CN216539904U - 一种清洗装置和自动分析设备 - Google Patents

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CN216539904U CN202122411217.XU CN202122411217U CN216539904U CN 216539904 U CN216539904 U CN 216539904U CN 202122411217 U CN202122411217 U CN 202122411217U CN 216539904 U CN216539904 U CN 216539904U
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China
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cavity
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曹志平
李二圣
王长安
佘法停
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Shenzhen Mindray Bio Medical Electronics Co Ltd
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Abstract

本申请公开了一种清洗装置和自动分析设备,一种清洗装置,包括第一底壁及围绕第一底壁设置以形成清洗池的第一侧壁,还包括:第一清洗部,至少部分设置在清洗池内,第一清洗部包括上端开口的第一清洗腔,第一清洗部用于提供第一清洗模式;第二清洗部,至少部分设置在清洗池内,第二清洗部包括上端开口的第二清洗腔,用于提供与第一清洗模式不同的第二清洗模式;进液部,与第一清洗部和第二清洗部连接以用于向第一清洗腔和第二清洗腔供给清洗液,流经第一清洗腔的清洗液能够从第一清洗腔的上端开口排出,且至少部分从第一清洗腔的上端开口排出的清洗液能够流入清洗池内。本申请的清洗装置具有清洗效率高的优点。

Description

一种清洗装置和自动分析设备
技术领域
本申请属于医疗器械领域,尤其涉及一种清洗装置和自动分析设备。
背景技术
随着医疗相关技术的发展,逐渐使用自动样本分析设备对各种样品进行自动化检测。自动分析设备在工作的过程中需要使用采样针、试剂针和搅拌杆件等进行相应的采样、添加试剂和搅拌作业。其中,为了检测结果的准确度,需要放置采样针、试剂针和搅拌杆件等部件发生交叉污染。故而,自动分析设备还需要设置清洗孔,采样针、试剂针和搅拌杆件等每次作业后均需要作为待清洗物件及时在清洗孔内进行清洗。
相关技术中,一个清洗孔能够实现一种清洗模式。待清洗物件通常要先后移动至不同的清洗孔内进行清洗。然而,不同的清洗孔之间的距离较远,导致待清洗物件的清洗效率较低。
实用新型内容
本申请实施例提供一种清洗装置和自动分析设备,可以提高对待清洗物件的清洗效率。
第一方面,本申请实施例提供一种清洗装置,包括第一底壁及围绕所述第一底壁设置以形成清洗池的第一侧壁,还包括:
第一清洗部,至少部分设置在所述清洗池内,所述第一清洗部包括上端开口的第一清洗腔,所述第一清洗部用于提供第一清洗模式;
第二清洗部,至少部分设置在所述清洗池内,所述第二清洗部包括上端开口的第二清洗腔,用于提供与所述第一清洗模式不同的第二清洗模式;
进液部,与所述第一清洗部和所述第二清洗部连接以用于向所述第一清洗腔和所述第二清洗腔供给清洗液,所述第一清洗腔被配置为:流经所述第一清洗腔的清洗液能够从所述第一清洗腔的上端开口排出,且至少部分从所述第一清洗腔的上端开口排出的清洗液能够流入所述清洗池内;和
排液部,与所述清洗池连通以排出所述清洗池内的清洗液。
可选的,所述第一清洗腔的上端开口位于第一水平面,所述第二清洗腔的上端开口位于第二水平面;
其中,在沿所述清洗池的深度方向上,所述第二水平面不高于所述第一水平面,或者第一水平面和第二水平面大致齐平。
可选的,所述第一清洗腔被配置为:流经所述第一清洗腔的清洗液能够从所述第一清洗腔的上端开口排出,且至少部分从所述第一清洗腔的上端开口排出的清洗液能够从所述第二清洗腔的上端开口流入所述第二清洗腔内。
可选的,所述第二清洗部包括:
池座,包括安装孔;和
仿形块,与所述池座可拆卸连接,所述仿形块至少部分设置在所述安装孔内,所述仿形块设置有所述第二清洗腔。
