5319496A (en) * 1992-11-18 1994-06-07 Photonics Research Incorporated Optical beam delivery system
CA2368958A1 (en) * 1999-03-31 2000-10-12 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. Optical arrangement for symmetrizing the radiation of two-dimensional arrays of laser diodes

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7289269B2 (en) 2004-09-20 2007-10-30 My Optical System Gmbh Process and arrangement for superimposing ray bundles
EP1637918A1 (de) 2004-09-20 2006-03-22 My Optical Systems GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
DE102004045912A1 (de) * 2004-09-20 2006-04-06 My Optical Systems Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
DE102004045911A1 (de) * 2004-09-20 2006-04-06 My Optical Systems Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
DE102004045911B4 (de) * 2004-09-20 2007-08-02 My Optical Systems Gmbh Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
DE102004045912B4 (de) * 2004-09-20 2007-08-23 My Optical Systems Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
DE102004045914A1 (de) * 2004-09-20 2006-03-30 My Optical Systems Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
EP1637919A1 (de) 2004-09-20 2006-03-22 My Optical Systems GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
DE102004045914B4 (de) * 2004-09-20 2008-03-27 My Optical Systems Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
US7810938B2 (en) 2004-10-06 2010-10-12 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Laser configuration
WO2006037566A1 (de) * 2004-10-06 2006-04-13 Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg Laseranordnung
US11780033B2 (en) 2014-11-19 2023-10-10 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh System for asymmetric optical beam shaping
CN107003530A (zh) * 2014-11-19 2017-08-01 通快激光与***工程有限公司 用于射束成形的光学***
US10620444B2 (en) 2014-11-19 2020-04-14 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Diffractive optical beam shaping element
US10661384B2 (en) 2014-11-19 2020-05-26 Trumpf Laser—und Systemtechnik GmbH Optical system for beam shaping
US10882143B2 (en) 2014-11-19 2021-01-05 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh System for asymmetric optical beam shaping
EP3799999A1 (de) * 2014-11-19 2021-04-07 TRUMPF Laser-und Systemtechnik GmbH Optisches system zur strahlformung
US11150483B2 (en) 2014-11-19 2021-10-19 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Diffractive optical beam shaping element
WO2016079062A1 (de) * 2014-11-19 2016-05-26 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Optisches system zur strahlformung

Also Published As

Publication number Publication date
DE10062453B4 (de) 2007-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0984312B1 (de) Laserdiodenanordnung
DE102004045912B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
DE10136611C1 (de) Optische Anordnung zur Formung und Homogenisierung eines von einer Laserdiodenanordnung ausgehenden Laserstrahls
DE19800590B4 (de) Optische Anordnung zur Symmetrierung der Strahlung eines oder mehrerer übereinander angeordneter Hochleistungsdiodenlaser
DE4324848C1 (de) Videoprojektionssystem
DE19500513C1 (de) Optische Anordnung zur Verwendung bei einer Laserdiodenanordnung
WO2001027686A1 (de) Vorrichtung zur symmetrierung der strahlung von linearen optischen emittern
WO1996021877A1 (de) Optische anordnung zur verwendung bei einer laserdiodenanordnung
DE112007000457T5 (de) Kohärenter Faser-Strahlvereiniger mit optischem Beugungselement
EP2217961A1 (de) Vorrichtung zur strahlformung
EP1373966B1 (de) Strahlformungsvorrichtung, anordnung zur einkopplung eines lichtstrahls in eine lichtleitfaser sowie strahldreheinheit für eine derartige strahlformungsvorrichtung oder eine derartige anordnung
DE19515321A1 (de) Durchstimmbare, justierstabile Laserlichtquelle mit spektral gefiltertem Ausgang
DE19846532C1 (de) Einrichtung zur Strahlformung eines Laserstrahls und Hochleistungs-Diodenlaser mit einer solchen Einrichtung
EP1469282B1 (de) Vorrichtung zum Erzeugen und Projizieren von Lichtmarken
DE10062453B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
EP1637919A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
WO2020193255A1 (de) Vorrichtung zur erzeugung einer räumlich modulierbaren leistungsdichteverteilung aus laserstrahlung
DE10062454B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
WO2013068168A1 (de) Laser-leuchtstoff-vorrichtung mit laserarray
DE19841285C1 (de) Optische Anordnung zur Verwendung bei einer Laserdiodenanordnung sowie Diodenlaser
DE10121678B4 (de) Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln, die von einer Mehrzahl von Einzelstrahlungsquellen ausgehen, in mindestens einem Abbildungsfleck sowie Vorrichtung zur Aufteilung der von einer Strahlungsquelle ausgehenden Strahlung in getrennte Strahlenbündel
DE10036787A1 (de) Anordnung und Vorrichtung zur optischen Strahltransformation
DE102020118421B4 (de) Laservorrichtung
DE102004045911B4 (de) Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln
EP1483615A1 (de) Modulationsvorrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: MY OPTICAL SYSTEMS GMBH, 97232 GIEBELSTADT, DE

8181 Inventor (new situation)

Inventor name: KLEINHUBER, HARALD G., ST.JEANNERT, FR

8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee