CN217639722U - 一种结构光照明显微成像*** - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种结构光照明显微成像***,包括:照明模组、超表面调制器、载物台和接收模组;照明模组被配置为发出光线;超表面调制器位于照明模组的出光侧,被配置为将入射的光线调制为周期性明暗相间图案,并向载物台投影周期性明暗相间图案;周期性明暗相间图案与载物台之间的相对角度能够发生变化;接收模组能够接收周期性明暗相间图案投影至样品上所生成的荧光信号。通过本实用新型实施例提供的结构光照明显微成像***,基于超表面调制器即可生成周期性且相对角度可变的明暗相间图案,其体积较小,更加轻薄,能够实现SIM***整体结构简单化、小型化、轻量化,便于移动,更加适用于即时检测,利于更好地推广应用SIM***。
Description
技术领域
本实用新型涉及超分辨显微成像技术领域,具体而言,涉及一种结构光照明显微成像***。
背景技术
光学显微镜是目前生物医学等领域重要的研究工具,结构光照明显微成像(Structure illumination microscopy,SIM)是一种常见的基于光学显微镜的超分辨显微成像技术,其可以突破传统光学显微镜衍射极限的限制,具有更高的成像分辨率。
当前SIM***通常需要通过干涉或者投影的方法产生周期性结构光照明样品,且其工作过程包括对光场的周期性调制等众多环节,需要基于特定的光场调制器件来完成,例如需要空间光调制器(Spatial Light modulator,SLM)、数字微镜装置(DigitalMicromirror Device,DMD)等。现有的光场调制器件结构复杂,导致SIM***整体体积庞大,无法适用于即时检测,检测不方便,导致SIM***不能得到较好的推广应用。
实用新型内容
为解决上述问题,本实用新型实施例的目的在于提供一种结构光照明显微成像***。
本实用新型实施例提供了一种结构光照明显微成像***,包括:照明模组、超表面调制器、载物台和接收模组;
所述照明模组被配置为发出光线;
所述超表面调制器位于所述照明模组的出光侧,被配置为将入射的光线调制为周期性明暗相间图案,并向所述载物台投影所述周期性明暗相间图案;所述周期性明暗相间图案与所述载物台之间的相对角度能够发生变化;
所述载物台位于所述超表面调制器的出光侧,被配置为放置样品;
所述接收模组位于所述载物台的出光侧,被配置为能够接收所述周期性明暗相间图案投影至所述样品上所生成的荧光信号。
在一种可能的实现方式中,所述超表面调制器为相位可调超透镜;
所述超表面调制器被配置为能够对入射的光线进行不同的相位调制,且所调制的不同的相位对应所述周期性明暗相间图案不同的空间方向。
在一种可能的实现方式中,所述超表面调制器包括激励元件和调制元件;
所述激励元件被配置为向所述调制元件施加不同的激励;
所述调制元件被配置为在不同的激励下对入射的光线进行不同的相位调制。
在一种可能的实现方式中,所述调制元件的至少部分结构由相变材料制成,且所述激励元件被配置为向所述调制元件施加不同的光激励或电激励;或者,
所述调制元件包括由柔性材料制成的柔性基底,且所述激励元件被配置为向所述调制元件施加用于改变所述柔性基底拉伸系数的激励。
在一种可能的实现方式中,所述调制元件包括基底、纳米结构和相变材料层;所述激励元件包括第一电极层和第二电极层,且所述激励元件被配置为向所述调制元件施加不同的电激励;
所述纳米结构和所述第一电极层均设在所述基底的同一侧,多个所述纳米结构周期性阵列排布,且所述第一电极层填充在所述纳米结构之间;所述第一电极层的高度小于所述纳米结构的高度;
所述相变材料层位于所述第一电极层远离所述基底的一侧,并填充在所述纳米结构之间;所述第一电极层与所述相变材料层的高度之和大于所述纳米结构的高度;
所述第二电极层位于所述相变材料层远离所述第一电极层的一侧;所述第一电极层和所述第二电极层被配置为能够施加不同大小的电压。
在一种可能的实现方式中,结构光照明显微成像***还包括:非线性超表面;
