CN218677102U - 一种匀胶吸盘 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种匀胶吸盘，具体涉及半导体制造技术领域，包括吸盘本体，所述吸盘本体用于靠近基片的端面的边缘周向固定设置有至少两个凸出于吸盘本体的凸台，相邻的两个所述凸台之间具有间隔，所述凸台背离所述底座的表面开设有吸附槽，各所述吸附槽均连接并连通有气体通道。本实用新型能够避免基片中心有效区发生形变或留下吸盘本体印，且能够方便机械手臂对芯片的放置和拿取。

Description

一种匀胶吸盘

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，特别是涉及一种匀胶吸盘。

背景技术

光刻技术在整个芯片制造中占据重要地位，是实现光刻胶和衬底图案化的关键工序：首先将光刻胶涂覆在基片上，烘烤除去溶剂，然后通过掩膜版曝光或电子束直写，诱导曝光部分发生化学反应，最后用显影液洗去可溶部分，得到3D光刻胶图形。

光刻胶是一种对光敏感的混合液体，是微电子技术中微细图形加工的关键材料。将光刻胶涂覆在基片上时，首先需要用匀胶吸盘真空吸附住基片，在基片表面滴上光刻胶，然后匀胶吸盘带动基片旋转，光刻胶在离心力和表面张力的共同作用下实现其薄膜化和均匀化。为确保基片在旋转过程中不会甩飞，吸盘需要提供足够的真空吸附力，常规的匀胶吸盘，吸附槽通常是若干个同心圆环槽，吸附区域为基片的中心有效区，对于厚度不超过0.5mm的薄晶圆基片，被匀胶吸盘吸附的时候，匀胶吸盘的吸附槽会容易引起基片中心有效区的形变或者在基片中心有效区留下吸盘印，在匀胶过程中，这种形变会引起匀胶膜厚均匀性变差，特别是在亚微米级别的图形化工艺中，膜厚的差异很容易反映在图形的尺寸或图形的深度，导致光刻出的图形不能满足工艺的要求。专利“CN216749853U-一种用于芯片双面匀胶工艺中的吸盘装置”虽然是在载盘的边缘开设有吸附槽，使芯片水平放置在载盘上，但是芯片与载盘之间几乎没有高度差，因此，不方便机械手臂对芯片的放置和拿取。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种匀胶吸盘，以解决上述现有技术存在的问题，避免基片中心有效区发生形变或留下吸盘本体印，且能够方便机械手臂对芯片的放置和拿取。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下方案：

本实用新型提供一种匀胶吸盘，包括吸盘本体，所述吸盘本体用于靠近基片的端面的边缘周向固定设置有至少两个凸出于吸盘本体的凸台，相邻的两个所述凸台之间具有间隔，所述凸台背离所述吸盘本体的表面开设有吸附槽，各所述吸附槽均连接并连通有气体通道。

优选的，还包括底座，所述吸盘本体远离基片的端面固定连接有所述底座，所述气体通道包括第一气道和多个第二气道，所述第一气道贯穿所述底座，各所述第二气道均位于所述吸盘本体内部，且各所述吸附槽分别与一个所述第二气道的一端连接并连通，各所述第二气道的另一端均与所述第一气道连接并连通。

优选的，所述吸附槽内开设有吸气孔，各所述吸气孔均与所述第二气道的一端连接并连通。

优选的，所述凸台沿所述吸盘本体周向均匀分布。

优选的，还包括橡胶圈，所述橡胶圈与所述吸附槽套设并与所述吸附槽周向边沿固定连接，各所述橡胶圈靠近基片的端面与所述吸盘本体用于靠近基片的端面平齐。

优选的，所述凸台顶面靠近所述吸盘本体边缘的一侧固定设置有挡柱，所述挡柱用于对基片限位。

优选的，所述凸台设置有四个，分别为第一凸台、第二凸台、第三凸台和第四凸台，所述第一凸台设置有两个所述挡柱，所述第二凸台、所述第三凸台和所述第四凸台均设置有一个所述挡柱，所述第一凸台的两个所述挡柱用于对基片的平边段限位，所述第二凸台、所述第三凸台和所述第四凸台的所述挡柱用于对基片的弧边段限位。

