CN2174480Y - 复合真空离子镀膜设备 - Google Patents
复合真空离子镀膜设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN2174480Y CN2174480Y CN 93231788 CN93231788U CN2174480Y CN 2174480 Y CN2174480 Y CN 2174480Y CN 93231788 CN93231788 CN 93231788 CN 93231788 U CN93231788 U CN 93231788U CN 2174480 Y CN2174480 Y CN 2174480Y
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- target
- vacuum chamber
- coating equipment
- ion beam
- negative bias
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
一种复合真空离子镀膜设备。在真空室的中心
轴线上装有一个圆柱形并且至少分为四段的多弧磁
控溅射组合靶;真空室的侧壁上,至少装有三个磁控
多弧蒸发源17;真空室内装有可以公转、自转,并可
施加负偏压的工件架12;并垂直悬挂一对可施加负
压发射电子的热灯丝13。本实用新型用金量少,金
的溅射均匀,工件装载量大,易于推广应用。
Description
本实用新型涉及金属表面处理设备;特别是属于一种复合真空离子镀膜设备。该设备可实现一种仿金色氮化钛与金或金合金两种膜层的同时镀饰或交替镀饰的复合膜层的镀饰。
目前国内外真空镀饰氮化钛-金复合膜层的装置,多采用电阻蒸发法、中空阴极法或大型平面磁控溅射法来镀饰金或金合金膜层,其中前两种方法是点蒸发源均匀性差,一次镀饰的工件数量较少,后一种方法靶面积较大镀膜均匀性好,一次镀饰的工件数量较多,但因其采用的是在真空室的底面进行锶钡氮大型平面磁控溅射技术,靶用金量较大、耗资大,所以难以推广使用。
本实用新型的目的是针对现有镀膜设备所存在的上述不足,提供一种靶用金量少、工件装载量大,镀膜均匀性好,易于推广应用的复合真空离子镀膜设备,以便更好、更经济的完成金或金合金的沉积镀饰。
本实用新型的目的是通过如下技术方案实现的:在真空室的侧壁安装多个多弧蒸发源,真空室的中心安装一个小直径圆柱形的多段组合式钕铁硼磁控溅射装置,真空室底部的一个可以公转、自转机构上装有可以施加负偏压的工件架,真空室的空间垂直悬挂一对可发射热电子的灯丝,以此构成一种多弧-多段三极磁控溅射复合真空离子镀膜设备。
附图是本实用新型的组装示意图。
以下参照附图将本实用新型的具体结构及其工作原理详细说明。
1.在∮700×1000mm真空室14的侧壁,至少均匀地安放三个磁控多弧钛蒸发源17,由送气管8向真空室送入氮和氩气。工件放在工件架12上,该工件架在公转、自转机构19的带动下可以公转和自转并可施加偏压。
2.本实用新型采用圆柱形小直径多段组合式磁控溅射装置完成金或金合金膜层的沉积。该装置是在真空室内的中心轴上,装有一个由靶管6、靶材10、磁铁7、磁铁驱动装置2、屏蔽管升降装置4等几部分组成的圆柱形并且至少分为四段的多段磁控溅射靶;其中金靶材10为金或金合金中的任意一种;靶材的形状可任选带状或片状中任意一种;并至少分为四段均匀地分隔固定在靶管6上。磁铁7至少分为四组与靶材10对立安放在靶管6内,并串联在一起由电机2带动上下往复运动,以保证靶材10的均匀溅射。在靶材的***至少安装四个与靶材相对应的屏蔽管9,并由屏蔽管联件11串联在一起,由驱动电机3和驱动装置4驱动上下移动,当沉积氮化钛时,屏蔽管挡住金靶材不能污染,当沉积金膜时,屏蔽管由驱动装置4移开保证金膜沉积的正常进行。
3.在真空室内垂直悬挂一对可发射热电子的钨制热灯丝13。灯丝的下端联接灯丝中心联杆15。由于负偏压由灯丝的中心联杆施加,在相同条件下使电子发射量增加很多。工作时将灯丝接通电源1加热到可发射电子的温度,并施加负偏压。使其发射热电子碰撞氩原子使其离化为氩离子。
图中的其他结构件分别是:磁控溅射靶电源5、工件负偏压引入16、灯丝偏压引入18、灯丝偏压电源20、真空室底盘21、工件负偏压电源22。
本实用新型的主要优越性有:
1.该金溅射装置由于不是整体靶,而是采用圆柱形小直径靶管6(∮20~24mm)将金靶材均匀安装在靶管上,用金量很少(400~800克)比使用大型平面磁控溅射靶要经济的多,易于推广使用。
2.由于金靶材在真空室垂直并分多段地均匀分布,使金的溅射均匀,所以金沉积膜层均匀,而且工件装载量大,一次装载女表壳可达1200~1800只。
3.热灯丝的作用有三个:其一是可以加热烘烤工件起到去气作用。其二是工件做离子清洗工序时,由于热灯丝热电子发射提高了氩的离化率,工件施加较低的负偏压(100~300V)就可获得较大清洗离子流,可避免高压离子清洗击伤的危险性。其三是在进行金膜磁控溅射沉积时,由于热灯丝的热电子发射提高了氩的离化率和金溅射的离化率,同时当工作施加负偏压时,有氩离子流冲击工件,因而可获得高质量的金沉积膜层。
