CN221206545U - 工字型非共面射线照射装置 - Google Patents

工字型非共面射线照射装置 Download PDF

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牛传猛
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Abstract

本实用新型提供一种工字型非共面射线照射装置,属于放射治疗设备技术领域,包括基座、环形机架、旋转环、放射组件、第一滑轨机构、成像组件;其中,所述环形机架设于所述基座上,所述旋转环可旋转地安装在环形机架上,所述放射组件包括辐射头,所述辐射头可滑动地设于第一滑轨机构上,所述第一滑轨机构安装在旋转环上,所述成像组件安装在所述旋转环上。本实用新型通过非共面结构设计,在不移动患者的前提下实现大立体角范围照射,有利于患病组织处的聚焦照射,保护邻近正常组织器官不受辐射伤害;采用工字型结构,缩短整机治疗孔进深,能减轻、甚至完全消除患者的幽闭恐惧症状。

Description

工字型非共面射线照射装置
技术领域
本实用新型涉及放射治疗设备技术领域,具体涉及一种具有图像引导功能的结构紧凑、可实现大立体角照射范围的工字型非共面射线照射装置。
背景技术
放射治疗是治疗癌症的一种重要手段,可利用射线杀死肿瘤细胞,但同时不可避免的会损害射线入射路径上的正常组织细胞,因此放射治疗时需选择较优的射线入射角度,在保证肿瘤受照剂量的同时,尽量减少正常组织或器官受到的损害。由此,放疗设备具有大的射线角度范围是保证放疗疗效的重要指标之一。
现有的放疗设备通常采用旋转机架带动治疗头绕患者身体转动,可选择的射线入射角度分布在机架的旋转平面内,称为共面照射,如果再配合治疗床的旋转,可选择的入射角度分布在三维空间内,称为非共面照射。显然,非共面照射的射线角度范围要远大于共面照射。但现有放疗设备实施非共面照射时存在以下问题:1.转床后,机架大部分旋转角度下治疗头和患者或治疗床会发生碰撞,可实际应用的非共面照射角度范围小;2.转动治疗床需要专业人员从控制室进到治疗室,走到在治疗床边操作,会显著延长患者每次治疗时间;3.专业人员转动治疗床时,患者身体容易在床面上晃动,继而导致治疗位置发生变化,影响治疗精度;4.为了保证治疗精度,在每次转动治疗床后,都需要重新验证治疗位置,可现有放疗设备却没有合适的验证工具。为克服现有放疗设备的这些问题,研究人员设计了多种非共面射线照射装置,例如申请号为201110447735.5的发明专利申请公开了一种4D立体定位放射治疗装置,使得射线治疗头可以跟随机架进行点头和仰头动作,从而实现射线角度在三维空间上的调节,对精确检测和非共面治疗提供了更大的支持,但旋转机架和治疗床仍存在碰撞问题,可实现的立体角照射范围小;申请号为201410558872.X的发明专利申请公开了一种五自由度O型臂放射治疗***,实现了五自由度控制放射治疗过程,控制精度和稳定程度高,但整体结构复杂,可实现的立体角范围较小;申请号为201810078431.8的发明专利申请公开了一种笼式放射治疗装置,通过射线发生机构的多自由度运动,可以在不移动患者的前提下实现大立体角度范围快速精确非共面照射,但治疗空间进深较长,可能导致患者产生幽闭恐惧症状。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种具有图像引导功能的结构紧凑、可实现大立体角照射范围的工字型非共面射线照射装置,以解决上述背景技术中存在的至少一项技术问题。
为了实现上述目的,本实用新型采取了如下技术方案:
本实用新型提供一种工字型非共面射线照射装置,包括基座、环形机架、旋转环、放射组件、第一滑轨机构、成像组件;其中,所述环形机架设于所述基座上,所述旋转环可旋转地安装在环形机架上,所述放射组件包括辐射头,所述辐射头可滑动地设于第一滑轨机构上,所述第一滑轨机构安装在旋转环上,所述成像组件安装在所述旋转环上。
进一步的,所述第一滑轨机构包括安装在所述旋转环上的第一滑轨支架,所述第一滑轨支架上安装有第一滑轨,所述第一滑轨上设有用于安装所述辐射头的辐射头支架,所述辐射头支架在所述第一滑轨上可滑动。
进一步的,所述放射组件还包括与所述辐射头对应的射线阻挡器;所述射线阻挡器可滑动地设于第二滑轨机构上;所述第二滑轨机构安装在所述旋转环上。
进一步的,所述放射组件还包括与所述辐射头对应的MV射线探测器;所述MV射线探测器可滑动地设于第二滑轨机构上。
进一步的,所述第二滑轨机构包括安装在所述旋转环上的第二滑轨支架,所述第二滑轨支架上设有第二滑轨,所述第二滑轨上可滑动地安装有所述射线阻挡器和/或MV射线探测器。
进一步的,所述成像组件为X射线成像组件,所述X射线成像组件包括X射线源和与X射线源对应的X射线探测器;所述X射线源和所述X射线探测器正对地安装在所述旋转环上。
进一步的,所述成像组件还包括磁共振成像组件,所述磁共振成像组件包括两个相对的磁场发生主体,两个所述磁场发生主体分别位于在所述辐射头的两侧。
进一步的,两个所述磁场发生主体通过所述第一滑轨支架、所述第二滑轨支架连接在所述旋转环上。
进一步的,所述辐射头的外壁上设有导轨,所述辐射头支架上设有与所述导轨匹配的导槽;所述辐射头支架上设有第一驱动机构,第一驱动机构驱动辐射头在所述导轨和导槽的配合下在所述辐射头支架上可升降移动。
进一步的,所述辐射头支架上设有驱动所述辐射头支架在所述第一滑轨上滑动的第二驱动机构;所述第二滑轨上设有驱动所述射线阻挡器和/或MV射线探测器沿所述第二滑轨滑动的第三驱动机构。
进一步的,所述环形机架上连接有驱动所述旋转环在所述环形机架上转动的第四驱动机构。
本实用新型有益效果:通过非共面结构设计,在不移动患者的前提下实现大立体角范围的照射,有利于肿瘤组织的聚焦照射和邻近的正常组织器官的保护;采用工字型结构,缩短整机治疗孔进深,能减轻、甚至完全消除患者的幽闭恐惧症状。
本实用新型附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,这些将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例所述的工字型非共面射线照射装置同时采用X射线成像组件和磁共振成像组件的立体结构图。
图2为本实用新型实施例所述的工字型非共面射线照射装置同时采用X射线成像组件和磁共振成像组件时的后视结构图。
图3为本实用新型实施例所述的工字型非共面射线照射装置同时采用X射线成像组件和磁共振成像组件时的侧视结构图。
图4为本实用新型实施例所述的工字型非共面射线照射装置仅采用X射线成像组件的立体结构图。
图5为本实用新型实施例所述的工字型非共面射线照射装置仅采用磁共振成像组件的立体结构图。
其中:1-治疗床;2-升降平台;3-辐射头;4-旋转环;5-环形机架;6-射线阻挡器;7-射线源;8-射线探测器;9-磁场发生主体;10-第一滑轨支架;11-第一滑轨;12-辐射头支架;13-第二滑轨支架;14-第二滑轨;15-导轨;16-基座;17-支撑板;18-第一驱动电机;19-安装板;20-辐射头中轴线;21-旋转环中轴线;22-第二驱动电机;23-第四驱动电机;24-第三驱动电机;25-虚拟滑动轴线。
具体实施方式
下面详细叙述本实用新型的实施方式,所述实施方式的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过附图描述的实施方式是示例性的,仅用于解释本实用新型,而不能解释为对本实用新型的限制。
本技术领域技术人员可以理解,除非另外定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本实用新型所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。
还应该理解的是,诸如通用字典中定义的那些术语应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义,并且除非像这里一样定义,不会用理想化或过于正式的含义来解释。
