CN215420357U - 一种炫彩手机后盖 - Google Patents

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顾正
陈栋
包锦枫
胡振华
赵章林
唐明虎
邵宜健
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Abstract

本实用新型公开了一种炫彩手机后盖,包括后盖,其特征在于:所述后盖包括依次复合的基材层、炫彩层、表面处理层和HC层;所述基材层包括碳纤层,所述碳纤层处开设有镂空位;所述镂空位与手机信号设备位置相对应;所述基材层与炫彩层之间还设置有用于遮挡基材层内碳纤层及玻纤层编织纹路的打底层;所述炫彩层包括依次复合的高光颜色层、UV转印层以及镀膜层。通过使用玻纤、碳纤材料的同时有效的遮蔽其编织纹路,还可以防止电磁屏蔽。

Description

一种炫彩手机后盖
技术领域
本实用新型涉及一种手机后盖领域,尤其是一种炫彩手机后盖。
背景技术
随着生活生活水平的提高,消费者对电子消费品的体验提出了新的要求。电子消费品,特别是手机,为了提升握感以及便携,消费者都需要轻薄化的产品。轻量化、高强度的玻纤、碳纤材料正是在此背景下备受关注,然而玻纤、碳纤材料成型后表面有明显的编织纹路,如何实现其表面装饰以实现手机后盖多元化成为了业内工程师的一大难题。
碳纤材料机械性能更高于玻纤,但是碳纤会造成手机信号的电磁屏蔽问题,如何在手机上使用碳纤材料也是一个很大的难题。
发明内容
本实用新型的目的就是解决现有技术中的问题,提出一种炫彩手机后盖,能够在使用玻纤、碳纤材料的同时有效的遮蔽其编织纹路,还可以防止电磁屏蔽。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种炫彩手机后盖,包括后盖,其特征在于:所述后盖包括依次复合的基材层、炫彩层、表面处理层和HC层;所述基材层包括碳纤层,所述碳纤层处开设有镂空位;所述镂空位与手机信号设备位置相对应;所述基材层与炫彩层之间还设置有用于遮挡基材层内碳纤层及玻纤层编织纹路的打底层;所述炫彩层包括依次复合的高光颜色层、UV转印层以及镀膜层。
作为优选:所述基材层内还包括有玻纤层,所述玻纤层设置于镂空位内。
作为优选:所述玻纤层形状与镂空位相对应,且该玻纤层边缘与镂空位边缘相贴合。
作为优选:所述基材层还包括有第二玻纤层,该述第二玻纤层与碳纤层相复合,该玻纤层设置于镂空位内。
作为优选:所述打底层为涂料层,厚度为10-40μm。
作为优选:所述高光颜色层为高光颜色涂料,厚度为5-20μm。
作为优选:所述UV转印层为UV胶,厚度为5-15μm。
作为优选:所述镀膜层为光学镀膜,厚度为20-800nm。
作为优选:所述表面处理层为保护镀膜层的涂料,厚度为2-10μm。
作为优选:所述HC层为高硬度高耐磨的淋涂液层,厚度为2-10μm。
作为优选:所述基材层厚度为0.2-1.5mm。
本实用新型的有益效果是:
1、实现将玻纤和碳纤应用在手机后盖上,实现了手机后盖的轻量化和高强度。
2、通过打底层的设置很好的将玻纤、碳纤材料成型后表面有明显的编织纹路进行遮挡。
3、通过在碳纤上设置镂空位,且该镂空位适配手机2G、3G、4G、5G信号设备的位置,这样可以防止电磁屏蔽。
4、在打底层上通过高光颜色层、UV转印层以及镀膜层形成炫彩效果,在使用玻纤、碳纤材料的手机后盖上显示炫彩效果。
5、通过玻纤和碳纤材料的共同使用,使得手机后盖具备强力学性能。
6、通过基材层、打底层、炫彩层、表面处理层和HC层来形成手机后盖,通过上述各层复合形成的手机后盖,进一步提升手机后盖的力学性能。
附图说明
图1为本实用新型实施例一的后盖示意图;
图2为本实用新型实施例一的后盖结构示意图;
图3为本实用新型实施例五的基材层结构示意图;
图4为本实用新型实施例一的基材层结构示意图;
图5为本实用新型实施例四的基材层结构示意图。
图中,1后盖、11HC层、12表面处理层、13镀膜层、14UV转印层、15高光颜色层、16打底层、17基材层、171碳纤层、1711镂空位、172玻纤层、173第二玻纤层。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步描述:
实施例一:
如图1、2和4所示,本实施例包括后盖1,后盖1包括依次复合的基材层17、炫彩层、表面处理层12和HC层11,其中各个层大小均相适配。
其中基材层17包括碳纤层171和玻纤层172,碳纤层171处开设有镂空位1711,镂空位1711 与手机信号设备位置相对应,玻纤层172设置在镂空位1711内且大小与镂空位1711相适配,具体的玻纤层172由玻纤毡构成,碳纤层171由碳纤布构成,玻纤毡形状与镂空位1711相对应,且该玻纤毡边缘与镂空位1711边缘相贴合。
