CN217072991U - 紫外处理设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种紫外处理设备，将第一待处理对象放置于第一加热台上进行加热，同时紫外光组件用于发射紫外光并照射所述第一待处理对象，夹持组件可夹持并驱动所述第一待处理对象旋转，使得对所述第一待处理对象的加热和紫外光照射更加均匀，从而提高所述第一待处理对象的结构强度和稳定性；同时，气压组件可改变处理腔室内的气压状态，例如使处理腔室达到真空状态，满足紫外处理工艺的特定环境要求，从而减少了废品率，降低了成本，并且可以提高处理腔室的保温性，减少热量损耗，降低能耗。本实用新型中的紫外处理设备在工作时不需要操作人员参与，避免高温、紫外光对人体产生损伤。

Description

紫外处理设备

技术领域

本实用新型涉及紫外处理技术领域，尤其涉及一种紫外处理设备。

背景技术

目前，一些由高分子材料制成的产品的结构强度和稳定性达不到要求，需要在制备完成后再进行一道强化工艺，从而增加产品的结构强度和稳定性。通常，这道强化工艺是将产品置于真空环境或氮气环境下，通过加热产品并进行紫外光照射实现。目前并没有能够实现这道强化工艺的设备，如果依靠人工手动操作，操作人员难以在真空或充氮的环境内作业，且紫外光也对人体有害，即使这些困难能够克服，人工操作也面临处理效率低下，操作难度高等问题，所以设计本台设备。

在此之前，虽然有诸如PP粒子的烘干箱等类似的箱体设备，但在这类设备中，产品受热、受紫外照射不够均匀，从而导致产品的结构强度和稳定性无法进一步提高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种紫外处理设备，能够较好的实现高分子材料制成的产品的强化工艺，提高产品的结构强度和稳定性。

为了达到上述目的，本实用新型提供了一种紫外处理设备，包括：

处理腔室；

气压组件，连接所述处理腔室，用于改变所述处理腔室内的气压状态；

第一加热台，位于所述处理腔室内，用于承载并加热第一待处理对象；

紫外光组件，位于所述处理腔室内，用于发射紫外光并照射所述第一待处理对象；以及，

夹持组件，至少部分伸入所述处理腔室内，用于夹持并驱动所述第一待处理对象旋转，且所述第一待处理对象的旋转轴与所述紫外光的光路垂直。

可选的，还包括：

第二加热台，位于所述处理腔室内，用于承载并加热第二待处理对象。

可选的，所述第一加热台及所述第二加热台在所述紫外光的光路上具有重叠区域，且所述第一加热台及所述第二加热台中至少最靠近所述紫外光组件的一者可拆卸地设置于所述处理腔室内。

可选的，所述第一待处理对象沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度大于或等于一设定值，所述第二待处理对象沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度小于所述设定值。