本技术领域技术人员可以理解,除非特意声明,这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是,本实用新型的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件,但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件和/或它们的组。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
在本说明书的描述中,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本说明书的描述中,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。
除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置”应做广义理解,例如,可以是固定相连、设置,也可以是可拆卸连接、设置,或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
为便于理解本实用新型,下面结合附图以具体实施例对本实用新型作进一步解释说明,且具体实施例并不构成对本实用新型实施例的限定。
本领域技术人员应该理解,附图只是实施例的示意图,附图中的部件并不一定是实施本实用新型所必须的。
如图1至图4所示,本实施例提供工字型非共面射线照射装置,包括基座16、环形机架5、旋转环4、放射组件、第一滑轨机构、成像组件;其中,所述环形机架设于所述基座16上,所述旋转环4可旋转地安装在环形机架5上,所述放射组件包括辐射头3,所述辐射头3可滑动地设于第一滑轨机构上,所述第一滑轨机构安装在旋转环4上,所述成像组件安装在所述旋转环4上。
所述放射组件还包括与所述辐射头3对应的射线阻挡器6,射线阻挡器6用来阻挡透过人体的射线;或者,所述放射组件还包括与所述辐射头3对应的MV射线探测器(图中未示出),MV射线探测器用来进行成像;或者,所述放射组件同时包括射线阻挡器和MV射线探测器。所述射线阻挡器和/或MV射线探测器可滑动地设于第二滑轨机构上;所述第二滑轨机构安装在所述旋转环4上。使用时,使患者患病部位置于环形机架5的环形空间中,辐射头3对患病部位进行辐射治疗,成像组件对患病部位进行照射成像,旋转环4带动放射组件的辐射头3以及成像组件围绕患者旋转,实现对患病部位的全方位照射治疗成像。
在一个具体实施例中,如可设置治疗床1,患者躺在治疗床1上,治疗床1可实现水平方向和上下方向的三维移动,以调整患者的患病部位位于辐射头3的辐射中心轴、旋转环4的中心轴以及成像组件的照射中心轴的交点位置处。
其中,所述治疗床至少包括三个平移自由度,也可包括三个旋转自由度,通过平移运动,可将患者运送至治疗位置,通过平移和/或旋转可修正换患者的摆位误差,治疗床的具体结构及工作原理和常规医用直线加速器使用的治疗床一致,在此不再赘述。
如图3所示为本实用新型实施例所述的工字型非共面射线照射装置同时采用X射线成像组件和磁共振成像组件时的侧视结构图,图中未示出治疗床的结构部分,环形机架其侧视方向上的形状如同一个“工”字,因此,本实施例中的非共面射线照射装置称为工字型非共面射线照射装置,利用工字型结构缩短了整机治疗孔进深,减轻空间压迫感,减轻、甚至消除患者的幽闭恐惧症状。图3中所示,第一滑轨在旋转环4前后两侧的长度不一致,在实际使用中,通过控制器的控制,可使辐射头沿第一滑轨的前后滑动角度范围可以是非对称的,也可以是对称的。
其中,成像组件和放射组件围绕治疗床1旋转,实现对躺在治疗床1上的患者的病患处进行放射治疗和成像。通过控制器控制成像组件、放射组件的启动运行和关闭。在放射治疗设备中,通过控制操作台中的控制器控制放射治疗组件的运行关闭属于本领域公知常识,在此不再赘述。
