DD244993A1 - METHOD AND DEVICE FOR SURFACE TREATMENT OF SMALL PARTS - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf die Oberflaechenbehandlung von Massenkleinteilen, wie Niete, Druckknoepfe und aehnliche Erzeugnisse, mit dem Ziel, diese mit einer goldfarbigen Oberflaeche zu versehen und der Aufgabenstellung, dies mit Titannitridbeschichtung zu erreichen. Geloest wird dies dadurch, dass die Massenkleinteile in einer zweiaxial bewegten Siebtrommel im Rezipienten beschichtet werden. Fig. 1The invention relates to the surface treatment of Massenkleinteilen, such as rivets, push buttons and similar products, with the aim of providing them with a gold-colored surface and the task to achieve this with titanium nitride coating. This is achieved by coating the bulk solids in a two-axial moving screen drum in the recipient. Fig. 1
Description
Hierzu 1 Seite ZeichnungenFor this 1 page drawings
Die Erfindung bezieht sich auf die Oberflächenbehandlung von Massenkleinteilen mittels Titannitridbeschichtung.The invention relates to the surface treatment of mass small parts by means of titanium nitride coating.
Es ist bekannt, für die Beschichtung von mittel- und großflächigen Teilen mit einem Titannitridüberzug das Verdampfen von Titan in einer Stickstoffgasatmosphäre zu nutzen.It is known to use for the coating of medium and large parts with a titanium nitride coating, the evaporation of titanium in a nitrogen gas atmosphere.
Die dafür entwickelte Technologie sieht vor, daß die Teile zum Bedampfen in der Stickstoffatmosphäre auf Gestellstäbe aufgehängt werden. Die Gestellstäbe drehen sich während des Bedampfungsvorganges um sich selbst und in einerzusätzlichen Relativbewegung auf dem TrägergestelJ im Vakuumgehäuse.The technology developed for this purpose provides that the parts are hung on rack bars for vapor deposition in a nitrogen atmosphere. The rack bars rotate around themselves during the sputtering process and in additional relative motion on the support frame in the vacuum housing.
Für Massenkleinteile, wie beispielsweise Druckknöpfe, Niete und ähnliche Erzeugnisse, ist dieses Verfahren zur Titannitridbeschichtung ökonomisch nicht geeignet.For mass small parts such as push buttons, rivets, and the like, this method of titanium nitride coating is not economically suitable.
Diese Teile werden lediglich ökonomisch durch die Trommelgalvanisierung oberflächengeschützt. Dabei kommen die unterschiedlichsten Überzüge aus Edelmetallen zur Anwendung. Nachteilig ist, daß diese Edelmetalle sehr teuer und für Massenartikel ökonomisch nicht vertretbar sind.These parts are only surface protected by the drum electroplating. Here are the most diverse coatings of precious metals used. The disadvantage is that these precious metals are very expensive and economically unacceptable for mass-produced goods.
Ziel der Erfindung-* Object of the invention - *
Das Ziel der Erfindung ist, Massenkleinteile mit einer Oberflächenschicht zu überziehen, die qualitativ und quantitativ einer Vergoldung gleichzusetzen ist.The aim of the invention is to coat mass small parts with a surface layer, which is qualitatively and quantitatively equivalent to gold plating.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Massenkleinteile in einer Vakuumbedampfungsanlage mit Titannitrid zu beschichten.The invention has for its object to coat small pieces of mass in a vacuum evaporation plant with titanium nitride.
Erfindungsgemäß wird dies dadurch gelöst, daß die Massenkleinteile im Rezipienten ständig untereinander kontinuierlich kontaktierend umgewälzt werden. Im Rezipienten ist eine Siebtrommel über den Antrieb, Kontaktring und Achse zweiaxial beweglich angebracht und wobei diese Siebtrommel Leitbleche besitzt.According to the invention this is achieved in that the mass fractions in the recipient are continuously circulating continuously contacting each other. In the recipient a sieve drum is attached via the drive, contact ring and axis zweiaxial movable and wherein this sieve drum has baffles.
Nachstehend soll die Erfindung an einem Ausführungsbeispiel näher beschrieben werden. In der zugehörigen Zeichnung zeigen:The invention will be described in more detail below with reference to an exemplary embodiment. In the accompanying drawing show:
Fig. 1: eine schematische Darstellung der erfindungsgemäßen Vorrichtung Fig. 2: einen Schnitt durch die SiebtrommelFig. 1: a schematic representation of the device according to the invention Fig. 2: a section through the sieve drum
Die Vorrichtung zum'Titannitridbeschichten von Massenkleinteilen hat im wesentlichen folgenden Aufbau.The device for titanium nitride coating of bulk small parts has substantially the following structure.
Am geschlossenen Rezipienten 5 sind die Hohlkathode 3 und Tiegelanode 4 angebracht. Die Hohlkathode 3 und die Tiegelanode 4 stellen den Verdampfer, wie allgemein bekannt, bei Titannitridbeschichtungsanlagen dar.At the closed recipient 5, the hollow cathode 3 and crucible anode 4 are attached. The hollow cathode 3 and the crucible anode 4 represent the evaporator, as is well known, in titanium nitride coating systems.
Im oberen Teil des Rezipienten 5 ist die Siebtrommel 8 angebracht, welche am Gestell 10 drehbar gelagert ist. Durch den Antrieb7 wird das Gestell 10 und damit die Siebtrommel 8 um die Rezipientenachse in eine Horizontalbewegung gebracht. Durch die Reibung des Rades 11 am Kontaktring 6 erfolgt gleichzeitig eine Rotation um die Achse 12. Damit ist gewährleistet, daß die Massenkleinteile in der Siebtrommel 8 ständig axial bewegt werden. Der Kontaktring 6 ist mit der Substratspannung 1 verbunden und die Hohlkathode 3 und die Tiegelanode 4 mit der Verdampferstromquelle 2.In the upper part of the recipient 5, the screen drum 8 is mounted, which is rotatably mounted on the frame 10. By the Antrieb7 the frame 10 and thus the screen drum 8 is brought to the recipient axis in a horizontal movement. Due to the friction of the wheel 11 on the contact ring 6 at the same time a rotation about the axis 12. This ensures that the Massenkleinteile are constantly moved axially in the screen drum 8. The contact ring 6 is connected to the substrate voltage 1 and the hollow cathode 3 and the crucible anode 4 with the evaporator power source second
Damit die Massenkleinteile ständig mit der Siebtrommel 8 großflächig kontaktieren, sind die Leitbleche 9 angebracht.So that the mass small parts constantly contact the screen drum 8 over a large area, the baffles 9 are attached.
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD28425885A DD244993A1 (en) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | METHOD AND DEVICE FOR SURFACE TREATMENT OF SMALL PARTS |
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DD28425885A DD244993A1 (en) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | METHOD AND DEVICE FOR SURFACE TREATMENT OF SMALL PARTS |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DD244993A1 true DD244993A1 (en) | 1987-04-22 |
Family
ID=5574232
Family Applications (1)
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DD28425885A DD244993A1 (en) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | METHOD AND DEVICE FOR SURFACE TREATMENT OF SMALL PARTS |
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DD (1) | DD244993A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1136587A2 (en) * | 2000-03-23 | 2001-09-26 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Deposited-film forming apparatus |
-
1985
- 1985-12-13 DD DD28425885A patent/DD244993A1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP1136587A2 (en) * | 2000-03-23 | 2001-09-26 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Deposited-film forming apparatus |
EP1136587A3 (en) * | 2000-03-23 | 2002-03-06 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Deposited-film forming apparatus |
SG95636A1 (en) * | 2000-03-23 | 2003-04-23 | Sumitomo Spec Metals | Deposited-film forming apparatus |
US6872260B2 (en) | 2000-03-23 | 2005-03-29 | Neomax Co., Ltd. | Deposited-film forming apparatus |
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