CN220784348U - 一种自动浸外釉装置 - Google Patents

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朱速锋
邹凌霜
王晓林
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Hunan Zhongtao Intelligent Technology Co ltd
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Abstract

本实用新型涉及浸釉领域,公开了一种自动浸外釉装置,包括旋转机构,所述旋转机构上设有至少一个抓取机构,围绕所述旋转机构设有上坯传送带、釉盆、擦底机和下坯传送带,所述上坯传送带上设有至少一个拦截机构,所述拦截机构包括拦杆和气缸,所述拦杆横向设置在所述上坯传送带上并用于拦截所述上坯传送带运输的坯体,被拦截的所述坯体被所述抓取机构抓取,当所述抓取机构抓取到所述坯体时,所述气缸驱动所述拦杆远离所述坯体,本实用新型的整体结构布局合理,将抓取机构、旋转机构、上坯传送带、釉盆、擦底机和下坯传送带结合起来,实现坯体运输、浸釉自动化,降低成本,提高生产效率。

Description

一种自动浸外釉装置
技术领域
本实用新型涉及浸釉领域,尤其涉及一种自动浸外釉装置。
背景技术
浸釉是陶瓷施釉技法之一,又称蘸釉,将坯体浸入釉中片刻后取出,利用坯的吸水性使釉浆附着于坯上,釉层厚度由坯的吸水性、釉浆浓度、浸渍时间进行控制,适用于厚胎坯体及杯碗类制品施外釉,现在人工操作已经不能适用于越来越大的生产需求,需要机械设备实现高效自动浸釉工作。
随着时代的发展,用于浸釉的生产线也逐渐往全面自动化的方向发展,然而,现有的浸釉装置虽然已经实现自动浸釉,但仍是采用人工上料或者下料,缺少相应的运输功能,无法满足全面自动化的需要。
实用新型内容
本申请实施例的目的在于提供一种自动浸外釉装置以解决现有的浸釉装置缺少相应的运输功能,导致无法实现全面自动化的问题,具体技术方案如下:
在本申请实施例的第一方面,一种自动浸外釉装置,包括旋转机构,所述旋转机构上设有至少一个抓取机构,围绕所述旋转机构设有上坯传送带、釉盆、擦底机和下坯传送带,所述上坯传送带上设有至少一个拦截机构,所述拦截机构包括拦杆和气缸,所述拦杆横向设置在所述上坯传送带上并用于拦截所述上坯传送带运输的坯体,被拦截的所述坯体被所述抓取机构抓取,当所述抓取机构抓取到所述坯体时,所述气缸驱动所述拦杆远离所述坯体。
本申请实施例有益效果:
1.本实用新型的整体结构布局合理,将抓取机构、旋转机构、上坯传送带、釉盆、擦底机和下坯传送带结合起来,实现坯体运输、浸釉自动化,降低成本,提高生产效率。
2.当抓取机构抓取到坯体后,气缸会驱动拦杆远离坯体,避免后续抓取机构抓取坯体上升时使坯体的侧面与拦杆发生摩擦,进而保护坯体。
本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到,当然,实施本申请的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是本实用新型的另一种结构示意图。
图3是图2的A处放大图。
图4是本实用新型的连杆的结构示意图。
图5是本实用新型的支杆的结构示意图。
图中:旋转机构1、转盘11、电机12、抓取机构2、升降组件21、连杆22、吸盘23、上坯传送带3、擦底机4、下坯传送带5、拦截机构6、拦杆61、气缸62、支杆63、控制中心7、釉盆8。
具体实施方式
下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本文中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其他实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本文所描述的实施例可以与其他实施例相结合。
请参阅图1-5,本实用新型实施例中,一种自动浸外釉装置,包括旋转机构1,所述旋转机构1上设有至少一个抓取机构2,围绕所述旋转机构1设有上坯传送带3、釉盆8、擦底机4和下坯传送带5,所述上坯传送带3上设有至少一个拦截机构6,所述拦截机构6包括拦杆61和气缸62,所述拦杆61横向设置在所述上坯传送带3上并用于拦截所述上坯传送带3运输的坯体,被拦截的所述坯体被所述抓取机构2抓取,当所述抓取机构2抓取到所述坯体时,所述气缸62驱动所述拦杆61远离所述坯体,优选的,所述上坯传送带3的侧面设有延伸支架并用于安装所述气缸62;
具体的,所述抓取机构2包括升降组件21、连杆22和吸盘23,所述连杆22连接于所述升降组件21,所述升降组件21驱动所述连杆22做上下往复运动,如图1所示,在该实施例中,所述升降组件21为导轨;
所述吸盘23连接于所述连杆22底部,所述旋转机构1包括转盘11以及用于驱动所述转盘11转动的电机12,所述电机12设置在所述转盘11下方且其转轴同所述转盘11连接,而所述抓取机构2则连接在所述转盘11的上方。
在一些实施例中,所述旋转机构1上设有两个所述抓取机构2,定义所述旋转机构1面向所述上坯传送带3的方向为第一方向,在所述第一方向上,两个所述抓取机构2错位设置以使一个所述抓取机构2置于另一个所述抓取机构2的前方,所述上坯传送带3上设有两个所述拦截机构6并与两个所述抓取机构2相对应,在所述第一方向上,两个所述拦截机构6错位设置以使一个所述拦截机构6置于另一个所述拦截机构6的前方,通过设置两个所述抓取机构2和两个所述拦截机构6配合实现双工位运作,还可以配置两个平行的上坯传送带3且分别安装上述两个拦截机构6进行作业,使其无不干扰;
在一些实施例中,拦杆61上连接有与之垂直的支杆63,优选的,所述支杆63的末端岔开以拦截所述上坯传送带3运输的坯体,岔开的支杆63形状类似于“Y”形状,即可拦截所述胚体,又可实现引导定位;
工作时,上坯传送带3运输坯体至预定位置,也就是坯体被拦截机构6的拦杆61(支杆63)拦截的位置,抓取机构2下探并使吸盘23吸住坯体,此时,气缸62驱动拦杆61(支杆63)远离坯体,避免后续抓取机构2抓取坯体上升时使坯体的侧面与拦杆61(支杆63)发生摩擦,进而保护坯体,旋转机构1带动抓取机构2转动,抓取机构2将坯体送入釉盆8浸釉,抓取机构2将浸釉后的坯体输送至擦底机4磨掉坯体底部多余的釉料,最后抓取机构2再将坯体送到下坯传送带5上;
在一些实施例中,为把握浸釉精度,还可以在釉盆8内增设传感器或感应器识别浸釉深度;
在一些实施例中,所述升降组件21连接有平台,所述升降组件21驱动所述平台做上下往复运动,所述平台上安装有驱动电机,所述驱动电机的转轴与所述连杆22顶部(垂直)连接,所述吸盘23连接于所述连杆22底部,通过设置驱动电机可带动连杆22转动进行实现调整坯体的位置,使抓取机构2更加灵活。
在一些实施例中,还包括控制中心7,控制中心7分别与升降组件21、驱动电机12、气缸62、电机12、传感器(或感应器)、上坯传送带3、下坯传送带5、擦底机4信号连接。
在本文中,将参照图中所标示的“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”这些方位来进行描述。需要理解的是,在本文中的术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。

