DE10058770A1 - Vorrichtung zum Aufsetzen und Abnehmen von Masken auf ein bzw. von einem Substrat bei einer Bearbeitung des Substrats im Vakuum - Google Patents
Vorrichtung zum Aufsetzen und Abnehmen von Masken auf ein bzw. von einem Substrat bei einer Bearbeitung des Substrats im VakuumInfo
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Abstract
Es wird eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Aufsetzen und Abnehmen von Masken auf ein bzw. von einem Substrat bei einer Bearbeitung des Substrats im Vakuum zur Verfügung gestellt. Die Vorrichtung weist eine Vakuumschleuse, einen Deckel und einen Träger für das Substrat auf, wobei der Deckel angepaßt ist, die Masken zu tragen, auf das Substrat aufzusetzen und von dem Substrat abzunehmen, das Substrat in eine Bearbeitungskammer ein- bzw. ausgeschleust wird. Die Vorteile der Erfindung liegen in einem vereinfachten Aufsetzen und Abnehmen von mitlaufenden Masken bei der Bearbeitung eines Substrats im Vakuum, dem Einsparen von zusätzlichen Einrichtungen im Vakuum und in der Verringerung von Behandlungs(handling)-Fehlern.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Aufsetzen und Abnehmen
von Masken auf ein bzw. von einem Substrat bei einer Bearbeitung des Substrats im
Vakuum. Insbesondere kann die Erfindung bei der Beschichtung von CDs (Compact
Discs) oder Hälften von DVDs (Digital Versatile Discs) eingesetzt werden.
In einer Beschichtungsanlage, zum Beispiel einer Mehrkathoden-Sputteranlage, sollen
mehrere Schichten deckungsgleich auf ein Substrat aufgebracht werden. Dazu sollen
jeweils mitlaufende Masken auf ein Substrat aufgesetzt werden. Aus der DE-C1-
42 35 678 ist eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Aufsetzen und Abnehmen eines
Maskierungsorgans auf einem Werkstück bei der Bearbeitung des Werkstücks im Va
kuum bekannt. Das Werkstück wird durch eine Schleuse in eine Vakuumkammer ge
bracht und im Vakuumraum unter Vakuumbedingungen mit einem Maskierungsorgan
zusammengeführt. Dann erfolgt eine Beschichtung des maskierten Werkstücks. Nach
der Beschichtung wird das Maskierungsorgan wieder entfernt und auf ein neues zu be
schichtendes Werkstück im Vakuum wiederaufgebracht. Das Maskierungsorgan ver
bleibt dabei während mehrerer Durchläufe im Vakuum, um das Einschleusen von Gas
oder Wasserdampf in die Behandlungskammer zu vermeiden bzw. zu minimieren.
Wenn das Maskierungsorgan nach mehreren Durchläufen durch die Beschichtung zu
dick geworden ist, wird es nicht mehr in der Vakuumkammer zurückgeführt, sondern mit
dem beschichteten Werkstück ausgeschleust. Danach wird ein neues Maskierungsor
gan mit einem neu zugeführten Werkstück durch die Schleuse in die Vakuumkammer
eingeführt und während weiterer Durchläufe für das Maskieren von Werkstücken in der
Vakuumkammer verwendet. Bei diesem Stand der Technik soll ein häufiges Ein- und
Ausschleusen der Maskierungsorgane vermieden werden.
Demgegenüber liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde ein vereinfachtes Verfahren
zum Aufsetzen und Abnehmen von Masken zur Verfügung zu stellen, bei dem zusätzli
che Einrichtungen für das Aufsetzen und Abnehmen von Masken in einer Vakuum
kammer eingespart werden können und die Gefahr von Behandlungs(handling)-Fehlern
verringert wird.
Die Aufgabe wird mit den Merkmalen der Patentansprüche gelöst.
Bei der Lösung geht die Erfindung von folgenden Grundgedanken aus.
