CN217973389U - 一种连续镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种连续镀膜装置，包括依次连接、且通过阀门间隔的预加热腔室、离子源清洗腔室、镀膜腔室、钝化腔室和检测腔室，所述预加热腔室内设有第一加热机构，所述离子源清洗腔室内设有离子源清洗机构和第二加热机构，所述镀膜腔室内设有镀膜机构和第三加热机构，所述钝化腔室内设有钝化机构和第四加热机构，所述检测腔室内设有产品检测机构。连续镀膜装置还包括镀膜输送机构，其设在所述预加热腔室、所述离子源清洗腔室、所述镀膜腔室、所述钝化腔室和所述检测腔室内，用于输送待镀膜的产品依次通过预加热腔室、离子源清洗腔室、镀膜腔室、钝化腔室和检测腔室。本实用新型提供的连续镀膜装置，操作简单、生产效率高。

Description

一种连续镀膜装置

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种连续镀膜装置。

背景技术

双极板是构成燃料电池的部件之一，承担着均匀分配气体、传导电流、串联各单电池等功能。由于燃料电池的电化学反应的工作环境，双极板还必须具有较好的耐电化学腐蚀性能，一般通过在双极板基材上镀膜使其达到相应的性能要求。然而现有的镀膜设备普遍存在操作复杂、效率低等问题，不能满足生产的需要。

实用新型内容

为解决上述问题，本实用新型提供一种连续镀膜装置，操作方便、效率高。

本实用新型的技术方案是这样实现：一种连续镀膜装置，包括依次连接、且通过阀门间隔的预加热腔室、离子源清洗腔室、镀膜腔室、钝化腔室和检测腔室。所述预加热腔室上设有进口，且其内设有第一加热机构。所述离子源清洗腔室内设有离子源清洗机构和第二加热机构，所述镀膜腔室内设有镀膜机构和第三加热机构，所述钝化腔室内设有钝化机构和第四加热机构。所述检测腔室上设有出口，且其内设有产品检测机构。

所述连续镀膜装置还包括镀膜输送机构，其设在所述预加热腔室、所述离子源清洗腔室、所述镀膜腔室、所述钝化腔室和所述检测腔室内，用于输送待镀膜的产品依次通过所述预加热腔室、所述离子源清洗腔室、所述镀膜腔室、所述钝化腔室和所述检测腔室。

所述预加热腔室、所述离子源清洗腔室、所述镀膜腔室和所述钝化腔室均连接有真空泵。

在一些实施例中，所述镀膜输送机构为输送轨道或输送链条。

在一些实施例中，所述镀膜装置还包括设在所述预加热腔室输入端的上料机构；所述上料机构包括上料平台和旋转支架，所述上料平台上设有用于放置产品的料框，所述料框上具有用于固定所述产品上下两端或左右两端的卡槽；所述旋转支架用于将所述料框由水平旋转成竖直状态，以使所述料框上的产品为竖直状态。

在一些实施例中，所述镀膜装置还包括设在所述检测腔室输出端的下料机构；所述下料机构包括下料平台和旋转支架，所述旋转支架用于将所述料框由竖直旋转成水平状态，进而使所述料框上的产品旋转为水平状态。

在一些实施例中，所述旋转支架包括圆形轨道、旋转架和伺服电机，所述旋转架与所述圆形轨道滑动连接，并在所述伺服电机的控制下沿所述圆形轨道旋转。

在一些实施例中，所述旋转支架上设有传送机构，所述传送机构用于将所述旋转支架上的料框传送至下一工位；所述传送机构为与所述料框的上下边缘对应设在若干转轮。

在一些实施例中，所述旋转支架上设有风淋机构，所述风淋机构沿所述圆形轨道周向设置。

在一些实施例中，所述第一加热机构、所述第二加热机构、所述第三加热机构和所述第四加热机构为铺设在各对应所述腔室内的加热管。

在一些实施例中，所述离子源清洗机构和所述第二加热机构设在所述离子源清洗腔室的内壁上；所述钝化机构和所述第四加热机构设在所述钝化腔室的内壁上。

在一些实施例中，所述镀膜腔室上设有等离子体检测装置。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型提供了一种连续镀膜装置，包括依次连接、且通过阀门间隔的预加热腔室、离子源清洗腔室、镀膜腔室、钝化腔室和检测腔室，可实现自动化连续镀膜，操作简单、生产效率高。