在一个具体实施例中,所述第一滑轨机构包括安装在所述旋转环4上的第一滑轨支架10,所述第一滑轨支架10上安装有第一滑轨11,所述第一滑轨11上设有用于安装所述辐射头3的辐射头支架12,所述辐射头支架12在所述第一滑轨11上可滑动。所述第二滑轨机构包括安装在所述旋转环4上的第二滑轨支架13,所述第二滑轨支架13上设有第二滑轨14,所述第二滑轨14上可滑动的安装有所述射线阻挡器和/或MV射线探测器。第一滑轨机构、第二滑轨机构可以为单轨结构、也可以为双轨结构。如图1中所示,本实施例中为双轨结构,第一滑轨支架10有两个,每个第一滑轨支架10上均设有一个第一滑轨11,辐射头支架12的两侧分别连接在两个第一滑轨11上,辐射头3安装在辐射头支架12上位于两个第一滑轨11之间。同理,第二滑轨支架13同样为两个,每个第二滑轨支架13上均设有一个第二滑轨14,射线阻挡器和/或MV射线探测器的两侧分别连接在两个第二滑轨14上。
具体实施例中,如图1所示,所述辐射头支架12为圆筒状结构,两端设支撑板17,支撑板17连接在第一滑轨11上,所述辐射头3是设于筒状结构内,所述辐射头3是可以沿着辐射头支架12做沿辐射头支3的外壁上设有导轨15,在所述辐射头支架12上设有与所述导轨15匹配的导槽(图中未示出);同时,在所述辐射头支架12上设有第一驱动机构,第一驱动机构驱动辐射头3在所述导轨15和导槽的配合下在所述辐射头支架12上可升降移动。具体的,第一驱动机构可包括固定在支撑板17上的第一驱动电机18,第一驱动电机18连接一主动齿轮,然后在辐射头3的外壁上固定与主动齿轮啮合的齿条,利用控制器控制第一驱动电机18的启停,从而实现辐射头3的沿辐射头支架12移动。
为了实现辐射头支架12带动辐射头3在第一滑轨11上移动,在所述辐射头支架12上设有驱动所述辐射头支架12在所述第一滑轨11上滑动的第二驱动机构。具体的,所述第二驱动机构可包括固定在支撑板17上的第二驱动电机22,第一滑轨11的侧面上设有弧形齿条,第一滑轨11上设扣合的滑块,支撑板17固定在滑块上,然后第二驱动电机22连接的主动齿轮的径向端面透过滑块的侧壁与弧形齿条相啮合。控制器控制第二驱动电机22的启停,第二驱动电机22带动主动齿轮转动,主动齿轮的转动带动滑块沿第一滑轨11滑动。同理,为了实现射线阻挡器和/或MV射线探测器沿所述第二滑轨14滑动,在所述第二滑轨14上设有驱动所述射线阻挡器和/或MV射线探测器沿所述第二滑轨14滑动的第三驱动机构。同样的,第三驱动机构包括第三驱动电机24,第二滑轨14上同样设置滑块和弧形齿条,第三驱动电机24固定在滑块上,射线阻挡器和/或MV射线探测器连接在滑块上(当射线阻挡器和MV射线探测器同时存在时,两者叠加连接后连接在滑块上),第三驱动电机24连接的主动齿轮透过滑块的侧壁与弧形齿条啮合,控制器控制第三驱动电机24的启停,带动主动齿轮转动,进一步带动滑块移动,进一步带动射线阻挡器和/或MV射线探测器沿第二滑轨移动。
如图4所示,在一个具体实施例中,所述成像组件可以为X射线成像组件,所述射线成像组件包括X射线源7和与X射线源7对应的射线探测器8;所述X射线源7和所述射线探测器8正对地安装在所述旋转环4上,如通过一个安装板19安装在旋转环4上。如在安装板19上和旋转环4上设螺孔,X射线源7通过螺栓配合螺孔连接在旋转环4上,射线探测器8同样通过螺栓螺孔的配合连接在旋转环4上。X射线源7和射线探测器8相对设置,且射线源7的射线方向与辐射头3的射线方向正交垂直。X射线源7可以为X射线球管,射线探测器8为X射线探测器。
如图5所示,在另一个具体实施例中,所述成像组件也可以为磁共振成像组件,所述磁共振成像组件包括两个相对的磁场发生主体9,两个所述磁场发生主体9分别位于在所述治疗床1的两侧,两个所述磁场发生主体9连接在所述旋转环4上。具体的,如图所示,每一个磁场发生主体9的上下两端分别连接在位于治疗床1同一侧的第一滑轨支架和第二滑轨支架上,两个第一滑轨支架之间的距离、两个第二滑轨支架之间的距离均大于治疗床1的宽度,患者躺在治疗床上,位于两个磁场发生主体之间,通过控制器控制磁共振成像组件启动,实现对患者病患靶区的成像。所述磁场发生主体9的形状可以为但不限于圆形、圆环形或跑道形。
