DE06121351T1 - Lichtempfindliche lithografische Druckplatte und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte - Google Patents

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Abstract

Eine strahlungsempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe, die eine strahlungsempfindliche Schicht und eine Schutzschicht auf einem Träger umfasst, wobei die strahlungsempfindliche Schicht (A) ein Ethylenmonomer, (B) ein Sensibilisierungsmittel und (C) einen Radikalbildner enthält, dadurch gekennzeichnet, dass die strahlungsempfindliche Schicht eine spektrale Höchstempfindlichkeit im Wellenlängenbereich zwischen 390 nm und 430 nm aufweist, die für Bilderzeugung auf der strahlungsempfindlichen lithografischen Druckplatte minimal erforderliche Belichtungsintensität bei einer Wellenlänge von 410 nm (S410) höchstens 100 μJ/cm2 beträgt, das Verhältnis zwischen der für Bilderzeugung minimal erforderlichen Belichtungsintensität bei einer Wellenlänge von 450 nm (S450) und der für Bilderzeugung minimal erforderlichen Belichtungsintensität bei einer Wellenlänge von 410 nm (S410) 0 < S410/S450 ≤ 0,1 beträgt, das Sensibilisierungsmittel (B) eine Dialkylaminobenzolverbindung ist und der Radikalbildner eine Hexaarylbisimidazolverbindung ist.

Claims (12)

  1. Eine strahlungsempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe, die eine strahlungsempfindliche Schicht und eine Schutzschicht auf einem Träger umfasst, wobei die strahlungsempfindliche Schicht (A) ein Ethylenmonomer, (B) ein Sensibilisierungsmittel und (C) einen Radikalbildner enthält, dadurch gekennzeichnet, dass die strahlungsempfindliche Schicht eine spektrale Höchstempfindlichkeit im Wellenlängenbereich zwischen 390 nm und 430 nm aufweist, die für Bilderzeugung auf der strahlungsempfindlichen lithografischen Druckplatte minimal erforderliche Belichtungsintensität bei einer Wellenlänge von 410 nm (S410) höchstens 100 μJ/cm2 beträgt, das Verhältnis zwischen der für Bilderzeugung minimal erforderlichen Belichtungsintensität bei einer Wellenlänge von 450 nm (S450) und der für Bilderzeugung minimal erforderlichen Belichtungsintensität bei einer Wellenlänge von 410 nm (S410) 0 < S410/S450 ≤ 0,1 beträgt, das Sensibilisierungsmittel (B) eine Dialkylaminobenzolverbindung ist und der Radikalbildner eine Hexaarylbisimidazolverbindung ist.
  2. Strahlungsempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Dialkylaminobenzolverbindung eine Dialkylaminobenzophenonverbindung ist.
  3. Strahlungsempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Dialkylaminobenzolverbindung als Substituent auf dem Kohlenstoffatom in p-Stellung zur Aminogruppe auf dem Benzolring eine aromatische heterocyclische Gruppe enthält.
  4. Strahlungsempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Dialkylaminobenzolverbindung eine stickstoffhaltige heterocyclische Struktur umfasst, die gebildet ist durch Verknüpfung der die Dialkylaminogruppe bildenden Alkylgruppen und/oder durch Verknüpfung der Alkylgruppe mit dem Kohlenstoffatom auf dem Benzolring, das an das Kohlenstoffatom, an das die Aminogruppe gebunden ist, angrenzt.
  5. Strahlungsempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Menge der Dialkylaminobenzolverbindung zwischen 1 und 30 Gewichtsteilen pro 100 Gewichtsteile des Ethylenmonomers liegt.
  6. Strahlungsempfindliche lithografische lithografische Druckplattenvorstufe nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Menge der Hexaarylbisimidazolverbindung zwischen 15 und 40 Gewichtsteilen pro 100 Gewichtsteile des Ethylenmonomers liegt.
  7. Strahlungsempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die strahlungsempfindliche Schicht ferner eine Wasserstoffdonorverbindung enthält.
  8. Strahlungsempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Wasserstoffdonorverbindung eine Mercaptogruppe enthält.
  9. Strahlungsempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die strahlungsempfindliche Schicht ferner ein Bindemittel enthält.
  10. Strahlungsempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die strahlungsempfindliche Schicht ferner ein färbendes Pigment enthält.
  11. Ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte, das folgende Schritte umfasst: (i) bildmäßige Belichtung einer strahlungsempfindlichen lithografischen Druckplattenvorstufe nach einem der vorstehenden Ansprüche mit Laserlicht mit einer Wellenlänge zwischen 390 nm und 430 nm, wobei die Belichtung der Vorstufe mit Laserlicht bei einer Höchstintensität von 100 μJ/cm2 erfolgt, und (ii) Entwicklung der belichteten Platte mit einem wässrigen Entwickler.
  12. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Belichtung der Vorstufe mit dem Laserlicht bei einer Höchstintensität von 50 μJ/cm2 erfolgt.
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