附图说明

图1为连续镀膜装置的结构示意图；

图2为预加热腔室、离子源清洗腔室、镀膜腔室、钝化腔室、检测腔室内部结构图；

图3为预加热腔室、离子源清洗腔室、镀膜腔室、钝化腔室、检测腔室的俯视图；

图4为料框的结构示意图；

图5为旋转支架的结构示意图。

图中：1预加热腔室；11第一加热机构；2离子源清洗腔；21第二加热机构；22离子源清洗机构；3室镀膜腔室；31门；32镀膜机构；33第三加热机构；34等离子体检测机构；4钝化腔室；41第四加热机构；42钝化机构；5检测腔室；51产品检测机构；52出口；6下料机构；61旋转支架；62下料平台；63圆形轨道；64风淋机构；65旋转架；66传送机构；7上料机构；71上料平台；72料框；721卡槽；8镀膜输送机构；9真空泵；12阀门；13进口。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易被本领域人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

见图1至图3，一种连续镀膜装置，包括依次连接、且通过阀门12间隔的预加热腔室1(对产品的基材预加热)、离子源清洗腔室2(即使用离子源清洗，以除去基材表面原本的氧化膜等杂质，离子源可以是弧光放电等离子体源、宽束冷阴极离子源、阳极层离子源等)、镀膜腔室3(对基材等离子体镀膜，镀膜机构32比如靶材可设在腔室的门31上，方便安装更换；腔室内还设有等离子体检测装置34来控制反应气流，保证工艺的稳定性)、钝化腔室4(对镀膜后的产品进行钝化后处理，钝化可采用等离子体渗氮、氧或者等离子体注入氮、碳、氧、硅或者采用加热管高温加热氧化的方法，加热温度400-600℃)和检测腔室5(检测镀膜后的产品是否合格)。

所述预加热腔室1上设有进口13，且其内设有第一加热机构11。所述离子源清洗腔室2内设有离子源清洗机构22和第二加热机构21。所述镀膜腔室3内设有镀膜机构32和第三加热机构33。所述钝化腔室4内设有钝化机构42和第四加热机构41。所述检测腔室5上设有出口，且其内设有产品检测机构51。

所述连续镀膜装置还包括镀膜输送机构8，其设在所述预加热腔室1、所述离子源清洗腔室2、所述镀膜腔室3、所述钝化腔室4和所述检测腔室5内，镀膜输送机构8用于输送待镀膜的产品依次通过所述预加热腔室1、所述离子源清洗腔室2、所述镀膜腔室3、所述钝化腔室4和所述检测腔室5。具体的，所述镀膜输送机构8为输送轨道或输送链条。镀膜输送机构8可设在各对应腔室内的中部位置，左右两侧为腔室内的其他机构。

所述预加热腔室1、所述离子源清洗腔室2、所述镀膜腔室3和所述钝化腔室4均连接有真空泵9，其内均为真空环境，真空度根据实际需要调节。

此外，所述镀膜装置还包括设在所述预加热腔室1输入端的上料机构7。所述上料机构7包括上料平台71和旋转支架61，所述上料平台71上设有用于放置产品的料框72。

所述镀膜装置还包括设在所述检测腔室5输出端的下料机构6；所述下料机构6包括下料平台62和旋转支架61，所述旋转支架61用于将所述料框72由竖直旋转成水平状态，进而使所述料框72上的产品旋转为为水平状态。

所述第一加热机构11、所述第二加热机构21、所述第三加热机构33和所述第四加热机构41为铺设在各对应所述腔室内的加热管。各腔室的温度可根据工艺需要调节。

所述离子源清洗机构22和所述第二加热机构21设在所述离子源清洗腔室2的内壁上；所述钝化机构42和所述第四加热机构41设在所述钝化腔室4的内壁上。

所述镀膜腔室3内可以为等离子体镀膜，设有等离子体检测装置34。

见图4，所述料框72上具有用于固定所述产品上下两端或左右两端的卡槽721，对产品进行限位，使产品在水平、竖直状态以及旋转时不会从料框72上滑落。所述旋转支架61用于将所述料框72由水平旋转成竖直状态，以使所述料框72上的产品为竖直状态。

见图5，具体的，所述旋转支架61包括圆形轨道63、旋转架65和伺服电机，所述旋转架65与所述圆形轨道63滑动连接，并在所述伺服电机的控制下沿所述圆形轨道63旋转。

此外，为了方便料框72的传送，所述旋转支架61上设有传送机构66，所述传送机构66用于将所述旋转支架61上的料框72传送至下一工位；所述传送机构66可以为与所述料框72的上下边缘对应设在若干转轮。