如图1和图2所示,在另一个具体实施例中,所述成像组件可以同时包括了上述结构的X射线成像组件和磁共振成像组件。
为了实现旋转环4在环形机架5上的孔内的转动,在所述环形机架5上连接有驱动所述旋转环4在所述环形机架5上转动的第四驱动机构。对于第四驱动机构驱动旋转环4转动的原理,如申请号为CN202320270262.4的专利中所记载,第四驱动机构可包括第四驱动电机23,环形机架5上的孔内安装有一个旋转轴承,旋转轴承的外圈与环形机架5的内壁连接,旋转轴承的内圈与旋转环4的外壁连接,且旋转环4的宽度比环形机架5的宽度宽,旋转环4上多出的部分设有一圈啮合齿,第四驱动电机23连接的主动齿轮与啮合齿啮合,通过控制器控制第四驱动电机启动,带动主动齿轮转动,主动齿轮的转动通过与啮合齿的啮合作用带动旋转环4转动。
对于第四驱动机构驱动旋转环4转动的原理,还可如申请号为CN201820136559.0的实用新型专利中所记载的,通过传动带带动旋转环4转动,在此不再赘述。
在一个具体实施例中,所述环形机架5固定在基座16上。
综上所述,本实用新型实施例提供了一种工字型非共面射线照射装置,包括基座16、环形机架5、辐射头3、第一滑轨11、第二滑轨14、成像组件,其中,环形机架5设置在基座16上,环形机架5的安装孔内可旋转地安装有旋转环4;第一滑轨11、第二滑轨14相对地安装在旋转环4上,辐射头3通过辐射头支架12滑动地设置在第一滑轨11上,成像组件相对第一滑轨11、第二滑轨14正交地安装在旋转环4上。辐射头3在旋转环4带动下可整周旋转,沿第一滑轨11可前后滑动,由此可从大立体角照射范围内照射肿瘤。
由于第一滑轨11、第二滑轨14为圆弧形滑轨,其圆心与旋转环4的圆心重合,辐射头3的辐射线始终通过旋转环4的圆心。通过二维运动平台和升降平台2调整治疗床的位置,使患者的病患组织处于圆心,保证辐射治疗的照射准确性。如图中所示,辐射头3的中轴线20、辐射头沿第一滑轨滑动的轴线与旋转环中轴线21相交点位旋转环4的圆心,该点也可以称为等中心点,且其中辐射头沿第一滑轨的滑动所围绕的虚拟滑动轴线垂直于旋转环的旋转轴线。
旋转驱动机构(即第四驱动机构)可以采用上述的齿轮传动、带传动,但不限于上述的齿轮传动、带传动,还可采用蜗轮蜗杆传动、链传动,致动器可以采用但不限于电机、液压泵、气压泵,相对应的所述旋转环上设置有与配合的啮合齿、同步带或链轮等。
所述辐射头可升降地布置在辐射头支架上,辐射头支架可滑动地设置在第一滑轨上,所述辐射头上设有导轨,所述辐射头支架上设置有和导轨配合的导槽,以及升降驱动机构(即第一驱动机构),所述升降驱动机构可以采用上述的齿轮齿条传动,但不限于齿轮齿条传动,还可采用液压杆传动、气压杆传动,所述升降驱动机构的致动器可以采用但不限于电机、液压泵、气压泵,所述辐射头上设置有与所述升降机构配合的齿条、液压杆铰接座、气压杆铰接座。通过升降机构,辐射头的射线源距肿瘤的距离即源轴距可调,由此有利于提高照射剂量率、减小射野半影宽度。
所述辐射头支架上设置有驱动辐射头支架沿第一滑轨滑动的第二驱动机构,所述第二驱动机构可以为上述的齿轮传动,但不限于齿轮传动,还可采用链传动,所述第二动驱动机构的致动器可以为但不限于电机,所述第一滑轨上设置有与所述第二动驱动机构配合的弧形齿条、链齿。
如图中所示,所述第一滑轨通过第一滑轨支架固定在环形机架上,所述第二滑轨通过第二滑轨支架固定在环形机架上,第一、第二滑轨支架为三角形结构,该三角形结构中间镂空,可减轻重量。
所述第二滑轨上设置有可沿第二滑轨滑动的射线探测器或射线阻挡器,所述射线探测器或射线阻挡器上设置有第三驱动机构,所述第三驱动机构可以为但不限于齿轮传动、链传动,所述第二滑动驱动机构的致动器可以为但不限于电机,所述第二滑轨上设置有与所述第二滑动驱动机构配合的弧形齿条、链齿。
