CN217504643U - 一种硅片平整性检测设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于硅片生产技术领域，尤其是一种硅片平整性检测设备，针对现有的设备在生产硅片时，不能很好的保证硅片的平整性，且若是硅片出现不平整处无法快速发觉处理的问题，现提出如下方案，其包括底板，所述底板的顶部对称固定安装有两个竖板，两个竖板的顶部固定安装有同一个顶板，两个竖板上滑动安装有同一个滑板，顶板的底部固定安装有驱动装置，底板的顶部固定安装有放置板，放置板上固定安装有透网，放置板的底部对称滑动安装有两个隔板，两个隔板上对称固定安装有两个第一连接板，底板上固定安装有控制箱。本实用新型硅片生产时可以检测并确保硅片的平整，并且加热过程舒缓，有效的提高了生产质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅片生产技术领域，尤其涉及一种硅片平整性检测设备。
背景技术
硅片是半导体领域中必不可少的核心产品，在硅片的加工过程中需要压平和加热。
但是现有的设备在生产硅片时，不能很好的保证硅片的平整性，且若是硅片出现不平整处无法快速发觉处理，所以需要一种硅片平整性检测设备。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有的设备在生产硅片时，不能很好的保证硅片的平整性，且若是硅片出现不平整处无法快速发觉处理的缺点，而提出的一种硅片平整性检测设备。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
一种硅片平整性检测设备，包括底板，所述底板的顶部对称固定安装有两个竖板，两个竖板的顶部固定安装有同一个顶板，两个竖板上滑动安装有同一个滑板，顶板的底部固定安装有驱动装置，底板的顶部固定安装有放置板，放置板上固定安装有透网，放置板的底部对称滑动安装有两个隔板，两个隔板上对称固定安装有两个第一连接板，底板上固定安装有控制箱，控制箱上固定安装有加热罩，滑板的底部活动安装有压平检测板，压平检测板上活动安装有带动装置。
优选的，所述驱动装置包括电动推杆，电动推杆固定安装在顶板的底部，电动推杆的输出轴与滑板固定连接。
优选的，所述滑板的底部对称固定安装有两个安装筒，两个安装筒上均滑动安装有支撑杆，压平检测板固定安装在两个支撑杆的底端。
优选的，两个所述安装筒内均滑动安装有滑块，两个支撑杆分别固定安装在两个滑块上，两个安装筒内均固定安装有压簧。
优选的，所述带动装置包括两个第二连接板和两个连接杆，两个第二连接板对称固定安装在压平检测板上，两个连接杆对称活动安装在两个第二连接板上，两个连接杆的底端分别与两个第一连接板活动连接。
与现有技术相比，本实用新型的优点在于：
(1)本方案由于设置了底板、竖板、顶板、滑板、电动推杆、安装筒、滑块、支撑杆、压簧、压平检测板、第二连接板、连接杆，电动推杆带动滑板移动，滑板带动压平检测板移动可以将放置板上放置的硅片压住固定，同时可以检测硅片不平整处，使用方便；
(2)本方案由于设置了放置板、透网、隔板、第一连接板、控制箱、加热罩，压住硅片的同时压平检测板可以带动两个隔板移动，从而将透网打开，进而通过控制箱对硅片进行加热，加热过程可以缓慢进行，避免损坏硅片，使用起来很是方便。
本实用新型硅片生产时可以检测并确保硅片的平整，并且加热过程舒缓，有效的提高了生产质量。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种硅片平整性检测设备的剖视结构示意图；
图2为本实用新型提出的一种硅片平整性检测设备的滑板、第二连接板等立体结构示意图；
图3为本实用新型提出的一种硅片平整性检测设备图1的A部分结构示意图。
图中：1、底板；2、竖板；3、顶板；4、滑板；5、电动推杆；6、放置板；7、透网；8、隔板；9、第一连接板；10、控制箱；11、加热罩；12、安装筒；13、滑块；14、支撑杆；15、压簧；16、压平检测板；17、第二连接板；18、连接杆。
具体实施方式
下面将结合本实施例中的附图，对本实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实施例一部分实施例，而不是全部的实施例。
实施例一
参照图1-3，一种硅片平整性检测设备，包括底板1，底板1的顶部对称固定安装有两个竖板2，两个竖板2的顶部固定安装有同一个顶板3，两个竖板2上滑动安装有同一个滑板4，顶板3的底部固定安装有驱动装置，底板1的顶部固定安装有放置板6，放置板6上固定安装有透网7，放置板6的底部对称滑动安装有两个隔板8，两个隔板8上对称固定安装有两个第一连接板9，底板1上固定安装有控制箱10，控制箱10上固定安装有加热罩11，滑板4的底部活动安装有压平检测板16，压平检测板16上活动安装有带动装置。
本实施例中，驱动装置包括电动推杆5，电动推杆5固定安装在顶板3的底部，电动推杆5的输出轴与滑板4固定连接，可以通过电动推杆5带动滑板4移动。
本实施例中，滑板4的底部对称固定安装有两个安装筒12，两个安装筒12上均滑动安装有支撑杆14，压平检测板16固定安装在两个支撑杆14的底端，确保了压平检测板16的稳定移动。
本实施例中，两个安装筒12内均滑动安装有滑块13，两个支撑杆14分别固定安装在两个滑块13上，两个安装筒12内均固定安装有压簧15，使得压平检测板16在压住硅片时不会直接压紧避免损坏硅片。
本实施例中，带动装置包括两个第二连接板17和两个连接杆18，两个第二连接板17对称固定安装在压平检测板16上，两个连接杆18对称活动安装在两个第二连接板17上，两个连接杆18的底端分别与两个第一连接板9活动连接，使得压平检测板16在移动时可以带动两个隔板8移动。