优选的，所述吸盘本体的形状为圆形。

本实用新型相对于现有技术取得了以下技术效果：

本实用新型提供一种匀胶吸盘，通过在吸盘本体顶面的边缘设置凸台，凸台开设有吸附槽，吸附槽吸附基片的外边缘，减小基片的吸附面积且避开了基片的有效区域，避免在基片的有效区域内形成吸盘本体印，提高基片上光刻胶分布的均匀性；而且凸台将基片从吸盘本体顶面架起，方便机械臂前叉对基片的放置和拿取，降低基片的损坏率。

进一步的，匀胶吸盘还包括橡胶圈，橡胶圈靠近基片的端面与吸盘本体用于靠近基片的端面平齐，能够使基片受力更加均匀。

进一步的，凸台上固定设置的挡柱，能够对基片进行限位固定，避免基片因真空异常，在转动过程中会被甩飞，并且在基片受到大转速旋转时挡柱能够抵消部分离心力。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为实施例1的匀胶吸盘结构示意图；

图2为实施例1的匀胶吸盘的俯视图；

图3为实施例2的匀胶吸盘结构示意图；

图4为实施例2的匀胶吸盘的俯视图；

图5为实施例3的匀胶吸盘结构示意图；

图6为实施例3的匀胶吸盘的俯视图；

图7为实施例4的匀胶吸盘结构示意图；

图8为实施例4的匀胶吸盘的正视图；

图9为图8的俯视图；

图10为图8的右视图；

图11为实施例4沿A-A的剖视图；

图12为基片放置在实施例4的匀胶吸盘上的结构示意图。

图中：1-吸盘本体；2-底座；3-凸台；4-吸附槽；5-吸气孔；6-第一气道；7-第二气道；8-橡胶圈；9-挡柱；10-基片；11-基片的平边段；12-机械臂前叉；13-密封螺丝。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型的目的是提供一种匀胶吸盘，以解决上述现有技术存在的问题，避免基片中心有效区发生形变或留下吸盘本体印，且能够方便机械手臂对芯片的放置和拿取。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

实施例1

如图1-2所示，本实施例提供一种匀胶吸盘，包括吸盘本体1，吸盘本体1用于靠近基片10的端面的边缘周向固定设置有至少两个凸出于吸盘本体1的凸台3，相邻两个凸台3之间具有间隔，凸台3背离吸盘本体1的表面开设有吸附槽4，各吸附槽4均连接并连通有气体通道，气体通道与抽真空设备的气路连接，当抽真空设备打开时，通过在吸盘本体顶面的边缘设置凸台，能够使基片10的外边缘与凸台3接触进而使基片10吸附在吸盘本体1上，基片的外边缘与凸台3接触，减小了基片10的吸附面积且避开了基片10的有效区域，避免在基片10的有效区域内形成吸盘本体印，降低基片10的变形率，提高基片10上光刻胶分布的均匀性；而且凸台3将基片10从吸盘本体1顶面架起，相邻两个凸台3之间具有间隔，给机械臂前叉12取放基片预留空间，方便机械臂前叉12对基片10的放置和拿取，降低基片10的损坏率。

匀胶吸盘还包括底座2，吸盘本体1远离基片10的端面固定连接有底座2，底座2用于与抽真空设备连接，气体通道包括第一气道6和第二气道7，第一气道6贯穿底座2，各第二气道7均位于所述吸盘本体1内部，且各吸附槽4分别与一个第二气道7的一端连接并连通，各第二气道7的另一端均与第一气道6连接并连通，吸附槽4内开设有吸气孔5，各吸气孔5均与第二气道7的一端连接并连通，第一气道6与抽真空设备的气路连接，第二气道7靠近吸盘本体1侧壁的一端是封闭的，保证当抽真空设备打开时，气体只能从吸气孔5流入依次经过第二气道7和第一气道6流向抽真空设备，由于第二气道7位于吸盘本体1内部，在对第二气道7加工时，可以根据凸台3的位置，从吸盘本体1的侧壁开设与第一气道6连通的第二气道7，但是在匀胶吸盘吸附基片时，必须将第二气道7在吸盘本体1的侧壁的端口用密封螺丝13进行密封，保证匀胶吸盘的吸附强度。