所述射线阻挡器和/或MV射线探测器可随辐射头同步运动,使得辐射头的中轴线始终穿过射线阻挡器和/或MV射线探测器的中心。当辐射头沿第一滑轨滑动一定角度后,射线阻挡器和/或MV射线探测器沿第二滑轨向相反方向旋转相应角度,使得辐射头轴线始终穿过射线阻挡器和/或MV射线探测器的中心,由此射线阻挡器和/或MV射线探测器还可以起到配重的作用。
上述虽然结合附图对本实用新型的具体实施方式进行了描述,但并非对本实用新型保护范围的限制,所属领域技术人员应该明白,在本实用新型公开的技术方案的基础上,本领域技术人员在不需要付出创造性劳动即可做出的各种修改或变形,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种工字型非共面射线照射装置,包括基座(16)、环形机架(5)、旋转环(4)、放射组件、第一滑轨机构、成像组件;其中,所述环形机架设于所述基座(16)上,所述旋转环(4)可旋转地安装在环形机架(5)上,所述放射组件包括辐射头(3),所述辐射头(3)可滑动地设于第一滑轨机构上,所述第一滑轨机构安装在旋转环(4)上,所述成像组件安装在所述旋转环(4)上。
2.根据权利要求1所述的工字型非共面射线照射装置,其特征在于,所述第一滑轨机构包括安装在所述旋转环(4)上的第一滑轨支架(10),所述第一滑轨支架(10)上安装有第一滑轨(11),所述第一滑轨(11)上设有用于安装所述辐射头(3)的辐射头支架(12),所述辐射头支架(12)在所述第一滑轨(11)上可滑动。
3.根据权利要求2所述的工字型非共面射线照射装置,其特征在于,所述放射组件还包括与所述辐射头(3)对应的射线阻挡器(6);所述射线阻挡器(6)可滑动地设于第二滑轨机构上;所述第二滑轨机构安装在所述旋转环(4)上。
4.根据权利要求2或3所述的工字型非共面射线照射装置,其特征在于,所述放射组件还包括与所述辐射头(3)对应的MV射线探测器;所述MV射线探测器可滑动地设于第二滑轨机构上。
5.根据权利要求4所述的工字型非共面射线照射装置,其特征在于,所述第二滑轨机构包括安装在所述旋转环(4)上的第二滑轨支架(13),所述第二滑轨支架(13)上设有第二滑轨(14),所述第二滑轨(14)上可滑动地安装有射线阻挡器(6)和/或MV射线探测器。
6.根据权利要求5所述的工字型非共面射线照射装置,其特征在于,所述成像组件为X射线成像组件,所述X射线成像组件包括X射线源(7)和与X射线源(7)对应的X射线探测器(8);所述X射线源(7)和所述X射线探测器(8)正对地安装在所述旋转环(4)上。
7.根据权利要求5或6所述的工字型非共面射线照射装置,其特征在于,所述成像组件还包括磁共振成像组件,所述磁共振成像组件包括两个相对的磁场发生主体(9),两个所述磁场发生主体(9)分别位于在所述辐射头(3)的两侧。
8.根据权利要求7所述的工字型非共面射线照射装置,其特征在于,两个所述磁场发生主体(9)通过所述第一滑轨支架(10)、所述第二滑轨支架(13)连接在所述旋转环(4)上。
9.根据权利要求7所述的工字型非共面射线照射装置,其特征在于,所述辐射头(3)的外壁上设有导轨(15),所述辐射头支架(12)上设有与所述导轨(15)匹配的导槽;所述辐射头支架(12)上设有第一驱动机构,第一驱动机构驱动辐射头(3)在所述导轨(15)和导槽的配合下在所述辐射头支架(12)上可升降移动。
10.根据权利要求8所述的工字型非共面射线照射装置,其特征在于,所述辐射头支架(12)上设有驱动所述辐射头支架(12)在所述第一滑轨(11)上滑动的第二驱动机构;所述第二滑轨(14)上设有驱动所述射线阻挡器(6)和/或MV射线探测器沿所述第二滑轨(14)滑动的第三驱动机构。
CN202322158776.3U 2023-08-11 工字型非共面射线照射装置 Active CN221206545U (zh)

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