可选的,所述池座包括第二底壁以及围绕所述第二底壁设置以形成所述安装孔的第二侧壁,所述第二侧壁设有至少一个第一进液口,所述进液部能够通过所述至少一个第一进液口向所述第二清洗腔供给清洗液。
可选的,所述仿形块包括朝向所述第二侧壁的第三侧壁,所述第三侧壁套设有两个相互间隔的密封圈,两个所述密封圈均抵接至所述第二侧壁,所述第三侧壁还设有若干与所述第二清洗腔连通的注液孔,每一所述注液孔位于两个所述密封圈之间;
所述第二侧壁设有与两个所述密封圈同轴设置的环形槽,所述第一进液口开设在所述环形槽的槽底,所述环形槽的槽口宽度大于所述密封圈的直径。
可选的,所述池座和所述仿形块螺纹连接。
可选的,所述清洗装置还包括设置在待清洗物件的预设路径上的弧形校准面,所述弧形校准面用于检测所述待清洗物件在所述第一清洗模式和所述第二清洗模式切换过程中的实际位置。
可选的,第一清洗模式包括浸泡清洗,所述第二清洗模式包括真空清洗。
可选的,所述清洗池包括:
第一排水通道,设置于所述第一清洗部和所述第二清洗部的同一侧;
第二排水通道,设置于所述第一清洗部和所述第二清洗部的另一侧,所述第二排水通道与所述排液部连通;和
第三排水通道,连通所述第一排水通道和所述第二排水通道;
其中,所述第一排水通道的清洗液能够流动至所述第三排水通道,所述第三排水通道的清洗液能够流动至所述第二排水通道。
第二方面,本申请实施例还提供一种自动分析设备,包括:
样本承载装置,用于承载样本,包括用于吸取和排放样本的采样针;
试剂承载装置,用于承载试剂,包括用于吸取和排放试剂的试剂针;
反应装置,用于供所述样本承载装置承载的所述样本和所述试剂承载装置承载的所述试剂反应;
混匀装置,包括有搅拌杆件,所述搅拌杆件用于搅拌混匀所述反应装置中的所述样本和所述试剂;和
清洗装置,为如第一方面任一项所述的清洗装置,所述清洗装置用于清洗所述采样针、所述试剂针和所述搅拌杆件的至少一个。
可选的,所述混匀装置还包括超声换能器,所述超声换能器与所述搅拌杆件连接,所述超声换能器用于驱动所述搅拌杆件发生高频震动。
本申请实施例中,第一清洗部和第二清洗部共同设置在同一清洗池内,能够对置于清洗池内的待清洗物件采用第一清洗模式清洗以及第二清洗模式清洗。实际操作过程中,待清洗物件在清洗池内需要进行第一清洗模式清洗和第二清洗模式清洗切换时可以直接在清洗池内操作。相比于将第二清洗部设置在清洗池外,本申请实施例能够大幅度缩减待清洗物件在进行不同清洗模式切换过程的移动行程,进而使得清洗装置的清洗效率得以提高。
附图说明
下面结合附图,通过对本申请的具体实施方式详细描述,将使本申请的技术方案及其有益效果显而易见。
图1为本申请实施例提供的自动分析设备的一种结构示意图。
图2为图1所示自动分析设备的清洗装置的结构示意图。
图3为图2所示清洗装置剖面示意图。
图4为图2所示清洗装置的部分零件***图。
图5为图2所示清洗装置取出仿形块后的结构示意图。
图6为图2所示清洗装置取出仿形块后的另一视角的结构示意图。
图7为图2所示清洗装置取出仿形块后的剖面示意图。
图8为图2所示清洗装置的仿形块的剖面示意图。
图9为图2所示清洗装置的一种第一进液口与密封圈的结构示意图。
图10为图2所示清洗装置的另一种第一进液口与密封圈的结构示意图。
图11为图2所示清洗装置中仿形块与池座装配过程中的其中一种中间状态示意图。
图12为图2所示清洗装置中仿形块与池座装配过程中的其中一种中间状态示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
请参考图1,图1为本申请实施例提供的自动分析设备的一种结构示意图。本申请实施例提供一种清洗装置100,用于为待清洗物件进行清洗,清洗装置100可以是单独使用的,也可以是运用于其他设备上的,本申请实施例对此不做限定。例如,清洗装置100可以运用与医疗设备中,清洗装置100所清洗的待清洗物件可以是加液针、采样针、超声针、搅拌杆等医用零部件,本申请实施例对此不做限定。
下面,以清洗装置100运用于自动分析设备为例,对本申请实施例的技术方案做进一步的解释和说明。
自动分析设备用于对各种医学样本进行自动检测和分析。自动分析设备可以包括样本承载装置200、试剂承载装置300、反应装置400、测定装置500、混匀装置600、清洗装置100和控制装置。