Die Masken und das Substrat werden bereits in einer Vakuumschleuse vor der Bear
beitungskammer zusammengebracht bzw. wieder voneinander getrennt. Dabei ist der
Deckel der Schleuse so ausgebildet, daß die Masken für das Substrat getragen und
transportiert werden können; beim Kontaktieren der Masken mit dem Substrat auf ei
nem Träger in der Schleuse werden die Masken auf das Substrat aufgesetzt; umge
kehrt können die Masken vom Substrat mit Hilfe des Deckels wieder abgenommen
werden. In einer bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform ist ein elastisches
Glied vorgesehen, das bei geschlossener Schleuse, im nicht evakuierten Zustand, min
destens einen vorbestimmten Abstand zwischen den Masken und dem Substrat ein
stellt. Beim Evakuieren der Schleuse wird das elastische Glied zusammengezogen bzw.
zusammengedrückt, und der Deckel mit den Masken nähert sich allmählich dem Sub
strat, so daß die Masken sanft aufgesetzt werden können. Bei der Abnahme von Mas
ken von dem Substrat nach der Bearbeitung bewirkt die Belüftung der Schleuse, daß
sich das elastische Glied wieder ausdehnt und somit die von dem Deckel aufgenomme
nen Masken sanft von dem Substrat entfernt.
Die Erfindung hat folgende Vorteile: schnelles Aufsetzen und Abnehmen von mitlaufen
den Masken, sanfte Annäherung der Masken an das Substrat; bei einer Beschichtung in
einer Beschichtungsanlage kann ein Schichtzuwachs auf den Masken ausgeglichen
werden; das Substrat wird direkt an den Träger übergeben, dadurch werden Behand
lungsfehler verringert; Abpumpen des Raumes zwischen dem Substrat und dem Träger
vor dem Kontaktieren des Substrats mit den Masken möglich; größere Sicherheit und
Rückverfolgbarkeit der Maskierung, da die Masken auf denselben Träger aufgesetzt
und wieder abgenommen werden können.
Im folgenden wird die Erfindung anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine erfindungsgemäße Ausführungsform;
Fig. 2a bis 2c Schritte des erfindungsgemäßen Verfahrens;
Fig. 3 einen vergrößerten Ausschnitt von Fig. 2a;
Fig. 4 einen vergrößerten Ausschnitt von Fig. 3; und
Fig. 5 einen vergrößerten Ausschnitt von Fig. 2b.
Fig. 1 zeigt eine Vakuumschleuse 3 einer Vakuum-Bearbeitungskammer. Auf der der
Vakuum-Bearbeitungskammer zugewandten Seite befindet sich auf einem unteren
Schleusendeckel 3d ein Träger 3b für ein Substrat 2. Oberhalb der Schleuse in einer
abgehobenen Position befindet sich ein oberer Schleusendeckel 3a. Der obere Schleu
sendeckel trägt eine ringförmige Außenmaske 1a und eine Innenmaske 1b für das Sub
strat 2. Die Außenmaske 1a mit dem Magneten 5a ist über elastische Dichtringe 4a
achsparallel beweglich im Schleusendeckel 3a gehaltert. Entsprechend ist die Innen
maske 1b mit dem zugehörigen Magneten 5b über einem elastischen Dichtring 4b
achsparallel beweglich im Schleusendeckel 3a gehaltert. Die Dichtringe 4a und 4b wer
den nachstehend gemeinsam als Dichtring oder elastisches Glied 4 bezeichnet. Die
Masken werden an dem Deckel durch die Permanent-Elektrohaftmagneten 5a und 5b
gehalten. Diese Magneten werden durch Dichtringe 4 gegenüber dem Deckel 3a abge
dichtet. Im Träger 3b befinden sich Permanentmagneten 6a und 6b, die den Perma
nent-Elektrohaftmagneten 5a und 5b mit den Masken 1a bzw. 1b gegenüberliegen.
Fig. 2a bis 2c zeigen Schritte des erfindungsgemäßen Verfahrens mittels der Vorrich
tung gemäß Fig. 1. Fig. 2a zeigt die Schleuse 3 nach dem Einsetzen des Schleusen
deckels 3a mit den Masken 1a und 1b, wobei die Schleuse noch nicht evakuiert wurde.
Wie dem vergrößerten Ausschnitt von Fig. 2a gemäß Fig. 3 zu entnehmen ist, wird
durch die Dichtungsringe 4, die ein elastisches Glied ausbilden, verhindert, daß die
Masken 1a und 1b am Rand auf dem Träger 3b bzw. auf dem Substrat 2 aufsitzen. Die
ser Sachverhalt ist in einer weiteren Vergrößerung in Fig. 4 gezeigt. Die ringförmige
Außenmaske 1a befindet sich im Axial-Abstand d von dem Träger 3b mit dem Perma
nent-Magneten 6a. Dabei sitzt die Maske 1a noch nicht auf dem Substrataußenrand
auf, sondern ist durch einen geringen Axial-Abstand d' von diesem getrennt. Das Substrat
2 hat dabei einen Axial-Abstand d" zum Träger 3b. Es gilt die Bedingung
d = d' + d", so daß der das Substrat 2 abdeckende Rand der Maske 1a dieselbe Bewe
gungsfreiheit wie der dem Träger gegenüberliegende Teil der Maske ohne Substrat hat.