所述旋转支架61上还可以设置有风淋机构64，所述风淋机构64沿所述圆形轨道61周向设置，用于对产品镀膜前的清洁。

本实用新型在使用时，待镀膜的产品比如双极板等先由人工或者机械手73依次放置在料框72的卡槽721上，之后料框72由人工放置于旋转支架61上的旋转架65上，或者由上料平台71(带有传送带等传送机构)传送至旋转支架61上的旋转架65上；旋转架65在伺服电机的控制下沿圆形轨道63由水平状态旋转为竖直状态，之后预加热腔室的进口13开启，料框72由传送机构66传送至预加热腔室1内的镀膜输送机构8上，进入预加热腔室1，开口13关闭。料框72在镀膜输送机构8的作用下依次通过预加热腔室1、离子源清洗腔室2、镀膜腔室3、钝化腔室4和检测腔室5(在预加热腔室1处理结束后，预加热腔室1和离子源清洗2之间的阀门12开启，产品进入离子源清洗2，之后预加热腔室1和离子源清洗2之间的阀门12关闭，其他依次类推，使基材在各对应腔室内完成相应的处理过程)。检测腔室5内的产品检测机构51为现有的视觉检测***，将产品检测信息输送到信息接收端，且产品检测机构51连接报警机构，若料框72中有不合格产品，则触发报警机构，并记录不良产品信息。之后镀膜输送机构8将料框72经出口52输送至下料机构6，旋转支架61将料框72由竖直状态旋转为水平状态，并输送至下料平台62。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种连续镀膜装置，其特征在于：包括依次连接、且通过阀门(12)间隔的预加热腔室(1)、离子源清洗腔室(2)、镀膜腔室(3)、钝化腔室(4)和检测腔室(5)；所述预加热腔室(1)上设有进口(13)，且其内设有第一加热机构(11)；所述离子源清洗腔室(2)内设有离子源清洗机构(22)和第二加热机构(21)，所述镀膜腔室(3)内设有镀膜机构(32)和第三加热机构(33)，所述钝化腔室(4)内设有钝化机构(42)和第四加热机构(41)；所述检测腔室(5)上设有出口，且其内设有产品检测机构(51)；

所述连续镀膜装置还包括镀膜输送机构(8)，其设在所述预加热腔室(1)、所述离子源清洗腔室(2)、所述镀膜腔室(3)、所述钝化腔室(4)和所述检测腔室(5)内，用于输送待镀膜的产品依次通过所述预加热腔室(1)、所述离子源清洗腔室(2)、所述镀膜腔室(3)、所述钝化腔室(4)和所述检测腔室(5)；

所述预加热腔室(1)、所述离子源清洗腔室(2)、所述镀膜腔室(3)和所述钝化腔室(4)均连接有真空泵(9)。

2.根据权利要求1所述的连续镀膜装置，其特征在于：所述镀膜输送机构(8)为输送轨道或输送链条。

3.根据权利要求1所述的连续镀膜装置，其特征在于：所述镀膜装置还包括设在所述预加热腔室(1)输入端的上料机构(7)；所述上料机构(7)包括上料平台(71)和旋转支架(61)，所述上料平台(71)上设有用于放置产品的料框(72)，所述料框(72)上具有用于固定所述产品上下两端或左右两端的卡槽(721)；所述旋转支架(61)用于将所述料框(72)由水平旋转成竖直状态，以使所述料框(72)上的产品为竖直状态。

4.根据权利要求3所述的连续镀膜装置，其特征在于：所述镀膜装置还包括设在所述检测腔室(5)输出端的下料机构(6)；所述下料机构(6)包括下料平台(62)和旋转支架(61)，所述旋转支架(61)用于将所述料框(72)由竖直旋转成水平状态，进而使所述料框(72)上的产品旋转为水平状态。

5.根据权利要求4所述的连续镀膜装置，其特征在于：所述旋转支架(61)包括圆形轨道(63)、旋转架(65)和伺服电机，所述旋转架(65)与所述圆形轨道(63)滑动连接，并在所述伺服电机的控制下沿所述圆形轨道(63)旋转。

6.根据权利要求5所述的连续镀膜装置，其特征在于：所述旋转支架(61)上设有传送机构(66)，所述传送机构(66)用于将所述旋转支架(61)上的料框(72)传送至下一工位；所述传送机构(66)为与所述料框(72)的上下边缘对应设在若干转轮。

7.根据权利要求5所述的连续镀膜装置，其特征在于：所述旋转支架(61)上设有风淋机构(64)，所述风淋机构(64)沿所述圆形轨道(63)周向设置。

8.根据权利要求1所述的连续镀膜装置，其特征在于：所述第一加热机构(11)、所述第二加热机构(21)、所述第三加热机构(33)和所述第四加热机构(41)为铺设在各对应所述腔室内的加热管。

9.根据权利要求1所述的连续镀膜装置，其特征在于：所述离子源清洗机构(22)和所述第二加热机构(21)设在所述离子源清洗腔室(2)的内壁上；所述钝化机构(42)和所述第四加热机构(41)设在所述钝化腔室(4)的内壁上。

10.根据权利要求1所述的连续镀膜装置，其特征在于：所述镀膜腔室(3)上设有等离子体检测装置(34)。

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