如图1所示,样本承载装置200用于承载样本,包括用于吸取和排放样本的采样针。试剂承载装置300用于承载试剂,包括用于吸取和排放试剂的试剂针。反应装置400用于供,样本承载装置200承载的样本和试剂承载装置300承载的试剂进行反应。混匀装置600包括有搅拌杆件,搅拌杆件用于搅拌混匀反应装置400中的样本和试剂。测定装置500用于检测反应装置400中样本与试剂的反应结果。清洗装置100用于清洗采样针、试剂针和搅拌杆件的至少一个。控制装置用于控制样本承载装置200、试剂承载装置300、反应装置400、测定装置500、混匀装置600和清洗装置100的操作与时序。
样本承载装置200可以包括样本存放机构21和样本取送机构22。样本存放机构21用于存放样本,样本取送机构22可以包括第一驱动机构和采样针。第一驱动机构受控制装置的控制,以使采样针能够在样本存放机构21、反应装置400和清洗装置100之间移动,进而使采样针能够将样本存放机构21处的样本移送至反应装置400中或者移动至清洗装置100处进行清洗。
如图1所示,试剂承载装置300可以包括试剂存放机构31和试剂取送机构32。试剂存放机构31用于存储检测过程中所需的试剂,试剂取送机构32包括试剂针和第二驱动机构,第二驱动机构受控制装置的控制,以使试剂针能够在试剂存放机构31、反应装置400和清洗装置100之间移动,进而使试剂针能够将试剂存放机构31处的试剂移送至反应装置400中或者移动至清洗装置100处进行清洗。
反应装置400可以包括反应杯、反应盘等用于承载样本和试剂的反应容器,以供样本和试剂进行反应。
混匀装置600可包括第三驱动机构超声换能器和搅拌杆件。超声换能器与搅拌杆件连接。故而,当超声换能器连接电源后,可以驱动搅拌杆件发生高频震动。搅拌杆件通过高频震动搅拌反应装置400中的样本和试剂,以使样本和试剂混合均匀。第三驱动机构受控制装置的控制而驱动超声换能器和搅拌杆件在反应装置400和清洗装置100之间移动,以使搅拌杆件能够在反应装置400中进行搅拌或者移动至清洗装置100处进行清洗。
请参考图2,图2为图1所示自动分析设备的清洗装置的结构示意图。清洗装置100可以包括清洗池11、第一清洗部12、第二清洗部13、进液部14和排液部15。
示例性的,如图2所示,清洗装置100包括第一底壁111和围绕第一底壁111设置以形成清洗池11的第一侧壁112。第一清洗部12至少部分设置在清洗池11内。第一清洗部12包括上端开口的第一清洗腔121。进而,待清洗物件可以自上往下***第一清洗腔121中,由第一清洗部12为待清洗物件提供第一种清洗模式。第二清洗部13至少部分设置在清洗池11内,第二清洗部13包括上端开口的第二清洗腔131。进而,待清洗物件可以自上往下***第二清洗腔131中,由第二清洗部13为待清洗物件提供第二种清洗模式,第二种清洗模式和第一种清洗模式不同。进液部14与第一清洗部12和第二清洗部13连接以用于向第一清洗腔121和第二清洗腔131供给清洗液。进而,使得第一清洗部12和第二清洗部13通过进液部14供给的清洗液分别对待清洗物件完成第一清洗模式和第二清洗模式的清洗作业。其中,第一清洗腔121被配置为:流经第一清洗腔121的清洗液能够从第一清洗腔121的上端开口排出,且至少部分从第一清洗腔121的上端开口排出的清洗液能够流入清洗池11内。排液部15与清洗池11连通以排出清洗池11内的清洗液。
由于第一清洗腔121上端开口排出清洗液的排液量较大,故而为了防止流入清洗池11内的清洗液外溢,清洗池11的整体体积也较大。若将第二清洗部13设置在清洗池11以外的区域中,会使得第一清洗部12和第二清洗部13的间距较远。故而,待清洗物件在第一清洗模式和第二清洗模式切换时,待清洗物件需要移动的行程较长,较长的行程导致了清洗装置100的清洗效率较低。
可以理解的是,在本申请实施例的一种实施方式中,如图2所示,由于第二清洗部13和第一清洗部12均设置在清洗池11内,使得待清洗物件在第一清洗模式和第二清洗模式切换的过程中,待清洗物件的移动行程可以大幅度缩减,进而使得清洗装置100的清洗效率得以提高。另一方面,也使得清洗装置100的结构更加紧凑、整体占用空间更少。
为了进一步缩小待清洗物件在第一清洗模式和第二清洗模式切换过程中的行程,第一清洗部12可以和第二清洗部13相连。当然,在一些实施方式中,第一清洗部12和第二清洗部13之间也可以是具有预设的间隙,本申请实施例对此不作限定。