所述非线性超表面位于所述照明模组与所述超表面调制器之间,被配置为将所述照明模组出射的光线转换为非线性光信号,并向所述超表面调制器出射所述非线性光信号。
在一种可能的实现方式中,所述非线性光信号包括二次谐波非线性光信号。
在一种可能的实现方式中,所述载物台被配置为能够沿所在平面移动。
在一种可能的实现方式中,所述照明模组包括:光源和准直超透镜;
所述光源被配置为发出光线;
所述准直超透镜位于所述光源的出光侧,被配置为对所述光源发出的光线进行准直。
在一种可能的实现方式中,所述照明模组还包括:扩束透镜;
所述扩束透镜位于所述准直超透镜的出光侧,被配置为对准直的光线进行扩束。
在一种可能的实现方式中,所述接收模组包括单光子雪崩二极管阵列。
在一种可能的实现方式中,结构光照明显微成像***还包括:处理装置;
所述处理装置与所述接收模组相连,被配置为基于所述接收模组接收到的荧光信号重构所述样品的超分辨图像。
本实用新型实施例上述提供的方案中,基于超表面的超表面调制器即可生成周期性明暗相间图案,其体积较小,更加轻、薄,可以不需要SLM和DMD等,能够实现SIM***整体结构简单化、小型化、轻量化,便于移动,更加适用于即时检测,有利于SIM***得到更好的推广应用。并且,超表面调制器设计简单,易加工,也具有成本低、产能高的优势。
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1示出了本实用新型实施例所提供的结构光照明显微成像***的第一结构示意图;
图2示出了本实用新型实施例所提供的结构光照明显微成像***的第二结构示意图;
图3示出了本实用新型实施例中改变周期性明暗相间图案的空间方向的示意图;
图4示出了本实用新型实施例中的各向同性频谱示意图;
图5示出了本实用新型实施例所提供的超表面调制器20的一种结构示意图;
图6示出了本实用新型实施例所提供的超表面调制器20的另一种结构示意图;
图7示出了本实用新型实施例所提供的结构光照明显微成像***的第三结构示意图;
图8示出了本实用新型实施例所提供的结构光照明显微成像***的第四结构示意图。
图标:
10-照明模组、20-超表面调制器、30-载物台、40-接收模组、50-非线性超表面、60-处理装置、101-光源、102-准直超透镜、103-扩束透镜、21-激励元件、22-调制元件、211-第一电极层、212-第二电极层、221-基底、222-纳米结构、223-相变材料层。
具体实施方式
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
本实用新型实施例提供一种结构光照明显微成像***,参见图1所示,该显微成像***包括:照明模组10、超表面调制器20、载物台30和接收模组40。其中,照明模组10被配置为发出光线;超表面调制器20位于照明模组10的出光侧,被配置为将入射的光线调制为周期性明暗相间图案,并向载物台30投影周期性明暗相间图案;周期性明暗相间图案与载物台30之间的相对角度能够发生变化;载物台30位于超表面调制器20的出光侧,被配置为放置样品;接收模组40位于载物台30的出光侧,被配置为能够接收周期性明暗相间图案投影至样品上所生成的荧光信号。
本实用新型实施例中,照明模组10能够发出光线,以能够向位于其出光侧的超表面调制器20提供光线;如图1所示,该照明模组10能够从上向下发射光线,即该照明模组10的出光侧为图1的下侧,相应地,超表面调制器20位于照明模组10的下侧。
超表面调制器20为基于超表面技术所制作的调制器,其厚度小,具有轻薄的特点,且能够对照明模组10所出射的光线进行调制,从而生成周期性明暗相间图案;该周期性明暗相间图案可以为周期性明暗相间条纹,例如正弦条纹等。载物台30位于该超表面调制器20的出光侧,周期性明暗相间图案能够投影至该载物台30。如图1所示,该超表面调制器20为透射式的超表面,其能够向位于其下方的载物台30出射周期性明暗相间图案。