可选的，所述第一加热台上具有一凹槽，所述凹槽的底面及侧面均为加热面，所述第一待处理对象位于所述凹槽内。

可选的，所述第一待处理对象和/或所述第二待处理对象的材料包括合成纤维、树脂、塑料或橡胶。

可选的，所述第一加热台用于将所述第一待处理对象加热至熔融状态；和/或，所述第二加热台用于将所述第二待处理对象加热至熔融状态。

可选的，所述气压组件包括：

真空单元，用于将所述处理腔室抽真空；和/或，

供气单元，用于向所述处理腔室内通入惰性气体并逼走所述处理腔室内的空气。

可选的，所述紫外光组件包括：

紫外光源，用于发出所述紫外光；以及，

伸缩单元，设置于所述处理腔室的内壁上并连接所述紫外光源，以驱动所述紫外光源沿靠近或远离所述第一加热台的方向移动。

可选的，所述夹持组件包括：

夹持单元，至少部分伸入所述处理腔室内，用于夹持所述第一待处理对象；以及，

驱动单元，位于所述处理腔室外，用于连接所述夹持单元并驱动所述夹持单元及所述第一待处理对象旋转。

在本实用新型提供的紫外处理设备中，将第一待处理对象放置于第一加热台上进行加热，同时紫外光组件用于发射紫外光并照射所述第一待处理对象，夹持组件可夹持并驱动所述第一待处理对象旋转，使得对所述第一待处理对象的加热和紫外光照射更加均匀，从而提高所述第一待处理对象的结构强度和稳定性；同时，气压组件可改变处理腔室内的气压状态，例如使处理腔室达到真空状态，满足紫外处理工艺的特定环境要求，从而减少了废品率，降低了成本，并且可以提高处理腔室的保温性，减少热量损耗，降低能耗。本实用新型中的紫外处理设备在工作时不需要操作人员参与，避免高温、紫外光对人体产生损伤。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的紫外处理设备的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的伸缩单元的结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的第一加热台的剖面示意图；

其中，附图标记为：

100-机架；200-处理腔室；301-真空单元；302-供气单元；401-第一加热台；411-凹槽；412-加热棒；402-第二加热台；501-伸缩单元；511-固定板；512-伸缩架；513-连杆；514-丝杆；515-旋钮；502-紫外光源；601-旋转电机；602-紧定轴承；603-夹爪；701-第一待处理对象；702-第二待处理对象。

具体实施方式

下面将结合示意图对本实用新型的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

图1为本实施例提供的紫外处理设备的结构示意图。如图1所示，本实施例中，所述紫外处理设备用于处理第一待处理对象701和/或第二待处理对象702，所述第一待处理对象701和所述第二待处理对象702均可由高分子材料制成，所述高分子材料是以高分子化合物为基础的材料，如合成纤维、树脂、塑料和橡胶等材料。由于高分子材料的特性，通过所述紫外处理设备将所述第一待处理对象701和/或所述第二待处理对象702加热至熔融状态，并利用紫外光对所述第一待处理对象701和/或所述第二待处理对象702进行照射，可以增加所述第一待处理对象701和/或所述第二待处理对象702的结构强度和稳定性。所述第一待处理对象701及所述第二待处理对象702可以是诸如医疗等领域中会使用到的产品，本实用新型不作限制。

当然，作为可选实施例，所述第一待处理对象701和所述第二待处理对象702不限于采用高分子材料制成，所述紫外处理设备也不限于仅用于对高分子材料进行强化，只要是需要进行加热及紫外光照射的应用场合均可以使用本实施例中的所述紫外处理设备，此处不再一一举例说明。

请继续参阅图1，本实施例中，所述紫外处理设备包括机架100、处理腔室200、气压组件、第一加热台401、紫外光组件、夹持组件及第二加热台402。

具体而言，所述机架100是所述紫外处理设备的支撑框架，用于支撑并固定所述紫外处理设备中的结构。本实施例中，所述机架100大致包括左右分布(相对于图1来说)的两个框架部分，所述气压组件及所述夹持组件大致由左侧的框架部分固定，所述处理腔室200则由右侧的框架部分固定，但不应以此为限，所述机架100的结构和形状可以根据实际情况设计。

进一步地，所述气压组件连接所述处理腔室200，用于改变所述处理腔室200内的气压状态。本实施例中，所述气压组件包括真空单元301和供气单元302，所述真空单元301例如是真空泵，可以将所述处理腔室200抽真空，使得所述处理腔室200内构成真空环境；所述供气单元302例如是供气***，可以持续向所述处理腔室200内通入惰性气体从而逼走所述处理腔室200内的空气。可见，所述气压组件可以使得所述处理腔室200满足紫外处理工艺的特定环境要求，从而减少废品率，降低成本，并且可以提高所述处理腔室200的保温性，减少热量损耗，降低能耗。