Claims (4)
1、一种复合真空离子镀膜设备,由真空室、磁控装置、蒸发源和热灯丝组成;其特征在于:
(1)真空室内的中心轴上,装有一个圆柱形并且至少分为四段的多段磁控溅射靶;
(2)真空室的侧壁上,至少装有三个磁控多弧蒸发源[17];
(3)真空室内装有可以公转、自转,并可施加负偏压的工件架[12];
(4)真空室内垂直悬挂一对可施加负偏压发射热电子的热灯丝[13];
2、按照权利要求1所说的复合真空离子镀膜设备,其特征在于所说的组合靶由靶管[6]、靶材[10]、磁铁[7]、磁铁驱动装置[2]、屏蔽管升降装置[4]等组成,其中:
(1)靶材[10]为金或金合金中的任意一种;靶材的形状可任选带状或片状中任意一种;并至少分为四段分隔固定在靶管[6]上;
(2)磁铁[7]至少分为四组,与靶材[10]对应地安放在靶管6内,并串联在一起;
(3)靶管[6]是∮20~24mm的小直径圆柱形。
3、按照权利要求1所说的复合真空离子镀膜设备,其特征在于所说的多弧蒸发源[17]为钛蒸发源。
4、按照权利要求1所说的复合真空离子镀膜设备,其特征在于所的热灯丝[13]是钨灯丝,其负偏压由灯丝的中心联杆15施加。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 93231788 CN2174480Y (zh) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 复合真空离子镀膜设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 93231788 CN2174480Y (zh) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 复合真空离子镀膜设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN2174480Y true CN2174480Y (zh) | 1994-08-17 |
Family
ID=33808168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 93231788 Expired - Fee Related CN2174480Y (zh) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 复合真空离子镀膜设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN2174480Y (zh) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101928920A (zh) * | 2010-08-25 | 2010-12-29 | 北京航空航天大学 | 一种多层复合丝旋转制备装置及制备方法 |
CN102534511A (zh) * | 2012-02-28 | 2012-07-04 | 东北大学 | 一种气相沉积薄膜的装置及其使用方法 |
CN103866241A (zh) * | 2014-02-25 | 2014-06-18 | 广东省工业技术研究院(广州有色金属研究院) | 一种离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置 |
CN109852939A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-06-07 | 陕西理工大学 | 一种高真空多弧离子镀膜机的工具镀膜转架装置 |
CN110387525A (zh) * | 2019-08-15 | 2019-10-29 | 常州机电职业技术学院 | 一种医疗器械表面镀钛处理装置及处理方法 |
CN112908813A (zh) * | 2021-02-09 | 2021-06-04 | 大束科技(北京)有限责任公司 | 一种灯丝镓离子结合装置及结合方法 |
CN113413895A (zh) * | 2021-07-09 | 2021-09-21 | 苏州道一至诚纳米材料技术有限公司 | 薄膜催化剂的生产设备及生产方法 |
-
1993
- 1993-09-08 CN CN 93231788 patent/CN2174480Y/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101928920A (zh) * | 2010-08-25 | 2010-12-29 | 北京航空航天大学 | 一种多层复合丝旋转制备装置及制备方法 |