如图2所示,第一清洗腔121的上端开口位于第一水平面,第一清洗部12还包括在第一水平面内环绕第一清洗腔121的上端开口设置的第一端面122。第二清洗腔131的上端开口位于第二水平面,第二清洗部13还包括在第二水平面内环绕第二清洗腔131设置的第二端面132。
可以理解的是,若第一水平面低于第二水平面,且第一水平面和第二水平面的高度差较大时,第一端面122低于第二端面132,并且第一端面122和第二端面132的高度差较大。而在第一端面122处排出的清洗液会在第一端面122上小幅度地翻涌。其中,翻涌的清洗液大部分无法达到第二端面132的高度,仅有少量的清洗液会不规则地翻涌至第二端面132或者溅射至第二端面132的不同位置。该少量的清洗液会残留在第二端面132后干固形成结晶,进而影响清洗装置100的美观度和清洁性。
在第二端面132已经形成少量结晶的基础上,当少量的清洗液溅射到已形成的结晶表面后,清洗液会沿着结晶的表面无规则地四散漫溢后干固,使得第二端面132的结晶面积和体积均逐渐增大,直至结晶和/或清洗液蔓延至清洗池11以外的区域。而医用设备的清洗液又通常具有一定的腐蚀作用,导致清洗液溢出清洗池11后容易对清洗池11外的物体或者人体造成损伤。
在实际的作业过程中,待清洗物件表面附着的清洗液或者其他液体在待清洗物件移动的过程中也可能滴落至第二端面132后干固形成结晶。
为了减少第二端面132甚至消除第二端面132处形成结晶带来的影响,在本申请实施例中,第一清洗腔121被配置为:流经第一清洗腔121的清洗液能够从第一清洗腔121的上端开口排出,且至少部分从第一清洗腔121的上端开口排出的清洗液能够从第二清洗腔131的上端开口流入第二清洗腔131内。
故而,如图2所示,至少部分从第一清洗腔121上端开口排出的清洗液能够顺次流经第一端面122和第二端面132后流入第二清洗腔131内。进而,从第一清洗腔121上端开口排出的清洗液能够冲洗第二端面132,以避免清洗液在第二端面132处干固形成结晶。即使第二端面132上形成有少量的结晶,在下一次对待清洗物件进行清洗的过程中,从第一清洗腔121上端开口排出的清洗液会再次冲洗第二端面132,以使第二端面132处形成的结晶被冲洗掉。
示例性的,在清洗池11深度的方向上,第一水平面与第二水平面大致齐平,即第一端面122和第二端面132大致齐平。例如,第一端面122和第二端面132恰好齐平。或者,在预设定中第一端面122和第二端面132齐平,但由于制造工艺精度的不足,使得第二端面132略高于第一端面122。此时,至少部分从第一清洗腔121上端开口排出的清洗液可以冲洗第二端面132后流入清洗池11和/或第二清洗腔131内。
可替换的,在清洗池11深度的方向上,第二水平面不高于所述第一水平面,即第二端面132不高于第一端面122。故而,当在清洗的过程中,至少部分从第一清洗腔121上端开口排出的清洗液会受重力作用而自然地流动至第二端面132,以持续地对第二端面132进行冲洗。最后冲洗第二端面132的清洗液由第二端面132流入清洗池11和/或第二清洗腔131内。
在一些实施方式中,可以是第一端面122和第二端面132为台阶状,第一端面122和第二端面132相互平行,且第一端面122和第二端面132之间通过一个中间连接面连接。可选的,也可以是第一端面122和第二端面132是齐平且直接相连的,本申请实施例对此不做限定。
第二清洗部13提供的第二清洗模式可以是浸泡清洗、超声清洗、喷淋清洗或者真空清洗等,本申请实施例对此不做限定。
下面以第二清洗模式是真空清洗为例,对本申请实施例提供的技术方案做进一步的解释和说明。
请参考图3,图3为图2所示清洗装置剖面示意图。第二清洗腔131为上下两端开口结构。排液部15可以包括有第二排液通道151。第二排液通道151的一端与第二清洗腔131的下端开口连通,第二排液通道151的另一端与第二排液接头152连通。此时,第二排液接头152可以连接有负压装置,负压装置顺次通过第二排液接头152和第二排液通道151持续抽取第二清洗腔131内的空气和/或清洗液,使得第二清洗腔131内形成一个低真空状态。进而,第二清洗腔131内形成一个负压。此时,进液部14注入第二清洗腔131内的清洗液形受负压的作用产生较大的、且向下的冲洗力,以将待清洗物件的侧壁上的脏污冲落。最后,喷淋完待清洗物件的清洗液顺次流经第二清洗腔131的下端开口、第二排液通道151和第二排液接头152后背负压装置抽走。
可以理解的是,本申请实施例中通过负压装置抽取第二清洗腔131内的空气和/或清洗液,可以增加清洗液对待清洗物件的冲洗力度,进而提高第二清洗腔131内清洗液对待清洗物件的清洗效果。
