CN216817172U - 一种上盖及真空干燥装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及显示面板制造设备技术领域，公开了一种上盖及真空干燥装置。真空干燥装置包括上盖和底座，上盖扣合在底座上，上盖上开设有制程凹槽，当上盖盖设于底座上后围设形成制程腔室，上盖上还开设有压力平衡腔室，压力平衡腔室与制程凹槽至少共用一个壁板，压力平衡腔室与制程腔室保持相同的压力。本实用新型的上盖中制程腔室的壁板不会发生凹陷变形，从而保证制程腔室形状稳定、压力变化均匀，进而保证玻璃基板的良品率，且从根本上杜绝了制程腔室壁板的变形，不需要定期检测和更换，从而能提高生产效率、减少人力需求、降低生产成本。真空干燥装置通过采用上述上盖，良品率高、生产效率高、成本低，人力需求少。

Description

一种上盖及真空干燥装置

技术领域

本实用新型涉及显示面板制造设备技术领域，尤其涉及一种上盖及真空干燥装置。

背景技术

在显示面板制造过程中，光刻是不可或缺的制程。光刻制程包括在玻璃基板上涂布光阻和对光阻进行真空干燥(Vacuum Drying，VCD)。真空干燥制程是利用真空环境使光阻中的溶剂挥发，使光阻具有一定的硬度。

图1为现有技术提供的真空干燥装置的结构示意图，如图1所示，真空干燥装置包括底座1′、上盖2′及真空泵3′，上盖2′可以盖设在底座1′上，以围成制程腔室4′，制程腔室4′用于容纳涂布有光阻的玻璃基板5′，真空泵3′与制程腔室4′连通。在进行真空干燥制程时，真空泵3′将制程腔室4′由大气压逐渐抽成真空(或接近真空)的状态，最后对制程腔室4′进行释压以完成真空干燥制程。由于外部大气压高于制程腔室4′内的压力，因此大气压会挤压上盖2′并使上盖2′(尤其是表面积较大的侧壁)产生变形，长期使用后上盖2′抗变形能力变差，中部内凹。在真空泵3′逐渐将制程腔室4′抽成真空的过程中，因上盖2′的变形会导致制程腔室4′内不同部位处的压力变化不均匀，从而使不同部位的光阻中溶剂的挥发速度不均匀，进而影响玻璃基板5′的良品率。

现有技术中，为了保证玻璃基板的良品率，通常每间隔一定时间就需要对上盖的形状精度进行检测，当上盖的变形量超过一定范围时，则需要更换新的上盖。定期检测不仅增加了人力需求，还影响生产效率，更换新上盖则会导致玻璃基板的生产成本增加。

因此，亟待需要一种上盖及真空干燥装置来解决上述技术问题。

实用新型内容

本实用新型的一个目的在于提出一种上盖，其构成制程腔室的部分不易变形，从而能保证制程腔室内压力变化均匀，提高良品率。

本实用新型的另一个目的在于提出一种真空干燥装置，通过采用上述的上盖，良品率高、生产成本低，且维护过程所需的人力少。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种上盖，用于与真空干燥装置的底座配合，所述上盖上开设有制程凹槽，以使所述上盖盖设于所述底座上后围设形成制程腔室，所述上盖上还开设有压力平衡腔室，所述压力平衡腔室与所述制程凹槽至少共用一个壁板，所述压力平衡腔室与所述制程腔室保持相同的压力。