应理解，为了逼走所述处理腔室200内的空气，所述处理腔室200上可以开设气孔，所述气孔可以打开或关闭，当使用所述真空单元301抽真空时，将所述气孔关闭，当使用所述供气单元302充气时，则需要将所述气孔打开。

可选的，所述惰性气体可以是氮气、氩气或氦气等，本实用新型不作限制。

作为可选实施例，所述气压组件可以仅包含所述真空单元301及所述供气单元302中的一者，而不必两者皆包含。

请继续参阅图1，所述第一加热台401和所述第二加热台402均位于所述处理腔室200内，其中，所述第一加热台401用于承载并加热所述第一待处理对象701，所述第二加热台402用于承载并加热所述第二待处理对象702。本实施例中，所述第一加热台401需要将所述第一待处理对象701加热至熔融状态，所述第二加热台402需要将所述第二待处理对象702加热至熔融状态，但不应以此为限。

进一步地，所述紫外光组件位于所述处理腔室200内，且固定在所述处理腔室200的内壁上，所述紫外光组件整***于所述第一加热台401和所述第二加热台402的上方空间，所述紫外光组件可以发射紫外光并照射所述第一待处理对象701和/或所述第二待处理对象702。

本实施例中，所述紫外光组件包括紫外光源502和伸缩单元501，所述紫外光源502用于发出所述紫外光，所述伸缩单元501的固定端固定在所述处理腔室200的内壁上，伸缩端连接所述紫外光源502，所述伸缩单元501通过伸缩而驱动所述紫外光源502移动，使得所述紫外光源502可以靠近或远离所述第一加热台401或所述第二加热台402，进而调节所述紫外光照射至所述第一待处理对象701或所述第二待处理对象702上的能量。

作为可选实施例，所述紫外光源502可以由一个以上的紫外灯组成，所述紫外灯可以是条形或环形；当所述紫外灯具有多个时，所述紫外灯可以阵列分布，也可以圆周分布，本实用新型不作限制。

图2为本实施例提供的伸缩单元501的结构示意图。如图2所示，所述伸缩单元501包括两个相对设置的固定板511、两个相对设置的伸缩架512、两个相对设置的连杆513、丝杆514及旋钮515。其中，两个所述固定板511中的一个用于与所述处理腔室200的内壁连接，作为所述伸缩单元501的固定端，另一个用于与所述紫外光源502连接，作为所述伸缩单元501的伸缩端；两个所述伸缩架512均位于两个所述固定板511之间，且能够通过伸缩改变两个所述固定板511之间的距离；所述连杆513的两端分别连接一个所述伸缩架512，所述丝杆514的一端连接所述旋钮515，另一端依次穿过两个所述连杆513并与所述连杆513螺纹连接。旋转所述旋钮515时，所述丝杆514带动所述连杆513旋转，进而通过所述连杆513控制所述伸缩架512的伸缩。

本实施例中，所述伸缩单元501需要在所述紫外处理设备正式工作前手动调节好，作为可选实施例，所述伸缩单元501的结构不限于此，还可以是手动/电动伸缩杆等结构，此处不再一一举例说明。

请继续参阅图1，本实施例中，所述第一待处理对象701沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度大于或等于一设定值，而所述第二待处理对象702沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度则小于所述设定值，例如，所述第一待处理对象701可以是一柱状结构，而所述第二待处理对象702则是一片状结构。

本实施例中，所述夹持组件的至少部分伸入所述处理腔室200内，用于夹持并驱动所述第一待处理对象701旋转，且所述第一待处理对象701的旋转轴与所述紫外光的光路垂直，例如当所述第一待处理对象701是柱状结构时，所述第一待处理对象701是沿其轴向旋转的。如此一来，即使所述第一待处理对象701沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度较大，由于其可以旋转，使得对所述第一待处理对象701的加热和紫外光照射更加均匀，从而提高所述第一待处理对象701的结构强度和稳定性。