CN101928920B (zh) * | 2010-08-25 | 2012-01-11 | 北京航空航天大学 | 一种多层复合丝旋转制备装置及制备方法 |
CN102534511A (zh) * | 2012-02-28 | 2012-07-04 | 东北大学 | 一种气相沉积薄膜的装置及其使用方法 |
CN102534511B (zh) * | 2012-02-28 | 2013-10-16 | 东北大学 | 一种气相沉积薄膜的装置及其使用方法 |
CN103866241A (zh) * | 2014-02-25 | 2014-06-18 | 广东省工业技术研究院(广州有色金属研究院) | 一种离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置 |
CN103866241B (zh) * | 2014-02-25 | 2016-07-13 | 广东省工业技术研究院(广州有色金属研究院) | 一种离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置 |
CN109852939A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-06-07 | 陕西理工大学 | 一种高真空多弧离子镀膜机的工具镀膜转架装置 |
CN110387525A (zh) * | 2019-08-15 | 2019-10-29 | 常州机电职业技术学院 | 一种医疗器械表面镀钛处理装置及处理方法 |
CN112908813A (zh) * | 2021-02-09 | 2021-06-04 | 大束科技(北京)有限责任公司 | 一种灯丝镓离子结合装置及结合方法 |
CN113413895A (zh) * | 2021-07-09 | 2021-09-21 | 苏州道一至诚纳米材料技术有限公司 | 薄膜催化剂的生产设备及生产方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105543792B (zh) | 磁控溅射装置及磁控溅射方法 | |
CN106637112B (zh) | 用于燃料电池金属双极板的卧式磁控溅射***及镀膜工艺 | |
CN2174480Y (zh) | 复合真空离子镀膜设备 | |
CN2813637Y (zh) | 卧式电子束蒸发式真空镀膜机 | |
CN1718847A (zh) | 一种对靶孪生磁控溅射离子镀沉积装置 | |
CN1793416A (zh) | 金属薄膜复合制备装置及工艺 | |
CN101698934A (zh) | 一种中空阴极电弧离子镀涂层*** | |
CN109576668B (zh) | 一种多工位长管材高效磁控溅射镀膜专用装置 | |
CN110055503A (zh) | 一种用于制备镝/铽镀层的磁控溅射镀膜***和方法 | |
CN105714256A (zh) | 一种磁控溅射低温制备dlc薄膜的方法 | |
CN114875358B (zh) | 一种复合真空镀膜设备及其使用方法 | |
CN209144244U (zh) | 电子束镀膜*** | |
CN103839641A (zh) | 一种钕铁硼稀土永磁器件的混合镀膜设备及制造方法 | |
CN109338320B (zh) | 一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺 | |
CN208791734U (zh) | 一种设置气体弧光等离子体清洗源的镀膜机 | |
CN105671508B (zh) | 一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置 | |
CN108950497B (zh) | 一种基于辉光放电原理将金属沉积在塑胶基材表面的镀膜*** | |
CN102703868A (zh) | 低温离子镀膜装置 | |
CN214271023U (zh) | 一种用于镀膜的蒸镀装置 | |
CN207958490U (zh) | 用于重稀土扩散法制作钕铁硼永磁的真空磁控涂覆设备 | |
CN2290608Y (zh) | 旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机 | |
CN2075655U (zh) | 双室旋转磁控溅射镀膜机 | |
CN106222621A (zh) | 一种磁控溅射装置及磁控溅射方法 | |
CN204325479U (zh) | 一种复合离子镀膜机 | |
CN221501223U (zh) | 一种离子镀膜设备 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C19 | Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |