CN2707431Y - 二维流体振动超光滑表面抛光设备 - Google Patents
二维流体振动超光滑表面抛光设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN2707431Y CN2707431Y CN 200320118185 CN200320118185U CN2707431Y CN 2707431 Y CN2707431 Y CN 2707431Y CN 200320118185 CN200320118185 CN 200320118185 CN 200320118185 U CN200320118185 U CN 200320118185U CN 2707431 Y CN2707431 Y CN 2707431Y
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- polishing
- vibration
- smooth surface
- mentioned
- super
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
本实用新型公开了二维流体振动超光滑表面抛光设备,抛光设备由旋转驱动机构、角度调整机构、行星轮机构、超声波发生装置、水平方向振动发生器、抛光槽、工件装夹机构、抛光液循环装置构成;上述抛光槽在水平方向振动发生器作用下可以在水平方向上来回往复振动;上述抛光设备使用流体作为抛光工具,通过超声波发生装置使流体产生垂直方向的超声振动,与水平方向振动发生器所产生的水平振动构成二维流体振动;本实用新型可以低成本地实现平面的超光滑抛光。
Description
技术领域
本实用新型涉及二维流体振动超光滑表面抛光设备。
背景技术
目前的超光滑表面抛光设备多为有磨料抛光,采用固体或粘弹性体作为抛光盘或磨料载体,由于磨料的细化程度有限,很难使抛光精度稳定地达到埃级以上,而且采用这些方法进行抛光时,为了提高加工精度,工件与抛光盘间往往并不直接接触,并且要求抛光盘具有很高的精度,因此提高了抛光过程的控制难度,使废品率和加工成本增高。本实用新型在抛光过程中可以分为两级抛光。在一级抛光时,抛光液中可适当地加入精细磨料和化学物质,以提高抛光效率,而在进行二级抛光时则采用纯流体作为抛光液,由流体分子的冲击和摩擦化学作用共同完成材料的去除,由于流体分子直径约为埃级,因此可使抛光精度达到埃级甚至原子级。
发明内容
本实用新型将提供一种超光滑表面抛光设备,使抛光精度稳定地达到埃级甚至原子级,并将显著地降低加工成本。
本实用新型的整个装置由旋转驱动机构、角度调整机构、行星轮机构、超声波发生装置、水平方向振动发生器、抛光槽、工件装夹机构、抛光液循环装置组成;
上述角度调整机构由升降机构和支承板组成,上述旋转驱动机构通过传动轴与行星轮机构相连接,传动轴还将整个行星轮机构与角度调整机构中的支承板进行联结;
上述行星轮机构由系杆、行星轮、固定轮、行星轮轴组成,固定轮通过齿圈一侧的轮辐与角度调整机构中的支承板刚性联结,行星轮、系杆通过行星轮轴联结成一部件;上述行星轮机构中的行星轮下部装有工件装夹机构,
上述水平方向振动发生器通过连杆与抛光槽联结,上述超声波发生装置由超声电源和浸入式超声波换能器构成,浸入式超声波换能器安装在抛光槽内部底板上,抛光槽通过管道与抛光液循环装置连接,并安装在基座上。
上述升降机构可采用螺旋升降、液压升降、气动升降。
上述旋转驱动机构由电机驱动减速器,减速器通过皮带带动传动轴与行星轮机构转动。
上述抛光槽与基座之间可以用压簧或滚子支撑。
在上述基座上安装有一个密封容器,密封整个设备。
上述工件装夹机构中的工件夹具可以采用真空吸盘或机械装夹。
本实用新型采用流体作为抛光工具,并附加二维高频振动以施加抛光作用力。本实用新型在抛光过程中可以分为两级抛光。在一级抛光时,抛光液中可适当地加入精细磨料和化学物质,磨料可以选择纳米金刚石粉、SiO2纳米粉、Al2O3纳米粉、TiO2纳米粉、SiC纳米粉、Si3O4纳米粉、氧化铁纳米粉等一些精细磨料;化学物质可以添加氢氧化物、络合物、表面活性剂、酸、碱等物质。而在进行二级抛以提高抛光效率,而在进行二级抛光时则采用纯流体作为抛光液,由流体分子的冲击和摩擦化学作用共同完成材料的去除。由于流体分子直径约为埃级,因此可使抛光精度达到埃级甚至原子级。同时,由于流体没有固定的形状,因此能始终与工件保持完全的均匀接触,极大地降低了控制难度。二维高频振动能在抛光液内形成稳定的振场,使流体分子或磨料能以一定的速度冲击工件表面,提供抛光作用力。同时,这种振动也能降低工件表层原子的原子结合能,使材料更容易去除。另外高频振动也能对工件表面进行清洗,避免工件表面污染,并有助于一级抛光时磨料在抛光液内的均匀混合。在进行抛光时,工件平面与水平振动方向间形成一个小倾角(角度通过升降机构调整),可以产生一定的动压,提高抛光效率。