请参考图4-图8,图4为图2所示清洗装置的部分零件***图,图5为图2所示清洗装置取出仿形块后的结构示意图,图6为图2所示清洗装置取出仿形块后的另一视角的结构示意图,图7为图2所示清洗装置取出仿形块后的剖面示意图,图8为图2所示清洗装置的仿形块的剖面示意图。
如图4所示,为了降低第二清洗部13损坏时的维护成本,第二清洗部13可以包括池座13a及与池座13a可拆卸连接的仿形块13b。示例性的,池座13a可以包括安装孔133,仿形块13b至少部分设置在安装孔133内。例如,由于制造公差或者装配公差等问题,预设定仿形块13b应当完全设置在安装孔133内,但是安装后仿形块13b却部分突出安装孔133外。第二清洗腔131设置在仿形块13b中。
可以理解的是,在后期使用的过程中当第二清洗腔131出现损坏时,若池座13a和仿形块13b是一体成型的,会导致清洗装置100的更换成本较高。而在本申请实施例中,若第二清洗腔131出现损坏时,只需更换仿形块13b即可。由此可见,本申请实施例提供的清洗装置100具有维护成本低的优点。
在一些实施例中,仿形块13b可以是通过紧固件(图中未示出)与池座13a形成可拆卸连接的,紧固件可以是螺丝、卡扣、磁吸部件等。
可替换的,仿形块13b与池座13a的拆卸方式可以是仿形块13b与池座13a之间螺纹连接。示例性的,如图6所示,池座13a包括第二底壁134以及围绕第二底壁134设置以形成安装孔133的第二侧壁135。第二侧壁135远离安装孔133的一端设置有内螺纹1351。如图7所示,仿形块13b包括朝向第二侧壁135的第三侧壁136,第三侧壁136设置有与内螺纹1351旋接的外螺纹1361。
当然,仿形块13b可同时即通过紧固件与池座13a形成可拆卸连接、又通过螺纹连接的方式与池座13a形成可拆卸连接,本申请实施例对此不作限定。
还可以理解的是,由于医疗设备的清洗液通常对特定材质的物体具有腐蚀性。故而,紧固件、池座13a和仿形块13b均可以采用不被清洗液侵蚀的材料制成。例如,当清洗液是对金属具有腐蚀性的分离液时,紧固件、池座13a和仿形块13b可以采用非金属材料如PMMA(polymethyl methacrylate,聚甲基丙烯酸甲酯)、POM(polyformaldehyde,聚甲醛)或者陶瓷材料制成。
如图7所示,池座13a的第二侧壁135设有至少一个第一进液口1352。相应的,进液部14可以设置有至少一个第一进液通道141。至少一个第一进液通道141和至少一个第一进液口1352一一匹配并连通。进而,当第二侧壁135上设置有多个第一进液口1352时,进液部14可选择地通过不同的第一进液通道141及与之连通的第一进液口1352向第二清洗腔131内注射不同类型的清洗液。例如,进液部14可以向第二清洗腔131内供给一种清洗液,进液部14也可以同时向第二清洗腔131内供给两种、三种或者四种清洗液,本申请实施例对此不做限定。由此可见,本申请实施例提供的清洗装置100可以向第二清洗腔131供给不同的清洗液,故而具有清洗功能丰富的优点。
如图7所示,第一进液通道141的进液端可以连接有第一接液接头143,以便于第一进液通道141和其他的管道连接。
如图8所示,仿形块13b的第三侧壁136套设有两个相互间隔的密封圈137。两个密封圈137高低错位,且均抵接至第二侧壁135,以使第二侧壁135、第三侧壁136和两个密封圈137之间形成环绕第二清洗腔131设置的环状储液腔。其中,第一进液口1352位于两个密封圈137之间,以使进液部14能够顺次通过第一进液通道141和第一进液口1352向储液腔内供给清洗液。其中,第二侧壁135上设置有若干个注液孔1362,若干个注液孔1362均设置在两个密封圈137之间,并连通储液腔和第二清洗腔131,以使储液腔内的清洗液能够从注液孔1362注入第二清洗腔131内的预设位置。
如图8所示,若干个注液孔1362沿第二清洗腔131的周向均匀布置,以使待清洗物件的侧壁各处均能得到较好的冲洗效果。
可以理解的是,本申请实施例的清洗装置100通过调节注液孔1362的数量和排布位置可以对***第二清洗腔131内的待清洗物件的不同位置喷淋清洗液。进而,清洗装置100可以实现对待清洗物件的预设位置和/或预设角度的冲洗作业。由此可见,本申请实施例提供的清洗装置100具有清洗效果好的优点。
