CN201559120U - 一种用于金相和透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置 - Google Patents

一种用于金相和透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置 Download PDF

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韩冬
黄霞
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Abstract

本实用新型涉及一种用于金相和透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置。其结构包括一由机械转动机构带动旋的研磨平台,其结构还包括:固接在研磨平台上的旋转主轴、主动旋转齿轮、底端固定在研磨平台边部平台上研磨样品固定环管、搁置于研磨样品固定环管内的样品研磨上压块、样品研磨上压块旋转杆、居中固定在样品研磨上压块旋转杆中部的从动旋转齿轮。本实用新型的装置,具有结构简单,造价低,可以用单电机同时实现多样品行星双向研磨抛光等优点,其最大优点是几乎可以在现有任何原有型号研磨抛光设备上进行改装,从而大幅提高研磨抛光效率和制备样品的均匀性。

Description

一种用于金相和透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置
技术领域
本实用新型涉及一种用于金相和透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置。
背景技术
目前,在传统的金相制样及透射电镜薄膜样品制备中,手工研磨抛光过程极为费时费力,抛光模运动方式简单,由于只能做单一的旋转运动,或者样品在摩擦力作用下自身进行旋转,造成样品的研磨抛光均匀性难以保证和效率低下,而样品研磨抛光位置由人为控制,更加增加了研磨抛光速度以及摩擦力的不均匀性。目前市场上已经出现了一些高端的研磨抛光设备采用了多样品夹持、双电机驱动解决了这一问题,但相关设备结构复杂,价格较高。目前应用最广泛的研磨抛光设备的结构多数不具备这些功能。
发明内容
本实用新型的目的就是针对上述已有技术存在的不足,提供一种能大幅提高了金相及透射电镜薄膜制样的效率和样品的均匀性的用于金相和透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置。
本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的。
一种用于金相和透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置,其结构包括:由机械转动机构带动旋的研磨平台,其特征在于其结构还包括:
旋转主轴-该旋转主轴为底端居中固接在研磨平台上的垂直轴杆,轴杆螺纹固定在磨平台抛光盘中心;
主动旋转齿轮-该齿轮为配合固定在旋转主轴中部的水平齿轮;
研磨样品固定环管-该固定环为一底端固定在研磨平台边部平台上的、垂直的圆形截管;
样品研磨上压块-该上压块为圆柱型,与研磨样品固定环管内壁滑动配合、搁置于研磨样品固定环管内;样品研磨上压块居中设有凹型轴槽;
样品研磨上压块旋转杆-该旋转杆为底端居中固定在样品研磨上压块凹型轴槽中的垂直杆;
样品研磨上压块旋转杆固定架-该固定架为底端固定在基础上的直角架,直角架端头与样品研磨上压块旋转杆活动联接;
从动旋转齿轮-该从动旋转齿轮为一水平中心线与主动旋转齿轮相等、与主动旋转齿轮配合啮合的、比主动旋转齿轮小的水平齿轮,居中固定在样品研磨上压块旋转杆中部。
本实用新型的一种用于金相和透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置,结构简单,造价低,可以用单电机即可同时实现多样品行星双向研磨抛光,可以通过调整样品研磨上压块上的砝码重量调整研磨抛光速度,该装置最大的优点是几乎可以在现有任何原有型号研磨抛光设备上进行改装,从而大幅提高研磨抛光效率和样品均匀性。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
一种用于金相和透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置,其结构包括:由机械转动机构带动旋的研磨平台1,其结构还包括:
旋转主轴2-该旋转主轴为底端居中固接在研磨平台上的垂直轴杆,轴杆螺纹固定在磨平台抛光盘中心;
主动旋转齿轮3-该齿轮为配合固定在旋转主轴中部的水平齿轮;
研磨样品固定环管4-该固定环为一底端固定在研磨平台边部平台上的、垂直的圆形截管;
样品研磨上压块5-该上压块为圆柱型,与研磨样品固定环管内壁滑动配合、搁置于研磨样品固定环管内;样品研磨上压块居中设有凹型轴槽;
样品研磨上压块旋转杆6-该旋转杆为底端居中固定在样品研磨上压块凹型轴槽中的垂直杆;
样品研磨上压块旋转杆固定架7-该固定架为底端固定在基础上的直角架,直角架端头与样品研磨上压块旋转杆活动联接;
从动旋转齿轮8-该从动旋转齿轮为一水平中心线与主动旋转齿轮相等、与主动旋转齿轮配合啮合的、比主动旋转齿轮小的水平齿轮,居中固定在样品研磨上压块旋转杆中部。
操作时,将研磨样品放入研磨样品固定环管内,再将样品研磨上压块研磨样品固定环管中的研磨样品上,可以放置配重法码,增加样品研磨上压块增加压力,提高研磨速度;研磨时,机械装置带动研磨平台转动,带动旋转主轴、主动旋转齿轮转动,主动旋转齿轮带动从动齿轮转动,从动齿轮带动样品研磨上压块旋转杆及样品研磨上压块沿研磨平台边部作圆周运动;研磨样品同时受到研磨平台旋转的作用,又受到样品研磨上压块旋转杆产生的旋转作用,完成行星双转研磨过。
本实用新型的装置可以在任何具有旋转的研磨平台上改造而成,研磨抛光设备上进行改造,造价低,具有自动多样品研磨抛光功能,通过改变添加砝码重量可以改变研磨抛光速度,通过改变齿轮尺寸改变样品旋转速度和在抛光模上的位置。

Claims (1)

1.一种用于金相和透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置,其结构包括:由机械转动机构带动旋的研磨平台,其特征在于其结构还包括:
旋转主轴-该旋转主轴为底端居中固接在研磨平台上的垂直轴杆,轴杆螺纹固定在磨平台抛光盘中心;
主动旋转齿轮-该齿轮为配合固定在旋转主轴中部的水平齿轮;
研磨样品固定环管-该固定环为一底端固定在研磨平台边部平台上的、垂直的圆形截管;
样品研磨上压块-该上压块为圆柱型,与研磨样品固定环管内壁滑动配合、搁置于研磨样品固定环管内;样品研磨上压块居中设有凹型轴槽;
样品研磨上压块旋转杆-该旋转杆为底端居中固定在样品研磨上压块凹型轴槽中的垂直杆;
样品研磨上压块旋转杆固定架-该固定架为底端固定在基础上的直角架,直角架端头与样品研磨上压块旋转杆活动联接;
从动旋转齿轮-该从动旋转齿轮为一水平中心线与主动旋转齿轮相等、与主动旋转齿轮配合啮合的、比主动旋转齿轮小的水平齿轮,居中固定在样品研磨上压块旋转杆中部。
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