优选地，所述上盖用于与所述底座配合的表面上设置有定位凹槽，所述定位凹槽环设于所述制程凹槽，所述定位凹槽与所述底座上的密封条凹凸配合。

优选地，所述上盖上开设有第一抽气通道，所述第一抽气通道一端与所述压力平衡腔室相连通，另一端与真空泵连通。

优选地，所述上盖包括横截面为“冖”字型的支撑部，所述支撑部围设形成所述制程凹槽，所述压力平衡腔室设置于所述支撑部上侧，并与所述制程凹槽共用所述支撑部顶部的壁板。

优选地，所述上盖包括横截面为“冖”字型的支撑部，所述支撑部围设形成所述制程凹槽，所述压力平衡腔室包围于所述支撑部，并与所述制程凹槽共用所述支撑部多个壁板。

一种真空干燥装置，包括底座和所述的上盖，所述上盖能够盖设于所述底座上以围设形成制程腔室，所述制程腔室和所述压力平衡腔室内保持相同的压力。

优选地，所述真空干燥装置还包括真空泵，所述真空泵分别对所述制程腔室和所述压力平衡腔室抽真空。

优选地，所述底座上设置有第二抽气通道，所述第二抽气通道的一端与所述制程腔室连通，另一端与所述真空泵连通。

优选地，所述底座上设置有多个第二抽气通道，多个所述第二抽气通道均匀分布于所述底座上与所述制程腔室相对的部位。

优选地，所述底座上设置有密封条，所述密封条夹设在所述上盖与所述底座之间，且环设于所述制程凹槽。

本实用新型有益效果为：

本实用新型的上盖，盖设在底座上后构成制程腔室，在进行真空干燥时，将玻璃基板放置在制程腔室内，并同时对制程腔室和压力平衡腔室抽真空，由于压力平衡腔室与制程腔室至少共用一个壁板，且两腔室的压力相同，故两腔室共用的壁板受力平衡，在制程腔室内的压力从大气压抽至真空的过程中，制程腔室的壁板不会发生凹陷变形，从而保证制程腔室形状稳定、压力变化均匀，进而保证玻璃基板各位置处的溶剂挥发速率均匀，提高了玻璃基板的良品率。本实用新型的上盖从根本上杜绝了制程腔室壁板的变形，故不需要定期检测和更换，从而能提高生产效率、减少人力需求、降低生产成本。

本实用新型的真空干燥装置，通过采用上述的上盖，良品率高、生产效率高、人力需求少、生产成本低。

附图说明

图1是现有技术提供的真空干燥装置的剖视图；

图2是本实用新型实施例一提供的上盖的剖视图；

图3是本实用新型实施例一提供的真空干燥装置的剖视图；

图4是本实用新型实施例二提供的真空干燥装置的剖视图。

图中：

1′-底座；2′-上盖；3′-真空泵；4′-制程腔室；5′-玻璃基板；

1-上盖；11-制程凹槽；12-压力平衡腔室；13-第一抽气通道；14-定位凹槽；15-支撑部；16-扣合部；

2-底座；21-第二抽气通道；

3-制程腔室；

4-真空泵；

5-密封条；

6-玻璃基板。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。

实施例一

本实施例提供了一种上盖及真空干燥装置，真空干燥装置用于对涂布有光阻的玻璃基板进行真空干燥，即将玻璃基板放置于真空干燥装置后，光阻中的溶剂在真空环境中挥发。图2是本实施例提供的上盖的剖视图，图3是本实施例提供的真空干燥装置的剖视图，如图2和图3所示，真空干燥装置包括底座2、上盖1和真空泵4。底座2用于支撑待进行真空干燥的玻璃基板6。上盖1上开设有制程凹槽11，当将上盖1盖设于底座2上后，制程凹槽11与底座2围设形成制程腔室3，上盖1上还开设有压力平衡腔室12，压力平衡腔室12与制程凹槽11至少共用一个壁板，真空泵4分别与压力平衡腔室12和制程腔室3相连通，真空泵4能对压力平衡腔室12和制程腔室3抽真空并使压力平衡腔室12与制程腔室3保持相同的压力。

本实施例的上盖1盖设在底座2上后构成制程腔室3，在进行真空干燥时，将玻璃基板6放置在制程腔室3内，接着真空泵4同时对制程腔室3和压力平衡腔室12抽真空，由于压力平衡腔室12与制程腔室3至少共用一个壁板，且两腔室的压力相同，故两腔室共用的壁板受力平衡，在制程腔室3内的压力从大气压抽至真空的过程中，制程腔室3的壁板不会发生凹陷变形，从而保证制程腔室3形状稳定、压力变化均匀，进而保证玻璃基板6各位置处的溶剂挥发速率均匀，提高了玻璃基板6的良品率。本实施例的上盖1从根本上杜绝了制程腔室3壁板的变形，故不需要定期检测和更换，从而能提高生产效率、减少人力需求、降低生产成本。本实施例的真空干燥装置，通过采用上述的上盖1，良品率高、生产效率高、人力需求少、生产成本低。

