CN219675283U - 一种用于偏光镜的实时功率监测装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于功率监测装置技术领域，公开了一种用于偏光镜的实时功率监测装置，包括激光器；关闸组件，设置在所述激光器和反射镜的通路之间，并且具备截止和导通两种状态；反射镜，由所述反射镜入射端进入的激光经过衰减后由出射端射出；以及功率监测组件，具备一个监测阈值并且设置在所述反射镜的出射端。本实用新型中，反射镜对入射的激光进行衰减，功率监测组件对衰减后的激光进行监测，判断激光的功率是否超出设定的监测阈值，如果超出设定的监测阈值，则说明激光器发射的激光功率过大，不符合偏光镜的加工条件，将导致残次品的产生，反射镜的设置，可以有效衰减激光，从而降低功率监测组件的监测难度，提高监测的准确率。

Description

一种用于偏光镜的实时功率监测装置

技术领域

本实用新型属于功率监测装置技术领域，具体涉及一种用于偏光镜的实时功率监测装置。

背景技术

近年来消费电子发展迅猛，中国已成为手机，车载等芯片最大消费国，而且每年以20％以上的速度增长，未来5-10年，中国消费电子产业将进入黄金时代，当前各大芯片厂商如五方光电，水晶光电等都在进行产能扩建，以满足日益增长的消费需求。

激光划片是芯片制造最为重要的一道制程，激光划片机利用高能激光束照射在工件表面，使被照射区域局部熔化、气化、从而达到划片的目的。因激光是经专用光学***聚焦后成为一个非常小的光点，能量密度高，其加工是非接触式的，对工件本身无机械冲压力，工件不易变形。而激光划片机的功率异常，将造成划片出错，本实用新型一种用于偏光镜的实时功率监测装置，可以有效监测激光功率是否正常，从而降低划片机在生产偏光镜时的异常率。

实用新型内容

针对上述背景技术所提出的问题，本实用新型的目的是：旨在提供一种用于偏光镜的实时功率监测装置。

为实现上述技术目的，本实用新型采用的技术方案如下：

一种用于偏光镜的实时功率监测装置，包括

激光器；

关闸组件，设置在所述激光器和反射镜的通路之间，并且具备截止和导通两种状态；

反射镜，由所述反射镜入射端进入的激光经过衰减后由出射端射出；以及

功率监测组件，具备一个监测阈值并且设置在所述反射镜的出射端。

进一步限定，所述反射镜的衰减率为95％，这样的结构设计，通过反射镜来衰减激光器发出的激光，从而将激光能量衰减后的数值控制在95％，以降低功率监测组件的监测难度，因为大能量激光的监测难度更高，准确性也更低，当衰减后的激光能量超出功率监测组件的监测阈值，说明由激光器产生的激光功率过大，不符合划片加工标准。

进一步限定，所述功率监测组件的输出端还与激光划片机的控制输入端连接，这样的结构设计，当功率监测组件发现经反射镜衰减后的激光超出监测阈值后，可以将这种情况通过数字信号传递给激光划片机，从而控制激光划片机停止加工，避免进一步扩大损失。

进一步限定，所述激光划片机在收到功率监测组件的输出信号之后自动停止加工，这样的结构设计，可以避免在不符合功率的激光下，进行加工，导致不合格率上升。

进一步限定，还包括报警模块，所述报警模块与所述功率监测组件信号连接，这样的结构设计，通过报警模块来对激光功率的异常进行报警，通知工作人员异常情况的发生。

本实用新型的有益效果：激光器发出激光，依次经过关闸组件、反射镜，最终被功率监测组件探测，关闸组件具备截止和导通两种状态，可以用于控制激光是否能够通过，反射镜对入射的激光进行衰减，衰减后的激光由出射端射向功率监测组件，功率监测组件对衰减后的激光进行监测，判断激光的功率是否超出设定的监测阈值，如果超出设定的监测阈值，则说明激光器发射的激光功率过大，不符合偏光镜的加工条件，将导致残次品的产生，反射镜的设置，可以有效衰减激光，从而降低功率监测组件的监测难度，提高监测的准确率，避免偏光镜在错误的加工条件下生产，进而避免不合格率的上升。