载物台30用于放置样品(例如动物组织、植物细胞等),使得周期性明暗相间图案能够投影至该样品上。并且,该周期性明暗相间图案与载物台30之间的相对角度能够发生变化,使得该周期性明暗相间图案与样品之间的相对角度能够发生变化(样品一般固定放置在载物台30上)。例如,该载物台30是可旋转的,使得周期性明暗相间图案与样品之间的相对角度能够发生变化。或者,该超表面调制器20能够发出角度(或方向)可变的周期性明暗相间图案;例如,该超表面调制器20也是可旋转的,或者,该超表面调制器20是相位可调的超表面,以能够改变所生成的周期性明暗相间图案的角度(或方向)。
周期性明暗相间图案与样品相互重叠时,二者会产生拍频,从而形成莫尔条纹;莫尔条纹的空间频率较低,但它含有样品的复杂结构,即高空间频率的结构。即,莫尔条纹将样品高频的复杂信息转换为低频的信息,使得原先不能通过显微成像***的高频信息也能够通过该显微成像***,进而被后续的接收模组40记录。其中,利用莫尔条纹突破衍射极限是SIM***中的成熟技术,此处不做详述。
具体地,接收模组40类似于物镜,其位于载物台30的出光侧,从而能够接收到周期性明暗相间图案投影至样品上所生成的荧光信号。并且,通过调整周期性明暗相间图案与载物台30之间的相对角度,该接收模组40可以分别接收到不同相对角度下的荧光信号,基于多个荧光信号可以重构出该样品的图像。其中,该接收模组40可以包括单光子雪崩二极管阵列(SPAD)。
可选地,参见图2所示,该显微成像***还包括处理装置60;处理装置60与接收模组40相连,被配置为基于接收模组40接收到的荧光信号重构样品的超分辨图像。本实施例中,该显微成像***利用调制的周期性明暗相间图案,将原本接收模组40探测不到的高空间频率信息编码至可探测到的低频图像中,如果知道周期性明暗相间图案光场的强度分布和最终探测到的叠加了样品高空间频率信息的低频编码莫尔条纹后,样品原本的高频信息也就可以通过计算的方获得,进而重构出样品的超分辨图像;其中,基于多个荧光信号重构出样品的超分辨图像的过程是现有SIM***中的成熟技术,此处不做详述。
本实用新型实施例提供的结构光照明显微成像***,基于超表面的超表面调制器20即可生成周期性明暗相间图案,其体积较小,更加轻、薄,可以不需要SLM和DMD等,能够实现SIM***整体结构简单化、小型化、轻量化,便于移动,更加适用于即时检测,有利于SIM***得到更好的推广应用。并且,超表面调制器20设计简单,易加工,也具有成本低、产能高的优势。
可选地,采用转动的方式(例如转动载物台30等)改变周期性明暗相间图案与载物台30之间的相对角度,响应速度较慢;本实用新型实施例中,该超表面调制器20为相位可调超透镜,通过调整该超表面调制器20所调制的相位,可以改变该周期性明暗相间图案与载物台30之间的相对角度,此时,该载物台30可以是固定的。具体地,该超表面调制器20被配置为能够对入射的光线进行不同的相位调制,且所调制的不同的相位对应周期性明暗相间图案不同的空间方向。
本实用新型实施例中,通过对可调的超表面调制器20进行不同的相位调制,可以生成不同空间方向的周期性明暗相间图案;其中,该空间方向指的是该周期性明暗相间图案所周期性排列的方向;例如,若周期性明暗相间图案为正弦条纹,该空间方向可以为正弦条纹的排列方向。利用相位可调的超表面调制器20,可以改变超表面调制器20的调制效果,进而生成不同空间方向的周期性明暗相间图案。一般情况下,多个周期性明暗相间图案的空间方向具有周期性、对称性;例如,周期性明暗相间图案的空间方向每次的改变程度是相同的,并且,该改变程度可以使得多个周期性明暗相间图案的空间方向对称分布。例如,每次改变90°、60°等。
参见图3所示,周期性明暗相间图案的空间方向每次改变30°。具体地,图3中的实线框表示样品的高频信息,其位置固定;虚线框表示周期性明暗相间图案,其是可旋转的,不同旋转角度对应不同的空间方向。在初始时,样品与周期性明暗相间图案的空间方向相同;如图3中(a)所示,周期性明暗相间图案逆时针旋转30°,其与样品之间的夹角为30°;如图3中(b)所示,周期性明暗相间图案再次逆时针旋转30°,其与样品之间的夹角为60°;如图3中(c)所示,周期性明暗相间图案再次逆时针旋转30°,其与样品之间的夹角为90°;如图3中(d)所示,周期性明暗相间图案再次逆时针旋转30°,其与样品之间的夹角为120°;如图3中(e)所示,周期性明暗相间图案再次逆时针旋转30°,其与样品之间的夹角为150°;周期性明暗相间图案再次逆时针旋转30°,其与样品之间的夹角为180°(或者0),即样品与周期性明暗相间图案的空间方向再次相同,图3中未示出。并且,六个空间方向的周期性明暗相间图案所得到的各向同性频谱可参见图4所示。
此外可选地,载物台30被配置为能够沿所在平面移动。例如,载物台30能够沿垂直于超表面调制器20主光轴的方向移动,使得周期性明暗相间图案能够照射到载物台30的不同位置,实现对载物台30上不同位置样品的扫描。
可选地,本实用新型实施例通过向超表面调制器20施加不同的激励,实现相位可调。参见图5所示,该超表面调制器20包括激励元件21和调制元件22。激励元件21被配置为向调制元件22施加不同的激励;调制元件22被配置为在不同的激励下对入射的光线进行不同的相位调制。其中,该调制元件22包括至少一个纳米结构,图5以该调制元件22包含一个圆柱状纳米结构为例示出。
可选地,调制元件22的至少部分结构由相变材料制成,且激励元件21被配置为向调制元件22施加不同的光激励或电激励。利用向相变材料施加不同激励可以改变相变材料相变状态的特点,实现相位可调。
或者,调制元件22包括由柔性材料制成的柔性基底,且激励元件21被配置为向调制元件22施加用于改变柔性基底拉伸系数的激励。例如,如图5中的基底221是柔性的,通过拉伸该基底221可以改变调制单元22中纳米结构之间的距离,从而改变相位调制效果。
可选地,为实现精准调控,本实施例利用相变材料实现相位可调。参见图6所示,该调制元件22包括基底221、纳米结构222和相变材料层223;激励元件21包括第一电极层211和第二电极层212,且激励元件21被配置为向调制元件22施加不同的电激励。
其中,纳米结构222和第一电极层211均设在基底221的同一侧,多个纳米结构222周期性阵列排布,且第一电极层211填充在纳米结构222之间;第一电极层211的高度小于纳米结构222的高度;相变材料层223位于第一电极层211远离基底221的一侧,并填充在纳米结构222之间;第一电极层211与相变材料层223的高度之和大于纳米结构222的高度;第二电极层212位于相变材料层223远离第一电极层211的一侧;第一电极层211和第二电极层212被配置为能够施加不同大小的电压。
本实用新型实施例中,基底221和在其一侧周期排列的多个纳米结构222构成基本的超表面,并且,在相变材料层223的两侧设有第一电极层211和第二电极层212,通过在第一电极层211和第二电极层212施加不同的电压形成电压差,从而可以向相变材料制作的相变材料层223施加电激励,进而改变相变材料层223的相变状态。可选地,该相变材料为能够实现晶态、非晶态转换的材料;例如,该相变材料可以为锗锑碲化物(GeXSBYTEZ),碲化锗(GeXTEY),碲化锑(SbXTEY),银锑碲化物(AgXSBYTEZ)等。例如,该相变材料为GST(Ge2SB2TE5),通过施加电压等方式,可以实现相变材料 的快速转换;并且,也可实现部分晶化,使得相变材料能够处于晶态与非晶态之间的一种状态。
其中,该第一电极层211和相变材料层223均填充在纳米结构222周围,通过改变相变材料层223的相变状态,能够改变纳米结构222所在位置处的等效折射率,从而改变该超表面调制器20的调制效果。其中,第一电极层211与相变材料层223的高度之和大于纳米结构222的高度,使得第二电极层212与该纳米结构222间隔一定距离,可以避免纳米结构222接触到该第二电极层212。
本实用新型实施例中,向该相变材料层223提供不同大小的电压,可以改变超表面调制器20所调制的相位,实现不同的调制效果。如图6所示,光线以入射角θi射入该超表面调制器20,该超表面调制器20为透射式的超表面,对射入的光线进行相位调制后,其出射角为θo。当两个电极层为相变材料层223施加不同的电压时,该超表面调制器20所出射光线的出射角度不同;如图6所示,向相变材料层223施加电压V2时的出射角度大于向相变材料层223施加电压V1时的出射角度,从而实现不同的相位调制。
本实用新型实施例中,该激励元件21(第一电极层211和第二电极层212)可以整体地向该调制元件22施加能够改变的电压,从而可以整体改变该超表面调制器20的调制效果。或者,该超表面调制器20包括多个独立控制的结构单元,每个结构单元均具有激励元件21和调制元件22;如图5所示,多个不同的激励元件21可以分别独立地激励各自对应的调制元件22,通过独自控制各个结构单元所调制的相位,也可改变该超表面调制器20的整体调制效果,进而使得该超表面调制器20能够出射不同空间方向的周期性明暗相间图案。
可选地,参见图7所示,该结构光照明显微成像***还包括:非线性超表面50;非线性超表面50位于照明模组10与超表面调制器20之间,被配置为将照明模组10出射的光线转换为非线性光信号,并向超表面调制器20出射非线性光信号。通过设置该非线性超表面50,可以降低对照明模组10出射光线的波长要求。
可选地,该非线性光信号包括二次谐波非线性光信号。例如,生物组织探测需要450nm的激发光,即需要照明模组10出射450nm的激发光,但大部分激光器发射的激光波段位于红外光谱区域,其波长较大;本实施例通过将照明模组10出射的线性信号转换为高频的二次谐波非线性光信号,从而可以只需要900nm的激发光(红外光),即照明模组10出射900nm的激发光即可,该照明模组10利用普通的激光器即可实现所需功能,能够应用于生物组织探测。
可选地,参见图8所示,该照明模组10包括:光源101和准直超透镜102;光源101被配置为发出光线;准直超透镜102位于光源101的出光侧,被配置为对光源101发出的光线进行准直。
本实用新型实施例中,准直超透镜102能够对光源101发出的光线进行准直,使得射向超表面调制器20的光线是准直的,配合超表面调制器20的相位调制效果,方便生成清晰的周期性明暗相间图案。其中,该光源101可以为发光二极管(LED),也可以为激光器,本实施例对此不做限定。
此外可选地,如图8所示,该照明模组10还包括:扩束透镜103;扩束透镜103位于准直超透镜102的出光侧,被配置为对准直的光线进行扩束。本实用新型实施例中,通过扩束透镜103的扩束作用,可以将光线扩至更大范围,利于实现更大范围的宽场照明。其中,该扩束透镜103也可以是超透镜。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换的技术方案,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (12)
1.一种结构光照明显微成像***,其特征在于,包括:照明模组(10)、超表面调制器(20)、载物台(30)和接收模组(40);
所述照明模组(10)被配置为发出光线;
所述超表面调制器(20)位于所述照明模组(10)的出光侧,被配置为将入射的光线调制为周期性明暗相间图案,并向所述载物台(30)投影所述周期性明暗相间图案;所述周期性明暗相间图案与所述载物台(30)之间的相对角度能够发生变化;
所述载物台(30)位于所述超表面调制器(20)的出光侧,被配置为放置样品;
所述接收模组(40)位于所述载物台(30)的出光侧,被配置为能够接收所述周期性明暗相间图案投影至所述样品上所生成的荧光信号。
2.根据权利要求1所述的结构光照明显微成像***,其特征在于,所述超表面调制器(20)为相位可调超透镜;
所述超表面调制器(20)被配置为能够对入射的光线进行不同的相位调制,且所调制的不同的相位对应所述周期性明暗相间图案不同的空间方向。
3.根据权利要求2所述的结构光照明显微成像***,其特征在于,所述超表面调制器(20)包括激励元件(21)和调制元件(22);
所述激励元件(21)被配置为向所述调制元件(22)施加不同的激励;
所述调制元件(22)被配置为在不同的激励下对入射的光线进行不同的相位调制。