需要说明的是，具体玻璃基板6支撑在底座2上的放置和结构可以为现有技术中的任意一种，在此不做具有限定。可选地，真空泵4可以是旋片泵、往复泵等机械真空泵，根据实际情况选择设置即可，在此不做限定。

本实施例中，如图3所示，上盖1上开设有第一抽气通道13，第一抽气通道13一端与压力平衡腔室12相连通，另一端可以通过管道与真空泵4连通。底座2上设置有第二抽气通道21，第二抽气通道21的一端与制程腔室3连通，另一端可以通过管道与真空泵4连通。从而实现真空泵4分别与压力平衡腔室12和制程腔室3的连通。

优选地，如图3所示，底座2上设置有多个第二抽气通道21，多个第二抽气通道21均匀分布于底座2上与制程腔室3相对的部位，从而保证在抽真空过程中，制程腔室3内各个位置处的压力变化更均匀。可选地，本实施例中，底座2上设置有四个第二抽气通道21，其他实施例中，第二抽气通道21的数量可以根据需求灵活设置，在此不做具体限定。

优选地，本实施例中，如图3所示，上盖1上设置有多个第一抽气通道13，真空泵4通过多个第一抽气通道13与压力平衡腔室12连通，可以更快速、均匀地进行抽真空。多个第一抽气通道13的具***置可以根据需要灵活设置，在此不做限定。

如图3所示，底座2上设置有密封条5，密封条5夹设在上盖1与底座2之间，且环设于制程凹槽11(即环设于制程腔室3)。在真空泵4对制程腔室3抽真空的过程中，制程腔室3内的压力小于外部大气压，外部大气压会将上盖1整体压向底座2，底座2位置不变，此时上盖1会挤压密封条5，从而保证制程腔室3良好的密封效果，也能保证制程腔室3内压力值的精准性。可选地，密封条5可以为橡胶条。进一步地，密封条5可以通过粘接、紧固件连接等方式固定在底座2上，在此不做具体限定。

优选地，如图2和图3所示，上盖1用于与底座2配合的表面上设置有定位凹槽14，定位凹槽14环设于制程凹槽11，当上盖1盖设在底座2上时，定位凹槽14与底座2上的密封条5凹凸配合，从而保证上盖1与底座2的相对位置精度，以进一步提高制程腔室3的密封性。

可以理解的是，制程腔室3的具体形状和尺寸可以根据玻璃基板6的大小选择设置。如图2所示，本实施例中，制程腔室3的形状为长方体。具体地，上盖1包括支撑部15，支撑部15为板状结构，且板状结构的一侧通过铣削加工或其他加工方式成型制程凹槽11，此时，支撑部15包括一个顶部壁板和四个侧面壁板，即横截面为“冖”字型。本实施例中支撑部15一体成型，从而保证制程腔室3良好的密封性。可以理解的是，为了适配玻璃基板6的形状，支撑部15顶部的壁板面积较大，而侧面的壁板面积较小，因此支撑部15顶部的壁板容易发生变形，而侧面的壁板不容易发生变形。

优选地，如图3所示，压力平衡腔室12设置于支撑部15上侧，且压力平衡腔室12与制程凹槽11共用支撑部15顶部的壁板。因此，压力平衡腔室12与制程腔室3保持相同的压力能有效避免制程凹槽11顶部的壁板发生变形，进而保证在抽真空过程中，制程腔室3的形状稳定、压力变化均匀。而支撑部15的四个侧面壁板不容易发生变形，故可以不通过压力平衡腔室12来平衡两侧的压力。

本实施例中，如图2所示，上盖1还包括扣合部16，扣合部16也呈板状结构，扣合部16朝向支撑部15的一侧设置有凹槽，将扣合部16扣合在支撑部15上即可形成压力平衡腔室12，具体扣合部16与支撑部15的连接方式可以为粘接、焊接等，在此不做限定。可以理解的是，其他实施例中，扣合部16也可以是由多块板拼接而成的，在此不做限定。

实施例二

本实施例提供了一种上盖1及真空干燥装置。图4为本实施例提供的真空干燥装置的剖面图，如图4所示，真空干燥装置包括上盖1、底座2及真空泵4。本实施例中真空干燥装置的大致结构和工作原理与实施例一相同，相同之处在此不再赘述，不同之处在于上盖1上压力平衡腔室12的形状，具体如下：