另一方面,还可以理解的是,若池座13a和仿形块13b是一体成型的,成型出储液腔、注液孔1362等结构的难度和成本较大。而在本申请实施例中,可以先后成型池座13a和仿形块13b,再由池座13a和仿形块13b安装组成以降低加工的难度和成本。
可选的,注液孔1362可以是与水平面倾斜设置的。例如,注液孔1362靠近第一清洗腔121轴心线的一端向上倾斜,以使从注液孔1362注射至第二清洗腔131的清洗液可以倾斜向上地冲洗待清洗物件的侧壁。或者,如图8所示,注液孔1362靠近第一清洗腔121轴心线的一端向下倾斜,以使从注液孔1362注射至第二清洗腔131的清洗液可以倾斜向下地冲洗待清洗物件的侧壁。当然,注液孔1362也可以是平行于水平面设置的,本申请实施例对此不作限定。
请参考图9,图9为图2所示清洗装置的一种第一进液口与密封圈的结构示意图。
可以理解的是,在组装仿形块13b与池座13a的过程中,仿形块13b是自上往下置入安装孔133内的。位于仿形块13b下端的密封圈137会从第一进液口1352的上方移动至第一进液口1352的下方。在此过程中,位于仿形块13b下端的密封圈137经过第一进液口1352以外的区域时会被第三侧壁136和第二侧壁135挤压变形而形成密封。位于仿形块13b下端的密封圈137经过第一进液口1352时,第一进液口1352形成了避让空间使得位于仿形块13b下端的密封圈137可以发生一定程度的复原而部分挤入第一进液口1352内。此时,当位于仿形块13b下端的密封圈137继续下行时可以视作该密封圈137的一部分被形成第一进液口1352的侧壁夹持,另一部分被仿形块13b推动下行,进而导致位于仿形块13b下端的密封圈137容易局部被撕裂。
请参考图10-图12,图10为图2所示清洗装置的另一种第一进液口与密封圈的结构示意图。图11为图2所示清洗装置中仿形块与池座装配过程中的其中一种中间状态示意图,图12为图2所示清洗装置中仿形块与池座装配过程中的其中一种中间状态示意图。
为了防止位于仿形块13b下端的密封圈137挤入第一进液口1352中,第二侧壁135设有与两个密封圈137同轴设置的环形槽1353,第一进液口1352开设在环形槽1353的槽底。并且,环形槽1353的槽口宽度大于密封圈137的直径。故而,位于仿形块13b下端的密封圈137在经过环形槽1353时,不会因局部被形成环形槽1353的侧壁夹持而出现局部撕裂。由此可见,本申请实施例提供的清洗装置100不仅提高了密封圈137的密封效果,还能有效提高密封圈137的使用寿命。
如图10所示,形成环形槽1353的侧壁与第二侧壁135的连接处设置有倒角。故而,在拆装的仿形块13b的过程中,可以减小位于仿形块13b下端的密封圈137自环形槽1353内移动至环形槽1353外的阻尼。该倒角形成的倒角面与第二侧壁135之间的夹角可以是20°-45°,例如该倒角形成的倒角面与第二侧壁135之间的夹角可以是30°。
第一清洗部12提供的第一清洗模式可以是浸泡清洗、超声清洗、喷淋清洗或者真空清洗等,本申请实施例对此不做限定。
下面以第一清洗模式是浸泡清洗为例,对本申请实施例提供的技术方案做进一步的解释和说明。
如图2所示,第一清洗腔121为圆柱状腔体。进液部14可以包括第二进液通道142。第二进液通道142能够沿第一方向朝向第一清洗腔121注入清洗液。第一方向与第一清洗腔121的轴心线异面且不垂直,以使经过第二进液通道142注入第一清洗腔121的清洗液能够形成螺旋向上的涡流。故而,当待清洗物件自上往下***第一清洗腔121后,待清洗物件可以浸泡在第一清洗腔121内自下而上的涡流中,由该涡流清洗待清洗物件的侧壁和底端面。
第二进液通道142可以设置为一个、两个或者三个,本申请实施例对此不作限定。进而,进液部14可以选择地通过不同的第二进液通道142向第一清洗腔121内注射不同类型的清洗液。例如,进液部14可以向第一清洗腔121内供给一种清洗液,进液部14也可以同时向第一清洗腔121内供给两种、三种或者四种清洗液,本申请实施例对此不做限定。由此可见,本申请实施例提供的清洗装置100可以向第一清洗腔121供给不同的清洗液,故而具有清洗功能丰富的优点。
如图2所示,第二进液通道142的进液端可以连接有第二进液接头144,以便于第二进液通道142与其他的管道连接。
可以理解的是,待清洗物件通常是被相应的驱动机构夹持后在移动至不同位置进行清洗或者完成相应作业的。但是长期使用后,由于各零部件的磨损、装配公差等会累积形成一定的形位公差。故而,在待清洗物件的实际位置与预设位置会存在偏差。该偏差可能会造成待清洗物件的清洗或者工作的过程中与其他零件发生干涉。