Die Innenmaske 1b hat einen Abstand d von dem Substrat 2.
Beim Evakuieren der Schleuse durch den Kanal 7, der auch zum Belüften dient, bewirkt
der im Schleuseninnenraum 3c sich aufbauende Unterdruck, daß die Dichtringe 4 kom
primiert und die Permanent-Elektrohaftmagneten 5a und 5b mit den Masken 1a und 1b
sanft auf das Substrat und den Träger 3b aufgesetzt werden. Die Maske 1a biegt dabei
den Außenrand des Substrats 2 bis zum Aufsetzen auf den Träger 3b nach unten. Die
ser evakuierte Zustand der Schleuse 3 ist in Fig. 2b dargestellt. Fig. 5 zeigt einen ver
größerten Ausschnitt von Fig. 2b, in dem zu erkennen ist, daß die Maske 1b den Per
manentmagneten 6a des Trägers 3b kontaktiert und dabei das Substrat am Rand bis
zum Kontakt mit dem Träger nach unten biegt. Die Innenmaske 1b kontaktiert das Sub
strat. Die elastischen Dichtringe 4 sind unter dem Einfluß des Atmosphärendrucks ge
genüber dem Vakuumdruck komprimiert. Im evakuierten Zustand werden die Elektro
haftmagneten 5a und 5b so mit Strom versorgt, daß sie die Wirkung der in diesen Ma
gneten gleichfalls vorhandenen Permanentmagneten eliminieren und somit die Masken
1a und 1b freigeben. Die Masken werden somit von den Permanentmagneten 6a und
6b gehalten. Im weiteren Verlauf kann das Substrat aus der Schleuse 3 zu den entspre
chenden Bearbeitungsstationen in der Vakuumkammer transportiert werden.
Nach der Bearbeitung, vorzugsweise einer Beschichtung, wird mit Hilfe des unteren
Schleusendeckels 3d das Substrat auf dem Träger 3b mit den Masken 1a und 1b an die
Schleuse 3 in Richtung des Pfeils A wieder herangefahren, wie in Fig. 2c gezeigt ist.
Nach der Befestigung des Trägers 3b an der Schleuse wird die Stromversorgung der
Permanent-Elektrohaftmagneten 5a und 5b abgeschaltet und die Permanentmagneten
dieser Magneten, die stärker als die Permanentmagneten 6a und 6b des Trägers 3b
sind, übernehmen die Masken 1a und 1b. Danach wird die Schleuse belüftet und durch
die Dekompression der Dichtringe 4 entfernen sich die Magneten 5a und 5b mit den
Masken sanft von dem Träger 3b und dem Substrat 2. Danach wird der Deckel 3b mit
den Masken 1a und 1b von der Schleuse abgenommen und das Substrat 2 kann ge
wechselt werden. Der Vorgang der Maskierung des Substrats mit den Masken 1a und
1b kann nun wiederholt werden, bis eine Reinigung der Masken erforderlich ist. Das
elastische Glied 4, in der bevorzugten Ausführungsform die Dichtringe, ermöglicht einen
Ausgleich für eine wachsende Schichtdicke auf den Masken bei zum Beispiel einer Be
schichtungsanlage. Wenn die Schichtdicke auf den Masken 1a und 1b so stark ist, daß
eine Reinigung erforderlich ist, wird der Deckel 3b mit diesen Masken gegen einen vor
bereiteten anderen Deckel mit gereinigten bzw. neuen Masken 1a und 1b ausgetauscht,
so daß der Prozeßablauf nicht verzögert wird.
Vorzugsweise wird durch das elastische Glied vor dem Evakuieren ein Abstand d von
einige Zehntel Millimeter eingestellt. Dieser Abstand verhindert auch das Erzeugen von
Partikeln durch die Masken. Weiterhin ist ein besseres Abpumpen des Raumes zwi
schen dem Substrat 2 und dem Träger 3b möglich.