如图4所示，上盖1包括横截面为“冖”字型的支撑部15，支撑部15围设形成制程凹槽11，压力平衡腔室12包围于支撑部15，并与制程凹槽11共用支撑部15的多个壁板。从而使得制程凹槽11的多个壁板均处于不会被挤压变形的平衡状态(即壁板的两侧同时受到制程腔室3和压力平衡腔室12的压力)，进一步保证制程凹槽11在抽真空过程中形状稳定、压力变化均匀，提高玻璃基板6的良品率。

具体地，如图4所示，本实施例中的支撑部15与实施例一相同，即支撑部15包括一个顶部壁板和四个侧面的壁板，且横截面呈“冖”字型。进一步地，本实施例中，上盖1还包括扣合部16，扣合部16为罩体结构，扣合部16罩设于支撑部15，扣合部16与支撑部15之间形成压力平衡腔室12，压力平衡腔室12同时包围支撑部15的顶部壁板和四个侧面壁板，从而使得支撑凹槽的所有壁板均不会在抽真空过程中发生变形，从而保证玻璃基板6真空干燥的良品率。可选地，扣合部16与支撑部15之间可以通过焊接连接，结构牢固、且形成的压力平衡腔室12密封性好。

显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种上盖，用于与真空干燥装置的底座(2)配合，其特征在于，所述上盖上开设有制程凹槽(11)，以使所述上盖盖设于所述底座(2)上后围设形成制程腔室(3)，所述上盖上还开设有压力平衡腔室(12)，所述压力平衡腔室(12)与所述制程凹槽(11)至少共用一个壁板，所述压力平衡腔室(12)与所述制程腔室(3)保持相同的压力。

2.如权利要求1所述的上盖，其特征在于，所述上盖用于与所述底座(2)配合的表面上设置有定位凹槽(14)，所述定位凹槽(14)环设于所述制程凹槽(11)，所述定位凹槽(14)与所述底座(2)上的密封条(5)凹凸配合。

3.如权利要求1所述的上盖，其特征在于，所述上盖上开设有第一抽气通道(13)，所述第一抽气通道(13)一端与所述压力平衡腔室(12)相连通，另一端与真空泵(4)连通。

4.如权利要求1-3任一项所述的上盖，其特征在于，所述上盖包括横截面为

字型的支撑部(15)，所述支撑部(15)围设形成所述制程凹槽(11)，所述压力平衡腔室(12)设置于所述支撑部(15)上侧，并与所述制程凹槽(11)共用所述支撑部(15)顶部的壁板。

5.如权利要求1-3任一项所述的上盖，其特征在于，所述上盖包括横截面为

字型的支撑部(15)，所述支撑部(15)围设形成所述制程凹槽(11)，所述压力平衡腔室(12)包围于所述支撑部(15)，并与所述制程凹槽(11)共用所述支撑部(15)多个壁板。

6.一种真空干燥装置，其特征在于，包括底座(2)和权利要求1-5任一项所述的上盖，所述上盖能够盖设于所述底座(2)上以围设形成制程腔室(3)，所述制程腔室(3)和所述压力平衡腔室(12)内保持相同的压力。

7.如权利要求6所述的真空干燥装置，其特征在于，所述真空干燥装置还包括真空泵(4)，所述真空泵(4)分别对所述制程腔室(3)和所述压力平衡腔室(12)抽真空。

8.如权利要求7所述的真空干燥装置，其特征在于，所述底座(2)上设置有第二抽气通道(21)，所述第二抽气通道(21)的一端与所述制程腔室(3)连通，另一端与所述真空泵(4)连通。

9.如权利要求8所述的真空干燥装置，其特征在于，所述底座(2)上设置有多个第二抽气通道(21)，多个所述第二抽气通道(21)均匀分布于所述底座(2)上与所述制程腔室(3)相对的部位。

10.如权利要求9所述的真空干燥装置，其特征在于，所述底座(2)上设置有密封条(5)，所述密封条(5)夹设在所述上盖与所述底座(2)之间，且环设于所述制程凹槽(11)。

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