请继续参阅图1，所述夹持组件包括夹持单元及驱动单元，所述夹持单元至少部分伸入所述处理腔室200内，用于夹持所述第一待处理对象701，所述驱动单元位于所述处理腔室200外，用于连接所述夹持单元并驱动所述夹持单元及所述第一待处理对象701旋转。本实施例中，所述夹持单元包括连接的紧定轴承602和夹爪603，所述夹爪603用于夹持所述第一待处理对象701的端部，所述驱动单元为旋转电机601，所述旋转电机601的输出端与所述紧定轴承602连接，如此即可驱动所述夹爪603及所述第一待处理对象701旋转。

图3为本实施例提供的第一加热台401的剖面示意图。如图3所示，本实施例中，所述第一加热台401上具有一凹槽411，所述凹槽411的附近均可以设置加热棒412，使得所述凹槽411的底面及侧面均可以为加热面，所述第一待处理对象701位于所述凹槽411内。如此一来，所述第一加热台401的加热效率更高，可以快速将所述第一待处理对象701加热至熔融状态。

当然，作为可选实施例，所述第一加热台401的表面也可以是平面，由于所述第一待处理对象701可以旋转，所述第一加热台401也能够对所述第一待处理对象701进行快速加热。

进一步地，由于所述第二待处理对象702沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度较小，即使所述第二待处理对象702不旋转且所述第二加热台402的表面也仅是平面，也能够较好地对所述第二待处理对象702进行加热和紫外光照射，不会对所述第二待处理对象702的结构强度和稳定性产生不良影响。

请继续参阅图1，本实施例中，所述第一加热台401及所述第二加热台402在所述紫外光的光路上具有重叠区域，且所述第一加热台401正好位于所述第二加热台402的上方空间，如此一来，所述第一加热台401会将所述紫外光遮挡，使得所述紫外光无法照射至所述第二加热台402上。

基于此，本实施例中，所述第一加热台401可拆卸地设置于所述处理腔室200内，当需要处理所述第一待处理对象701时，将所述第一待处理对象701放置于所述第一加热台401上加热，并利用所述夹持组件驱动所述第一待处理对象701旋转，同时进行紫外光照射即可，但需要留意，此时所述第二加热台402上不放置所述第二待处理对象702。类似的，当需要处理所述第二待处理对象702时，将所述第一加热台401拿出所述处理腔室200，将所述第二待处理对象702放置于所述第二加热台402上加热，并进行紫外光照射即可。也就是说，所述处理腔室200只能够单独处理所述第一待处理对象701或所述第二待处理对象702，而无法同时处理所述第一待处理对象701或所述第二待处理对象702。

当然，作为可选实施例，所述第一加热台401及所述第二加热台402也可以并排设置，如此一来，所述第一加热台401及所述第二加热台402在所述紫外光的光路上不具有重叠区域，所述紫外光可以同时照射到所述第一待处理对象701和所述第二待处理对象702，所述处理腔室200可同时处理所述第一待处理对象701及所述第二待处理对象702。

综上，在本实用新型实施例提供的紫外处理设备中，将第一待处理对象放置于第一加热台上进行加热，同时紫外光组件用于发射紫外光并照射所述第一待处理对象，夹持组件可夹持并驱动所述第一待处理对象旋转，使得对所述第一待处理对象的加热和紫外光照射更加均匀，从而提高所述第一待处理对象的结构强度和稳定性；同时，气压组件可改变处理腔室内的气压状态，例如使处理腔室达到真空状态，满足紫外处理工艺的特定环境要求，从而减少了废品率，降低了成本，并且可以提高处理腔室的保温性，减少热量损耗，降低能耗。本实用新型中的紫外处理设备在工作时不需要操作人员参与，避免高温、紫外光对人体产生损伤。

需要说明的是，本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的***而言，由于与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。