In einer bevorzugten Ausführungsform erfolgt das Aufsetzen und Abnehmen der Mas
ken in derselben Schleuse. Es besteht aber auch die Möglichkeit, daß die Masken in
einer ersten Schleuse auf das Substrat aufgesetzt werden und nach der Bearbeitung
des Substrats in einer zweiten Schleuse von dem Substrat wieder abgenommen wer
den. Auf diese Weise können in der ersten Schleuse ohne Unterbrechung ständig ge
reinigte Masken auf das Substrat aufgesetzt werden. Das ist dann von Interesse, wenn
durch eine größere Zahl von Beschichtungen während eines Durchlaufs die Maske zu
dick wird.
Vorzugsweise wird die erfindungsgemäße Vorrichtung und das erfindungsgemäße
Verfahren bei einer Beschichtungsanlage, z. B. einer Mehrkathoden-Sputteranlage für
CDs oder die Hälften von DVDs verwendet.
Claims (19)
1. Vorrichtung zum Aufsetzen und Abnehmen von Masken (1a, 1b) auf ein bzw. von
einem Substrat (2) bei einer Bearbeitung des Substrats (2) im Vakuum, mit einer
Vakuumschleuse (3) mit einem Deckel (3a) und einem Träger (5b) für das Sub
strat (2), wobei der Deckel (3a) angepaßt ist, um die Masken (1a, 1b) zu tragen,
auf das Substrat (2) aufzusetzen und von dem Substrat (2) abzunehmen.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1 mit mindestens einem elastischen Glied (4), das bei
geschlossener Schleuse (3) im nicht evakuierten Zustand der Schleuse (3) minde
stens einen vorbestimmten Abstand zwischen den Masken (1a, 1b) und dem Sub
strat (2) einstellt.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei im Deckel (3a) und im Träger (3b)
Magneten (5a, 5b bzw. 6a, 6b) vorgesehen sind, die angepaßt sind, um die Mas
ken (1a, 1b) zu halten oder freizugeben.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, wobei die Magneten im Deckel (3a) Permanent-
Elektrohaftmagneten (5a, 5b), die Magneten im Träger (3b) Permanentmagneten
(6a, 6b) und die Permanentmagneten (5a, 5b) im Deckel (3a) stärker als die Per
manentmagneten (6a, 6b) im Träger (3b) sind.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, wobei das elastische Glied (4) durch Dichtungsringe
der Permanent-Elektrohaftmagneten (5a, 5b) ausgebildet ist, die die Permanent-
Elektrohaftmagneten (5a, 5b) im Deckel (3b) gegen den Schleuseninnenraum (3c)
abdichten.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei eine erste Maske eine den
Außenrand des Substrats (2) bedeckende Außenmaske (1a) und eine zweite
Maske eine das Zentrum des Substrats (2) bedeckende Innenmaske (1b) ist.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, wobei das elastische Glied (4) im nicht komprimier
ten Zustand einen vorbestimmten Abstand (d) der ersten Maske (1a) gegenüber
dem Träger (3b) und der zweiten Maske (1b) gegenüber dem Substrat (2) einstellt,
die erste Maske (1a) durch einen Abstand (d') von dem Substrat (2) entfernt ist,
der Außenrand des Substrats (2) durch einen Abstand (d") von dem Träger (3b)
entfernt ist und die Beziehung gilt: d = d' + d".
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, wobei der Abstand d von 0,1 mm bis 1 mm beträgt.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8 mit einem weiteren Schleusendec
kel (3a) mit gereinigten oder neuen Masken (1a, 1b) zum Austausch gegen den
Schleusendeckel (3a) gemäß Anspruch 1 bis 8 mit zu reinigenden Masken (1a,
1b).
10. Verfahren zum Aufsetzen von Masken (1a, 1b) auf ein Substrat (2) mittels der Vor
richtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, mit den Schritten:
- a) Verschließen der Vakuumschleuse (3), in der sich das Substrat (2) auf dem Träger (3b) befindet, mit dem Deckel (3a) mit daran gehalterten Masken (1a, 1b);
- b) Evakuieren des Schleuseninnenraums (3c);
- c) Aufsetzen der Masken (1a, 1b) auf das Substrat (2); und
- d) Lösen des Trägers (3b) mit dem maskierten Substrat (2) von der Schleuse (3).
11. Verfahren zum Abnehmen von Masken (1a, 1b) von einem Substrat (2) mittels der
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, mit den Schritten:
- a) Befestigen des Trägers (3b) mit dem Substrat (2) mit den Masken (1a, 1b) an der Schleuse (3) unterhalb des Deckels (3a) im Vakuum;
- b) Übernehmen der Masken (1a, 1b) von dem Substrat (2) durch den Deckel (3a);
- c) Belüften der Schleuse(3); und
- d) Entfernen des Deckeis (2) mit den Masken (1a, 1b) von der Schleuse (3).
12. Verfahren nach Anspruch 10, wobei
im Schritt (a) die Außen- und Innenmasken (1a bzw. 1b) durch die Permanent- Elektrohaftmagneten (5a bzw. 5b) gehalten werden und durch Dichtringe (4) ein Abstand (d) der Außen- und Innenmasken (1a bzw. 1b) von dem Träger (3b) bzw. dem Substrat (2) eingestellt wird;
im Schritt (b) durch die Kompression der Dichtringe (4) ein sanftes Aufsetzen der Masken (1a, 1b) auf das Substrat (2) und den Träger (3) erfolgt; und
im Schritt (c) die Permanent-Elektrohaftmagneten (5a, 5b) mit Strom versorgt wer den, so daß die Haltekraft der Permanentmagneten (5a, 5b) kompensiert wird, und die Masken (1a, 1b) nur noch durch die Permanentmagneten (6a, 6b) des Trägers (3b) gehalten werden.
im Schritt (a) die Außen- und Innenmasken (1a bzw. 1b) durch die Permanent- Elektrohaftmagneten (5a bzw. 5b) gehalten werden und durch Dichtringe (4) ein Abstand (d) der Außen- und Innenmasken (1a bzw. 1b) von dem Träger (3b) bzw. dem Substrat (2) eingestellt wird;
im Schritt (b) durch die Kompression der Dichtringe (4) ein sanftes Aufsetzen der Masken (1a, 1b) auf das Substrat (2) und den Träger (3) erfolgt; und
im Schritt (c) die Permanent-Elektrohaftmagneten (5a, 5b) mit Strom versorgt wer den, so daß die Haltekraft der Permanentmagneten (5a, 5b) kompensiert wird, und die Masken (1a, 1b) nur noch durch die Permanentmagneten (6a, 6b) des Trägers (3b) gehalten werden.
13. Verfahren nach Anspruch 11, wobei
im Schritt (a) die Masken (1a, 1b) die Permanent-Elektrohaftmagneten (5a, 5b) kontaktieren;
im Schritt (b) die Stromversorgung der Permanent-Elektrohaftmagnete (5a) abge stellt wird und die im Vergleich zu den Permanentmagneten (6a, 6b) des Trägers (3b) stärkeren Permanentmagneten (5a, 5b) im Deckel (3a) die Masken (1a, 1b) vom Substrat (2) übernehmen; und
im Schritt (c) durch die Dekompression der Dichtringe (4) die Masken (1a, 1b) sanft von dem Substrat entfernt werden.
im Schritt (a) die Masken (1a, 1b) die Permanent-Elektrohaftmagneten (5a, 5b) kontaktieren;
im Schritt (b) die Stromversorgung der Permanent-Elektrohaftmagnete (5a) abge stellt wird und die im Vergleich zu den Permanentmagneten (6a, 6b) des Trägers (3b) stärkeren Permanentmagneten (5a, 5b) im Deckel (3a) die Masken (1a, 1b) vom Substrat (2) übernehmen; und
im Schritt (c) durch die Dekompression der Dichtringe (4) die Masken (1a, 1b) sanft von dem Substrat entfernt werden.
14. Verfahren nach Anspruch 10 und 11 oder nach Anspruch 12 und 13, wobei das
Aufsetzen und das Absetzen der Masken (1a, 1b) in derselben Schleuse (3)
durchgeführt werden.
15. Verfahren nach Anspruch 10 und 11 oder Anspruch 12 und 13, wobei das Aufset
zen und das Absetzen der Masken (1a, 1b) in getrennten Schleusen (3) durchge
führt werden.
16. Verfahren nach Anspruch 15, wobei in einer ersten Schleuse (3) gereinigte oder
neue Masken (1a, 1b) auf das Substrat (2) aufgesetzt und in einer zweiten
Schleuse (3) benutzte Masken (1a, 1b) von dem Substrat 2 abgenommen werden.