例如,当待清洗物件为搅拌杆件时,为了进一步提高搅拌杆件在浸泡清洗时的效果,超声换能器会驱动搅拌杆件发生高频震动。此时,若是搅拌杆件的实际位置与预设位置存在偏差,搅拌杆件震动时可能与形成第一清洗腔121的侧壁发生碰撞而导致搅拌杆件断裂。
故而,为了可以校准待清洗物件的实际位置,如图6所示,清洗装置100还包括设置在待清洗物的预设路径上的弧形校准面16,弧形校准面16用于检测搅拌杆件的在第一清洗模式和第二清洗模式切换过程中的实际位置。
示例性的,第一清洗腔121和第二清洗腔131的轴心线相互平行。驱动机构驱动带清洗物件自第二清洗腔131垂直向上退出第二清洗腔131后,待清洗物件先绕一弧形路径移动至第二清洗腔131的正上方,最后待清洗物件自上往下***第一清洗腔121中。该弧形路径即为上述的预设路径。此时,弧形校准面16可以位于该预设路径的正下方,即弧形校准面16的轴心线垂直于该弧形路径。故而,在当待清洗物件在上述预设路径移动的过程中,可以下行至弧形校准面16处与弧形校准面16相互接触而产生一个接触信号。此时自动分析设备的控制装置可以根据该接触信号的产生判断待清洗物件的已经到达了特定位置,进而确定待清洗物件的实际位置,并相应调整待清洗物件后续的行程路线。
示例性的,待清洗物件可以是搅拌杆件。当超声换能器驱动搅拌杆件发生高频震动时,搅拌杆件与弧形校准面16接触后会产生电信号。当然,在其他的一些实施方式中,也可以是弧形校准面16上设有红外传感器、触碰开关等用于检测待清洗物件的结构,本申请实施例对弧形校准面16检测待清洗物件的实际位置的方式不做限定。
可选的,如图6所示,清洗池11包括第一排水通道113、第二排水通道114和第三排水通道115。第一排水通道113设置于第一清洗部12和第二清洗部13的同一侧。第二排水通道114设置于第一清洗部12和第二清洗部13的另一侧,第二排水通道114与排液部15连通。第三排水通道115连通第一排水通道113和第二排水通道114。其中,第一排水通道113的清洗液能够受重力作用流动至第三排水通道115,第三排水通道115的清洗液能够受重力作用流动至第二排水通道114。
示例性的,如图5所示,第一底壁111可以包括有用于形成第一排水通道113的第一底面1111、用于形成第二排水通道114的第二底面1112和用于形成第三排水通道115的第三底面1113形成。
如图5所示,第一底面1111可以与水平面倾斜设置,第一底面1111靠近第三底面1113的端部的水平高度低于第一底面1111远离第三底面1113的端部的高度,以使第一排水通道113内的清洗液能够受重力作用而流入第三排水通道115中。具体的,第一底面1111与水平面的夹角可以是10°-30°,如25°。
可选的,第一底面1111可以是斜面也可以是弧面,还可以是斜面与弧面的组合,本申请实施例对此不做限定。
第三底面1113可以与水平面倾斜设置,第三底面1113靠近第二底面1112的端部的水平高度低于第三底面1113远离第二底面1112的端部的高度,以使第三排水通道115内的清洗液能够受重力作用而流入第二排水通道114中,最后第二排水通道114内的清洗液从排液部15排出。具体的,第一底面1111与水平面的夹角可以是10°-30°,如25°。
可选的,第三底面1113可以是斜面也可以是弧面,还可以是斜面与弧面的组合,本申请实施例对此不做限定。
如图5所示,排液部15可以包括设置于第二底面1112的蓄水池153,蓄水池153与第三排水通道115连通,进而蓄水池153可以作为辅助结构增大清洗池11的蓄水量,以降低清洗池11内的清洗液漫溢的风险。
排液部15还可包括第一排液通道154和第一排液接头155。第一排液通道154的上端和蓄水池153连通,第一排液通道154的下端和第一排液接头155连通。进而,清洗池11内的清洗液可以顺次通过蓄水池153、第一排液通道154和第一排液接头155后排出。
如图4所示,排液部15还可以与底板17连接固定,以使清洗装置100能够通过底板17安装固定至自动分析设备上。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的清洗装置和自动分析设备进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想;同时,对于本领域的技术人员,依据本申请的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上,本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (12)

1.一种清洗装置,其特征在于,包括第一底壁及围绕所述第一底壁设置以形成清洗池的第一侧壁,还包括:
第一清洗部,至少部分设置在所述清洗池内,所述第一清洗部包括上端开口的第一清洗腔,所述第一清洗部用于提供第一清洗模式;
第二清洗部,至少部分设置在所述清洗池内,所述第二清洗部包括上端开口的第二清洗腔,用于提供与所述第一清洗模式不同的第二清洗模式;
进液部,与所述第一清洗部和所述第二清洗部连接以用于向所述第一清洗腔和所述第二清洗腔供给清洗液,所述第一清洗腔被配置为:流经所述第一清洗腔的清洗液能够从所述第一清洗腔的上端开口排出,且至少部分从所述第一清洗腔的上端开口排出的清洗液能够流入所述清洗池内;和
排液部,与所述清洗池连通以排出所述清洗池内的清洗液。
2.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述第一清洗腔的上端开口位于第一水平面,所述第二清洗腔的上端开口位于第二水平面;
其中,在沿所述清洗池的深度方向上,所述第二水平面不高于所述第一水平面,或者第一水平面和第二水平面大致齐平。
3.根据权利要求1-2任一所述的清洗装置,其特征在于,所述第一清洗腔被配置为:流经所述第一清洗腔的清洗液能够从所述第一清洗腔的上端开口排出,且至少部分从所述第一清洗腔的上端开口排出的清洗液能够从所述第二清洗腔的上端开口流入所述第二清洗腔内。
4.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述第二清洗部包括:
池座,包括安装孔;和
仿形块,与所述池座可拆卸连接,所述仿形块至少部分设置在所述安装孔内,所述仿形块设置有所述第二清洗腔。
5.根据权利要求4所述的清洗装置,其特征在于,所述池座包括第二底壁以及围绕所述第二底壁设置以形成所述安装孔的第二侧壁,所述第二侧壁设有至少一个第一进液口,所述进液部能够通过所述至少一个第一进液口向所述第二清洗腔供给清洗液。
6.根据权利要求5所述的清洗装置,其特征在于,所述仿形块包括朝向所述第二侧壁的第三侧壁,所述第三侧壁套设有两个相互间隔的密封圈,两个所述密封圈均抵接至所述第二侧壁,所述第三侧壁还设有若干与所述第二清洗腔连通的注液孔,每一所述注液孔位于两个所述密封圈之间;
所述第二侧壁设有与两个所述密封圈同轴设置的环形槽,所述第一进液口开设在所述环形槽的槽底,所述环形槽的槽口宽度大于所述密封圈的直径。
7.根据权利要求4所述的清洗装置,其特征在于,所述池座和所述仿形块螺纹连接。
8.根据权利要求1-7任一项所述的清洗装置,其特征在于,所述清洗装置还包括设置在待清洗物件的预设路径上的弧形校准面,所述弧形校准面用于检测所述待清洗物件在所述第一清洗模式和所述第二清洗模式切换过程中的实际位置。
9.根据权利要求1-7任一项所述的清洗装置,其特征在于,第一清洗模式包括浸泡清洗,所述第二清洗模式包括真空清洗。
10.根据权利要求1-7任一项所述的清洗装置,其特征在于,所述清洗池包括:
第一排水通道,设置于所述第一清洗部和所述第二清洗部的同一侧;
第二排水通道,设置于所述第一清洗部和所述第二清洗部的另一侧,所述第二排水通道与所述排液部连通;和
第三排水通道,连通所述第一排水通道和所述第二排水通道;
其中,所述第一排水通道的清洗液能够流动至所述第三排水通道,所述第三排水通道的清洗液能够流动至所述第二排水通道。
11.一种自动分析设备,其特征在于,包括:
样本承载装置,用于承载样本,包括用于吸取和排放样本的采样针;
试剂承载装置,用于承载试剂,包括用于吸取和排放试剂的试剂针;
反应装置,用于供所述样本承载装置承载的所述样本和所述试剂承载装置承载的所述试剂反应;
混匀装置,包括有搅拌杆件,所述搅拌杆件用于搅拌混匀所述反应装置中的所述样本和所述试剂;和
清洗装置,为如权利要求1-10任一项所述的清洗装置,所述清洗装置用于清洗所述采样针、所述试剂针和所述搅拌杆件的至少一个。
12.根据权利要求11所述的自动分析设备,其特征在于,所述混匀装置还包括超声换能器,所述超声换能器与所述搅拌杆件连接,所述超声换能器用于驱动所述搅拌杆件发生高频震动。
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