本实用新型有益效果是,可以低成本地实现平面的超光滑抛光。
附图说明
图1为本实用新型装置的剖面图。
1、超声电源2、水平振动发生器3、密闭容器4、升降机构5、支承板6、电机7、减速器8、系杆9、传动轴10、行星轮11、固定轮12、抛光液循环装置13、基座14、工件15、滚子16、抛光液17、工件夹具18浸入式超声波换能器19、抛光槽
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型作进一步详细的描述。
抛光过程中,工件安14装在工件夹具17上,工件夹具可以采用真空吸盘或者是机械装夹方式,电机6通过减速器7减速以后,通过带传动方式、齿轮传动方式、链传动方式或者是涡轮蜗杆传动方式带动传动轴9转动,传动轴通过系杆8带动行星轮10绕着固定轮11转动,行星轮10在公转的同时还有自转,在此行星轮机构可以采用齿轮啮合方式或者是摩擦轮啮合方式实现。工件14将随着行星轮一起旋转(既公转也自转),以保证抛光的均匀性。通过升降机构4,可以调节支承板5与水平方向的夹角,从而可以改变工件与水平方向的夹角。升降机构可以采用螺旋升降、液压、气动方式。水平方向振动发生器2带动抛光槽19在水平方向作往复振动,振动发生器产生的振动可以由机械、气动或电磁振动方式产生,振动频率2-4000赫兹,振幅为几百微米到几毫米可调。浸入式超声波换能器18产生垂直方向的超声振动,振动频率为20000-1000000赫兹,振幅为几十纳米到十几微米可调。抛光液也可以通过抛光液循环装置12来进行抛光液的添加和更换。整个抛光过程在密闭容器3中完成,容器中施加一定压力(1-10个大气压可调),该压力通过液体传递到工件表面,可增加液体对工件的摩擦作用。
Claims (6)
1、一种二维流体振动超光滑表面抛光设备,其特征在于:该设备由旋转驱动机构、角度调整机构、行星轮机构、超声波发生装置、水平方向振动发生器、抛光槽、工件装夹机构、抛光液循环装置组成;
上述角度调整机构由升降机构和支承板组成,上述旋转驱动机构通过传动轴与行星轮机构相连接,传动轴还将整个行星轮机构与角度调整机构中的支承板进行联结;
上述行星轮机构由系杆、行星轮、固定轮、行星轮轴组成,固定轮通过齿圈一侧的轮辐与角度调整机构中的支承板刚性联结,行星轮、系杆通过行星轮轴联结成一部件;上述行星轮机构中的行星轮下部装有工件装夹机构,
上述水平方向振动发生器通过连杆与抛光槽联结,上述超声波发生装置由超声电源和浸入式超声波换能器构成,浸入式超声波换能器安装在抛光槽内部底板上,抛光槽通过管道与抛光液循环装置连接,并安装在基座上。
2.根据权利要求1中所述的二维流体振动超光滑表面抛光设备,其特征在于:上述升降机构可采用螺旋升降、液压升降、气动升降。
3.根据权利要求1中所述的二维流体振动超光滑表面抛光设备,其特征在于:上述旋转驱动机构由电机驱动减速器,减速器通过皮带带动传动轴与行星轮机构转动。
4.根据权利要求1中所述的二维流体振动超光滑表面抛光设备,其特征在于:上述抛光槽与基座之间可以用压簧或滚子支撑。
5.根据权利要求1中所述的二维流体振动超光滑表面抛光设备,其特征在于:在上述基座上安装有一个密封容器,密封整个设备。
6.根据权利要求1中所述的二维流体振动超光滑表面抛光设备,其特征在于:上述工件装夹机构中的工件夹具可以采用真空吸盘或机械装夹。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 200320118185 CN2707431Y (zh) | 2003-11-18 | 2003-11-18 | 二维流体振动超光滑表面抛光设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 200320118185 CN2707431Y (zh) | 2003-11-18 | 2003-11-18 | 二维流体振动超光滑表面抛光设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN2707431Y true CN2707431Y (zh) | 2005-07-06 |
Family