附图说明

本实用新型可以通过附图给出的非限定性实施例进一步说明；

图1为本实用新型一种用于偏光镜的实时功率监测装置实施例的结构示意图；

主要元件符号说明如下：

1、激光器；

2、关闸组件；

3、反射镜；

4、功率监测组件。

具体实施方式

为了使本领域的技术人员可以更好地理解本实用新型，下面结合附图和实施例对本实用新型技术方案进一步说明。

如图1所示，本实用新型的一种用于偏光镜的实时功率监测装置，包括

激光器1；

关闸组件2，设置在激光器1和反射镜3的通路之间，并且具备截止和导通两种状态；

反射镜3，由反射镜3入射端进入的激光经过衰减后由出射端射出；以及

功率监测组件4，具备一个监测阈值并且设置在反射镜3的出射端。

本实施例中：

激光器1发出激光，依次经过关闸组件2、反射镜3，最终被功率监测组件探测，关闸组件2具备截止和导通两种状态，可以用于控制激光是否能够通过，反射镜3对入射的激光进行衰减，衰减后的激光由出射端射向功率监测组件4，功率监测组件4对衰减后的激光进行监测，判断激光的功率是否超出设定的监测阈值，如果超出设定的监测阈值，则说明激光器1发射的激光功率过大，不符合偏光镜的加工条件，将导致残次品的产生，反射镜3的设置，可以有效衰减激光，从而降低功率监测组件4的监测难度，提高监测的准确率，避免偏光镜在错误的加工条件下生产，进而避免不合格率的上升。

优选，反射镜3的衰减率为95％，这样的结构设计，通过反射镜3来衰减激光器1发出的激光，从而将激光能量衰减后的数值控制在5％，以降低功率监测组件4的监测难度，因为大能量激光的监测难度更高，准确性也更低，当衰减后的激光能量超出功率监测组件4的监测阈值，说明由激光器1产生的激光功率过大，不符合划片加工标准。实际上，也可以根据具体情况具体考虑反射镜3其它的衰减率。

优选，功率监测组件4的输出端还与激光划片机的控制输入端连接，这样的结构设计，当功率监测组件4发现经反射镜3衰减后的激光超出监测阈值后，可以将这种情况通过数字信号传递给激光划片机，从而控制激光划片机停止加工，避免进一步扩大损失。实际上，也可以根据具体情况具体考虑将异常状况反馈给激光划片机的其它连接方式。

优选，激光划片机在收到功率监测组件4的输出信号之后自动停止加工，这样的结构设计，可以避免在不符合功率的激光下，进行加工，导致不合格率上升。实际上，也可以根据具体情况具体考虑及时控制功率监测组件4停止加工的其它连接方式。

优选，还包括报警模块，报警模块与功率监测组件4信号连接，这样的结构设计，通过报警模块来对激光功率的异常进行报警，通知工作人员异常情况的发生。实际上，也可以根据具体情况具体考虑其它的报警结构。

上述实施例仅示例性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。

Claims (5)

1.一种用于偏光镜的实时功率监测装置，其特征在于：包括

激光器(1)；

关闸组件(2)，设置在所述激光器(1)和反射镜(3)的通路之间，并且具备截止和导通两种状态；

反射镜(3)，由所述反射镜(3)入射端进入的激光经过衰减后由出射端射出；以及

功率监测组件(4)，具备一个监测阈值并且设置在所述反射镜(3)的出射端。

2.根据权利要求1所述的一种用于偏光镜的实时功率监测装置，其特征在于：所述反射镜(3)的衰减率为95％。

3.根据权利要求1所述的一种用于偏光镜的实时功率监测装置，其特征在于：所述功率监测组件(4)的输出端还与激光划片机的控制输入端连接。

4.根据权利要求3所述的一种用于偏光镜的实时功率监测装置，其特征在于：所述激光划片机在收到功率监测组件(4)的输出信号之后自动停止加工。

5.根据权利要求3所述的一种用于偏光镜的实时功率监测装置，其特征在于：还包括报警模块，所述报警模块与所述功率监测组件(4)信号连接。