Claims (7)

1.一种自动浸外釉装置,其特征在于,包括旋转机构,所述旋转机构上设有至少一个抓取机构,围绕所述旋转机构设有上坯传送带、釉盆、擦底机和下坯传送带,所述上坯传送带上设有至少一个拦截机构,所述拦截机构包括拦杆和气缸,所述拦杆横向设置在所述上坯传送带上并用于拦截所述上坯传送带运输的坯体,被拦截的所述坯体被所述抓取机构抓取,当所述抓取机构抓取到所述坯体时,所述气缸驱动所述拦杆远离所述坯体。
2.根据权利要求1所述的一种自动浸外釉装置,其特征在于:所述抓取机构包括升降组件、连杆和吸盘,所述连杆连接于所述升降组件,所述升降组件驱动所述连杆做上下往复运动,所述吸盘连接于所述连杆底部。
3.根据权利要求2所述的一种自动浸外釉装置,其特征在于:所述上坯传送带的侧面设有延伸支架并用于安装所述气缸。
4.根据权利要求3所述的一种自动浸外釉装置,其特征在于:所述旋转机构上设有两个所述抓取机构,两个所述抓取机构错位设置以使一个所述抓取机构置于另一个所述抓取机构的前方,所述上坯传送带上设有两个所述拦截机构并与两个所述抓取机构相对应,两个所述拦截机构错位设置以使一个所述拦截机构置于另一个所述拦截机构的前方。
5.根据权利要求1所述的一种自动浸外釉装置,其特征在于:拦杆上连接有与之垂直的支杆。
6.根据权利要求5所述的一种自动浸外釉装置,其特征在于:所述支杆的末端岔开以拦截所述上坯传送带运输的坯体。
7.根据权利要求1所述的一种自动浸外釉装置,其特征在于:所述旋转机构包括转盘以及用于驱动所述转盘转动的电机。
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