ID=34845318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 200320118185 Expired - Lifetime CN2707431Y (zh) | 2003-11-18 | 2003-11-18 | 二维流体振动超光滑表面抛光设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN2707431Y (zh) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100484709C (zh) * | 2003-11-18 | 2009-05-06 | 广东工业大学 | 二维流体振动超光滑表面抛光设备及其抛光方法 |
CN102233536A (zh) * | 2011-05-10 | 2011-11-09 | 淄博隆嘉工贸有限公司 | 陶瓷手模自动抛光机 |
CN103551926A (zh) * | 2013-11-11 | 2014-02-05 | 广东工业大学 | 一种电泳辅助微细超声或微细旋转超声抛光微孔的装置及加工方法 |
CN103692035A (zh) * | 2013-12-19 | 2014-04-02 | 华南理工大学 | 一种对丝状金属材料进行放电加工的装置 |
CN105773318A (zh) * | 2015-11-12 | 2016-07-20 | 中国石油大学(华东) | 一种针对聚合物3d打印产品的浸没式超声波表面处理方法 |
CN106181596A (zh) * | 2016-09-14 | 2016-12-07 | 青岛理工大学 | 多角度二维超声波振动辅助纳米流体微量润滑磨削装置 |
CN106239274A (zh) * | 2016-08-22 | 2016-12-21 | 天津理工大学 | 一种多维变参数振动机械抛光装置及其模糊pid控制方法 |
CN108015663A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-05-11 | 湘潭大学 | 一种对蓝宝石薄片边缘进行抛光倒角的装置 |
CN109605139A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-04-12 | 苏州殷绿勒精密机械科技有限公司 | 一种超声波振动工作台 |
CN111185816A (zh) * | 2020-01-10 | 2020-05-22 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 二维随机振动抛光机床及其抛光方法 |
CN111376167A (zh) * | 2020-05-06 | 2020-07-07 | 杭州励博家居有限公司 | 一种大规模快速加工家庭家具的加工打磨装置 |
CN111993258A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-11-27 | 广东长盈精密技术有限公司 | 抛光治具、抛光装置和手机中框的抛光方法 |
-
2003
- 2003-11-18 CN CN 200320118185 patent/CN2707431Y/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100484709C (zh) * | 2003-11-18 | 2009-05-06 | 广东工业大学 | 二维流体振动超光滑表面抛光设备及其抛光方法 |
CN102233536A (zh) * | 2011-05-10 | 2011-11-09 | 淄博隆嘉工贸有限公司 | 陶瓷手模自动抛光机 |
CN103551926A (zh) * | 2013-11-11 | 2014-02-05 | 广东工业大学 | 一种电泳辅助微细超声或微细旋转超声抛光微孔的装置及加工方法 |
CN103551926B (zh) * | 2013-11-11 | 2016-03-02 | 广东工业大学 | 一种电泳辅助微细超声或微细旋转超声抛光微孔的装置及加工方法 |
CN103692035A (zh) * | 2013-12-19 | 2014-04-02 | 华南理工大学 | 一种对丝状金属材料进行放电加工的装置 |
CN105773318A (zh) * | 2015-11-12 | 2016-07-20 | 中国石油大学(华东) | 一种针对聚合物3d打印产品的浸没式超声波表面处理方法 |
CN106239274A (zh) * | 2016-08-22 | 2016-12-21 | 天津理工大学 | 一种多维变参数振动机械抛光装置及其模糊pid控制方法 |
CN106181596A (zh) * | 2016-09-14 | 2016-12-07 | 青岛理工大学 | 多角度二维超声波振动辅助纳米流体微量润滑磨削装置 |
CN108015663A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-05-11 | 湘潭大学 | 一种对蓝宝石薄片边缘进行抛光倒角的装置 |
CN109605139A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-04-12 | 苏州殷绿勒精密机械科技有限公司 | 一种超声波振动工作台 |
CN111185816A (zh) * | 2020-01-10 | 2020-05-22 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 二维随机振动抛光机床及其抛光方法 |
CN111376167A (zh) * | 2020-05-06 | 2020-07-07 | 杭州励博家居有限公司 | 一种大规模快速加工家庭家具的加工打磨装置 |
CN111993258A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-11-27 | 广东长盈精密技术有限公司 | 抛光治具、抛光装置和手机中框的抛光方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN2707431Y (zh) | 二维流体振动超光滑表面抛光设备 | |
CN110170888B (zh) | 一种用于管内表面高效抛光的磁粒研磨装置及方法 | |
CN202592190U (zh) | 汽车轮毂旋转振动抛光装置 | |
CN100484709C (zh) | 二维流体振动超光滑表面抛光设备及其抛光方法 | |
CN104786111B (zh) | 一种针对大面积超光滑表面的气液固三相磨粒流抛光装置 | |
CN104842254A (zh) | 一种轮毂光饰机 | |
CN113319730B (zh) | 一种具有复杂内腔管件的磁力研磨装置及方法 | |
CN203380752U (zh) | 一种轮毂抛光装置 | |
CN102107377A (zh) | 一种整体叶盘双驱动轴复合自动光整加工方法 | |
CN104889878A (zh) | 一种适用于轮盘类零件的锥旋运动式光整加工装置及其方法 | |
CN201559120U (zh) | 一种用于金相和透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置 | |
CN217255033U (zh) | 一种市政塑料管道加工用端口打磨装置 | |
CN108000247A (zh) | 一种线性液动压抛光加工方法 | |
CN116423319A (zh) | 一种光伏玻璃生产用抛光设备 | |
CN112264915A (zh) | 一种同时加工两段管件的旋转超声磁力复合研磨装置 | |
CN219685020U (zh) | 一种法兰生产用侧边抛光装置 | |
CN210615995U (zh) | 一种超声波振动辅助磁流变超精密抛光装置 | |
CN208614487U (zh) | 一种非线性rrl型三轴数控抛磨加工机床 | |
CN201720753U (zh) | 一种整体叶盘双驱动轴复合自动光整加工装置 | |
CN115609468A (zh) | 晶圆研磨设备 | |
CN210307016U (zh) | 一种用于管内表面高效抛光的磁粒研磨装置 | |
CN213858711U (zh) | 一种复合运动可调式永久磁铁磁粒研磨装置 | |
CN214162559U (zh) | 一种六轴机器人杯壶类抛光夹具 | |
CN204639878U (zh) | 一种轮毂光饰机 | |
CN205588135U (zh) | 一种抛光工作台及抛光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C19 | Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
AV01 | Patent right actively abandoned |
Effective date of abandoning: 20090506 |
|
C25 | Abandonment of patent right or utility model to avoid double patenting |