本实施例中进一步优选的，凸台3沿吸盘本体1周向均匀分布，进一步保证基片10在吸盘本体1上的稳定性。

本实施例中进一步优选的，吸盘本体1的形状为圆形，当吸盘本体1带动基片10旋转时，降低吸盘本体1周围带动的气流对基片10的损坏。

实施例2

如图3-4所示，本实施例在实施例1的基础上，匀胶吸盘还包括橡胶圈8，橡胶圈8与吸附槽4套设并与吸附槽4周向边沿固定连接，各橡胶圈8靠近基片10的端面与吸盘本体1用于靠近基片10的端面平齐，当吸盘本体1吸附基片10时，橡胶圈8能够使基片10受力更加均匀，吸附的更加牢固。

实施例3

如图5-6所示，本实施例在实施例1的基础上，凸台3顶面靠近吸盘本体1边缘的一侧固定设置有挡柱9，挡柱9设置在凸台3顶面靠近吸盘本体1边缘的一侧，挡柱3用于对基片10限位，当真空设备发生异常时，避免吸盘本体1吸附的基片10在转动过程中被甩飞，并且在基片10受到大转速旋转时挡柱9能够抵消部分离心力。

实施例4

如图7-11所示，本实施例在实施例1的基础上，匀胶吸盘还包括橡胶圈8，且凸台3固定设置有挡柱9，本实施例的吸盘本体1吸附基片10时，牢固性更好，基片10上光刻胶的均匀性和外观较好，且方便基片10的放置和拿取。

本实施例中进一步优选的，凸台3设置有四个，分别为第一凸台、第二凸台、第三凸台和第四凸台，第一凸台设置有两个挡柱9，第二凸台、第三凸台和第四凸台均设置有一个挡柱9，第一凸台的两个挡柱9用于对基片的平边段11限位，第一凸台的两个挡柱9之间的距离可以根据基片的平边段11的长度设置，第二凸台、第三凸台和第四凸台的挡柱用于对基片的弧边段限位。

如图12所示，本实施例中吸盘本体1的盘面直径为φ101.7mm，吸附槽4中心直径为87mm；吸附槽4宽度为2mm，吸附槽4中心开φ1.5mm的吸气孔5，吸盘本体1内部开设有φ1.6mm的第二气道7，凸台3高度根据实际机械臂前叉12厚度设定。

本实用新型中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处。综上所述，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (8)

1.一种匀胶吸盘，其特征在于：包括吸盘本体，所述吸盘本体用于靠近基片的端面的边缘周向固定设置有至少两个凸出于吸盘本体的凸台，相邻的两个所述凸台之间具有间隔，所述凸台背离所述吸盘本体的表面开设有吸附槽，各所述吸附槽均连接并连通有气体通道。

2.根据权利要求1所述的匀胶吸盘，其特征在于：还包括底座，所述吸盘本体远离基片的端面固定连接有所述底座，所述气体通道包括第一气道和多个第二气道，所述第一气道贯穿所述底座，各所述第二气道均位于所述吸盘本体内部，且各所述吸附槽分别与一个所述第二气道的一端连接并连通，各所述第二气道的另一端均与所述第一气道连接并连通。

3.根据权利要求2所述的匀胶吸盘，其特征在于：所述吸附槽内开设有吸气孔，各所述吸气孔均与所述第二气道的一端连接并连通。

4.根据权利要求1所述的匀胶吸盘，其特征在于：所述凸台沿所述吸盘本体周向均匀分布。

5.根据权利要求1所述的匀胶吸盘，其特征在于：还包括橡胶圈，所述橡胶圈与所述吸附槽套设并与所述吸附槽周向边沿固定连接，各所述橡胶圈靠近基片的端面与所述吸盘本体用于靠近基片的端面平齐。

6.根据权利要求1所述的匀胶吸盘，其特征在于：所述凸台顶面靠近所述吸盘本体边缘的一侧固定设置有挡柱，所述挡柱用于对基片限位。

7.根据权利要求6所述的匀胶吸盘，其特征在于：所述凸台设置有四个，分别为第一凸台、第二凸台、第三凸台和第四凸台，所述第一凸台设置有两个所述挡柱，所述第二凸台、所述第三凸台和所述第四凸台均设置有一个所述挡柱，所述第一凸台的两个所述挡柱用于对基片的平边段限位，所述第二凸台、所述第三凸台和所述第四凸台的所述挡柱用于对基片的弧边段限位。

8.根据权利要求1所述的匀胶吸盘，其特征在于：所述吸盘本体的形状为圆形。

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