还需要说明的是，虽然本实用新型已以较佳实施例披露如上，然而上述实施例并非用以限定本实用新型。对于任何熟悉本领域的技术人员而言，在不脱离本实用新型技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的技术内容对本实用新型技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本实用新型技术方案保护的范围。

还应当理解的是，除非特别说明或者指出，否则说明书中的术语“第一”、“第二”、“第三”等描述仅仅用于区分说明书中的各个组件、元素、步骤等，而不是用于表示各个组件、元素、步骤之间的逻辑关系或者顺序关系等。

此外还应该认识到，此处描述的术语仅仅用来描述特定实施例，而不是用来限制本实用新型的范围。必须注意的是，此处的以及所附权利要求中使用的单数形式“一个”和“一种”包括复数基准，除非上下文明确表示相反意思。例如，对“一个步骤”或“一个装置”的引述意味着对一个或多个步骤或装置的引述，并且可能包括次级步骤以及次级装置。应该以最广义的含义来理解使用的所有连词。以及，词语“或”应该被理解为具有逻辑“或”的定义，而不是逻辑“异或”的定义，除非上下文明确表示相反意思。此外，本实用新型实施例中的方法和/或设备的实现可包括手动、自动或组合地执行所选任务。

Claims (10)

1.一种紫外处理设备，其特征在于，包括：

处理腔室；

气压组件，连接所述处理腔室，用于改变所述处理腔室内的气压状态；

第一加热台，位于所述处理腔室内，用于承载并加热第一待处理对象；

紫外光组件，位于所述处理腔室内，用于发射紫外光并照射所述第一待处理对象；以及，

夹持组件，至少部分伸入所述处理腔室内，用于夹持并驱动所述第一待处理对象旋转，且所述第一待处理对象的旋转轴与所述紫外光的光路垂直。

2.如权利要求1所述的紫外处理设备，其特征在于，还包括：

第二加热台，位于所述处理腔室内，用于承载并加热第二待处理对象。

3.如权利要求2所述的紫外处理设备，其特征在于，所述第一加热台及所述第二加热台在所述紫外光的光路上具有重叠区域，且所述第一加热台及所述第二加热台中至少最靠近所述紫外光组件的一者可拆卸地设置于所述处理腔室内。

4.如权利要求2或3所述的紫外处理设备，其特征在于，所述第一待处理对象沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度大于或等于一设定值，所述第二待处理对象沿所述紫外光的光路方向上的最大厚度小于所述设定值。

5.如权利要求4所述的紫外处理设备，其特征在于，所述第一加热台上具有一凹槽，所述凹槽的底面及侧面均为加热面，所述第一待处理对象位于所述凹槽内。

6.如权利要求2或3所述的紫外处理设备，其特征在于，所述第一待处理对象和/或所述第二待处理对象的材料包括合成纤维、树脂、塑料或橡胶。

7.如权利要求6所述的紫外处理设备，其特征在于，所述第一加热台用于将所述第一待处理对象加热至熔融状态；和/或，所述第二加热台用于将所述第二待处理对象加热至熔融状态。

8.如权利要求1所述的紫外处理设备，其特征在于，所述气压组件包括：

真空单元，用于将所述处理腔室抽真空；和/或，

供气单元，用于向所述处理腔室内通入惰性气体并逼走所述处理腔室内的空气。

9.如权利要求1所述的紫外处理设备，其特征在于，所述紫外光组件包括：

紫外光源，用于发出所述紫外光；以及，

伸缩单元，设置于所述处理腔室的内壁上并连接所述紫外光源，以驱动所述紫外光源沿靠近或远离所述第一加热台的方向移动。

10.如权利要求1所述的紫外处理设备，其特征在于，所述夹持组件包括：

夹持单元，至少部分伸入所述处理腔室内，用于夹持所述第一待处理对象；以及，

驱动单元，位于所述处理腔室外，用于连接所述夹持单元并驱动所述夹持单元及所述第一待处理对象旋转。

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