工作原理：将硅片放置在放置板6上，放置好后启动电动推杆5，电动推杆5带动滑板4移动，滑板4带动两个安装筒12移动，两个安装筒12带动两个支撑杆14移动，两个支撑杆14带动压平检测板16移动，从而可以压住固定硅片，并且整个覆盖在硅片上，可以检测其不平整处，同时压平检测板16移动时通过两个第二连接板17、两个连接杆18和两个第一连接板9带动两个隔板8移动，从而可以通过控制箱10和加热罩11对硅片进行加热处理，提高生产效率和质量。
实施例二
参照图1-3，一种硅片平整性检测设备，包括底板1，底板1的顶部对称固定安装有两个竖板2，两个竖板2的顶部固定安装有同一个顶板3，两个竖板2上滑动安装有同一个滑板4，顶板3的底部固定安装有驱动装置，底板1的顶部固定安装有放置板6，放置板6上固定安装有透网7，放置板6的底部对称滑动安装有两个隔板8，两个隔板8上对称固定安装有两个第一连接板9，底板1上固定安装有控制箱10，控制箱10上固定安装有加热罩11，滑板4的底部活动安装有压平检测板16，压平检测板16上活动安装有带动装置，可以在底板1的底部加装若干个导向轮，便于移动装置。
本实施例中，驱动装置包括电动推杆5，电动推杆5固定安装在顶板3的底部，电动推杆5的输出轴与滑板4固定连接，可以通过电动推杆5带动滑板4移动。
本实施例中，滑板4的底部对称固定安装有两个安装筒12，两个安装筒12上均滑动安装有支撑杆14，压平检测板16固定安装在两个支撑杆14的底端，确保了压平检测板16的稳定移动。
本实施例中，两个安装筒12内均滑动安装有滑块13，两个支撑杆14分别固定安装在两个滑块13上，两个安装筒12内均固定安装有压簧15，使得压平检测板16在压住硅片时不会直接压紧避免损坏硅片。
本实施例中，带动装置包括两个第二连接板17和两个连接杆18，两个第二连接板17对称固定安装在压平检测板16上，两个连接杆18对称活动安装在两个第二连接板17上，两个连接杆18的底端分别与两个第一连接板9活动连接，使得压平检测板16在移动时可以带动两个隔板8移动。
实施例二与实施例一之间的区别在于：在底板1的底部加装若干个导向轮，便于移动装置。
以上所述，仅为本实施例较佳的具体实施方式，但本实施例的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实施例揭露的技术范围内，根据本实施例的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实施例的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种硅片平整性检测设备，包括底板(1)，其特征在于，所述底板(1)的顶部对称固定安装有两个竖板(2)，两个竖板(2)的顶部固定安装有同一个顶板(3)，两个竖板(2)上滑动安装有同一个滑板(4)，顶板(3)的底部固定安装有驱动装置，底板(1)的顶部固定安装有放置板(6)，放置板(6)上固定安装有透网(7)，放置板(6)的底部对称滑动安装有两个隔板(8)，两个隔板(8)上对称固定安装有两个第一连接板(9)，底板(1)上固定安装有控制箱(10)，控制箱(10)上固定安装有加热罩(11)，滑板(4)的底部活动安装有压平检测板(16)，压平检测板(16)上活动安装有带动装置。
2.根据权利要求1所述的一种硅片平整性检测设备，其特征在于，所述驱动装置包括电动推杆(5)，电动推杆(5)固定安装在顶板(3)的底部，电动推杆(5)的输出轴与滑板(4)固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种硅片平整性检测设备，其特征在于，所述滑板(4)的底部对称固定安装有两个安装筒(12)，两个安装筒(12)上均滑动安装有支撑杆(14)，压平检测板(16)固定安装在两个支撑杆(14)的底端。
4.根据权利要求3所述的一种硅片平整性检测设备，其特征在于，两个所述安装筒(12)内均滑动安装有滑块(13)，两个支撑杆(14)分别固定安装在两个滑块(13)上，两个安装筒(12)内均固定安装有压簧(15)。
5.根据权利要求1所述的一种硅片平整性检测设备，其特征在于，所述带动装置包括两个第二连接板(17)和两个连接杆(18)，两个第二连接板(17)对称固定安装在压平检测板(16)上，两个连接杆(18)对称活动安装在两个第二连接板(17)上，两个连接杆(18)的底端分别与两个第一连接板(9)活动连接。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202123411130.9U CN217504643U (zh) | 2021-12-31 | 2021-12-31 | 一种硅片平整性检测设备 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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| CN217504643U true CN217504643U (zh) | 2022-09-27 |
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ID=83344125
Family Applications (1)
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| CN202123411130.9U Active CN217504643U (zh) | 2021-12-31 | 2021-12-31 | 一种硅片平整性检测设备 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN217504643U (zh) |
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2021
- 2021-12-31 CN CN202123411130.9U patent/CN217504643U/zh active Active
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