4.根据权利要求3所述的结构光照明显微成像***,其特征在于,
所述调制元件(22)的至少部分结构由相变材料制成,且所述激励元件(21)被配置为向所述调制元件(22)施加不同的光激励或电激励;或者,
所述调制元件(22)包括由柔性材料制成的柔性基底(221),且所述激励元件(21)被配置为向所述调制元件(22)施加用于改变所述柔性基底(221)拉伸系数的激励。
5.根据权利要求4所述的结构光照明显微成像***,其特征在于,所述调制元件(22)包括基底(221)、纳米结构(222)和相变材料层(223);所述激励元件(21)包括第一电极层(211)和第二电极层(212),且所述激励元件(21)被配置为向所述调制元件(22)施加不同的电激励;
所述纳米结构(222)和所述第一电极层(211)均设在所述基底(221)的同一侧,多个所述纳米结构(222)周期性阵列排布,且所述第一电极层(211)填充在所述纳米结构(222)之间;所述第一电极层(211)的高度小于所述纳米结构(222)的高度;
所述相变材料层(223)位于所述第一电极层(211)远离所述基底(221)的一侧,并填充在所述纳米结构(222)之间;所述第一电极层(211)与所述相变材料层(223)的高度之和大于所述纳米结构(222)的高度;
所述第二电极层(212)位于所述相变材料层(223)远离所述第一电极层(211)的一侧;所述第一电极层(211)和所述第二电极层(212)被配置为能够施加不同大小的电压。
6.根据权利要求1所述的结构光照明显微成像***,其特征在于,还包括:非线性超表面(50);
所述非线性超表面(50)位于所述照明模组(10)与所述超表面调制器(20)之间,被配置为将所述照明模组(10)出射的光线转换为非线性光信号,并向所述超表面调制器(20)出射所述非线性光信号。
7.根据权利要求6所述的结构光照明显微成像***,其特征在于,所述非线性光信号包括二次谐波非线性光信号。
8.根据权利要求1所述的结构光照明显微成像***,其特征在于,所述载物台(30)被配置为能够沿所在平面移动。
9.根据权利要求1所述的结构光照明显微成像***,其特征在于,所述照明模组(10)包括:光源(101)和准直超透镜(102);
所述光源(101)被配置为发出光线;
所述准直超透镜(102)位于所述光源(101)的出光侧,被配置为对所述光源(101)发出的光线进行准直。
10.根据权利要求9所述的结构光照明显微成像***,其特征在于,所述照明模组(10)还包括:扩束透镜(103);
所述扩束透镜(103)位于所述准直超透镜(102)的出光侧,被配置为对准直的光线进行扩束。
11.根据权利要求1所述的结构光照明显微成像***,其特征在于,所述接收模组(40)包括单光子雪崩二极管阵列。
12.根据权利要求1所述的结构光照明显微成像***,其特征在于,还包括:处理装置(60);
所述处理装置(60)与所述接收模组(40)相连,被配置为基于所述接收模组(40)接收到的荧光信号重构所述样品的超分辨图像。
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ID=83637449
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US11978752B2 (en) | 2019-07-26 | 2024-05-07 | Metalenz, Inc. | Aperture-metasurface and hybrid refractive-metasurface imaging systems |
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- 2022-07-25 CN CN202221923855.8U patent/CN217639722U/zh active Active
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