17. Verwendung der Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9 und des Verfah
rens nach einem der Ansprüche 10 bis 16 in einer Beschichtungsanlage für das
Substrat (2).
18. Verwendung nach Anspruch 17 in einer Mehrkathoden-Sputteranlage.
19. Verwendung nach Anspruch 17 oder 18, wobei das Substrat (2) eine CD oder die
Hälfte einer DVD ist.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2000158770 DE10058770A1 (de) | 2000-11-27 | 2000-11-27 | Vorrichtung zum Aufsetzen und Abnehmen von Masken auf ein bzw. von einem Substrat bei einer Bearbeitung des Substrats im Vakuum |
DE10158031A DE10158031A1 (de) | 2000-11-27 | 2001-11-27 | Vorrichtung und Verfahren zum Aufsetzen und Abnehmen von Masken auf ein bzw. von einem Substrat bei einer Bearbeitung des Substrats im Vakuum |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
DE2000158770 DE10058770A1 (de) | 2000-11-27 | 2000-11-27 | Vorrichtung zum Aufsetzen und Abnehmen von Masken auf ein bzw. von einem Substrat bei einer Bearbeitung des Substrats im Vakuum |
Publications (1)
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DE10058770A1 true DE10058770A1 (de) | 2002-06-06 |
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Family Applications (1)
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DE2000158770 Withdrawn DE10058770A1 (de) | 2000-11-27 | 2000-11-27 | Vorrichtung zum Aufsetzen und Abnehmen von Masken auf ein bzw. von einem Substrat bei einer Bearbeitung des Substrats im Vakuum |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE10058770A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH706662A1 (de) * | 2012-06-14 | 2013-12-31 | Oc Oerlikon Balzers Ag | Transport- und Übergabevorrichtung für scheibenförmige Substrate, Vakuumbehandlungsanlage und Verfahren zur Herstellung behandelter Substrate. |
DE102013105576B3 (de) * | 2013-05-30 | 2014-01-02 | Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh | Probentransfervorrichtung |
US9694990B2 (en) | 2012-06-14 | 2017-07-04 | Evatec Ag | Transport and handing-over arrangement for disc-shaped substrates, vacuum treatment installation and method for manufacture treated substrates |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4235678C1 (de) * | 1992-10-22 | 1994-05-26 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur Oberflächenbehandlung eines Werkstückes, und Vakuumbehandlungsanlage zur Durchführung des Verfahrens |
DE29510381U1 (de) * | 1995-06-27 | 1995-09-07 | Leybold Ag, 63450 Hanau | Vorrichtung zum Beschichten eines scheibenförmigen Substrats |
DE29707683U1 (de) * | 1996-10-01 | 1997-06-26 | Balzers Prozess Systeme Vertriebs- und Service GmbH, 81245 München | Transport- und Uebergabeeinrichtung |
-
2000
- 2000-11-27 DE DE2000158770 patent/DE10058770A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4235678C1 (de) * | 1992-10-22 | 1994-05-26 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur Oberflächenbehandlung eines Werkstückes, und Vakuumbehandlungsanlage zur Durchführung des Verfahrens |
DE29510381U1 (de) * | 1995-06-27 | 1995-09-07 | Leybold Ag, 63450 Hanau | Vorrichtung zum Beschichten eines scheibenförmigen Substrats |
DE29707683U1 (de) * | 1996-10-01 | 1997-06-26 | Balzers Prozess Systeme Vertriebs- und Service GmbH, 81245 München | Transport- und Uebergabeeinrichtung |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JP 03-138366 A (Pat. Abstr. of JP, CD-ROM) * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH706662A1 (de) * | 2012-06-14 | 2013-12-31 | Oc Oerlikon Balzers Ag | Transport- und Übergabevorrichtung für scheibenförmige Substrate, Vakuumbehandlungsanlage und Verfahren zur Herstellung behandelter Substrate. |
US9694990B2 (en) | 2012-06-14 | 2017-07-04 | Evatec Ag | Transport and handing-over arrangement for disc-shaped substrates, vacuum treatment installation and method for manufacture treated substrates |
US10301125B2 (en) | 2012-06-14 | 2019-05-28 | Evatec Ag | Transport and handing-over arrangement for disc-shaped substrates, vacuum treatment installation and method for manufacture treated substrates |
DE102013105576B3 (de) * | 2013-05-30 | 2014-01-02 | Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh | Probentransfervorrichtung |
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