其中如图4所示,碳纤层171处上下两端分别开设有镂空位1711,该镂空位1711内放置有玻纤毡,在通过模压成型机对拼接件进行模压成型,支撑玻纤/碳纤复合材料,既形成基材层17。
其中基材层17与炫彩层之间还设置有用于遮挡基材层17内碳纤层171及玻纤层172编织纹路的打底层16。
炫彩层包括依次复合的高光颜色层15、UV转印层14以及镀膜层13。
其中基材层17材料为2D或3D成型的玻纤/碳纤复合材料,厚度为0.2mm;打底层16为涂料层,厚度为10μm;高光颜色层15为高光颜色涂料,厚度为5μm;UV转印层14为UV胶,厚度为5μm;镀膜层13为光学镀膜,厚度为20nm;表面处理层12为保护镀膜层13的涂料,厚度为2μm;HC层11为高硬度高耐磨的淋涂液层,厚度为2μm;
通过上述对各个层厚度进行限定,可以实现手机厚度的控制,达到轻薄化手机后盖1的目的。
其中镂空位1711成梯形状,这样的形状有利于玻纤毡的裁切和放置,其中镂空位1711为两个分别设置上下分离设置,其中一个手机信号设备相对应,这样减少碳纤布总体的占比,近一步减少碳纤布带来的电磁屏蔽,同时将碳纤布和玻纤毡进行结合,保证力学性能。
其中一个设置于摄像头孔一侧,既避开摄像头孔位置设置,这样可以使在整个基底材料进行摄像头孔开孔时,不会将摄像头孔开设在玻纤和碳纤的结合部位,有利于整体结构的力学性能。
实施例二:
本实施例中与实施例一的区别在于:基材层17材料为2D或3D成型的玻纤/碳纤复合材料,厚度为1.5mm;打底层16为涂料层,厚度为40μm;高光颜色层15为高光颜色涂料,厚度为20μm; UV转印层14为UV胶,厚度为15μm;镀膜层13为光学镀膜,厚度为800nm;表面处理层12 为保护镀膜层13的涂料,厚度为10μm;HC层11为高硬度高耐磨的淋涂液层,厚度为10μm。
通过上述对各个层厚度进行限定,可以实现手机厚度的控制,达到轻薄化手机后盖1的目的。
实施例三:
本实施例中与实施例一的区别在于:基材层17材料为2D或3D成型的玻纤/碳纤复合材料,厚度为1mm;打底层16为涂料层,厚度为25μm;高光颜色层15为高光颜色涂料,厚度为25μm; UV转印层14为UV胶,厚度为10μm;镀膜层13为光学镀膜,厚度为300nm;表面处理层12为保护镀膜层13的涂料,厚度为6μm;HC层11为高硬度高耐磨的淋涂液层,厚度为6μm。
通过上述对各个层厚度进行限定,可以实现手机厚度的控制,达到轻薄化手机后盖1的目的。
实施例四:
本实施例与实施例一的区别在于基材层17的不同:
其中如图5所示,具体的基材层17包括有玻纤层172、碳纤层171和第二玻纤层173,该第二玻纤层173与碳纤层171相复合,该玻纤层172设置于镂空位1711内,玻纤层172设置在镂空位1711内且大小与镂空位1711相适配,具体的玻纤层172和第二玻纤层173由玻纤毡构成,碳纤层171由碳纤布构成,玻纤层172形状与镂空位1711相对应,且玻纤层172边缘与镂空位1711边缘相贴合。
通过碳纤层171和第二玻纤层173相复合形成基材层17,这样可以进一步部提升力学性能,同时通过玻纤层172将镂空位1711填满,且玻纤层172的上下表面与碳纤层171的表面平齐,这样可以更有利于模压成型机对其压膜形成,这样压膜成型的基材层17,不会在镂空位1711处形成下陷,保证基材层17整体的结构的稳定。
实施例五:
本实施例与实施例一的区别在于基材层17的不同:
其中如图3所示,具体的基材层17包括碳纤层171,碳纤层171处开设有镂空位1711,该镂空位1711与手机信号设备位置相对应,且碳纤层171由碳纤布构成,再将该带有镂空位1711的碳纤布直接进行模压成型,形成碳纤层171,这样手机信号设备可以通过镂空位1711直接传输信号,防止电磁屏蔽,同时采用碳纤层171,使得比传统的提升了力学性能。
上述实施例是对本实用新型的说明,不是对本实用新型的限定,任何对本实用新型简单变换后的方案均属于本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种炫彩手机后盖,包括后盖,其特征在于:所述后盖包括依次复合的基材层、炫彩层、表面处理层和HC层;
所述基材层包括碳纤层,所述碳纤层处开设有镂空位;所述镂空位与手机信号设备位置相对应;
所述基材层与炫彩层之间还设置有用于遮挡基材层内碳纤层及玻纤层编织纹路的打底层;
所述炫彩层包括依次复合的高光颜色层、UV转印层以及镀膜层。
2.根据权利要求1所述的一种炫彩手机后盖,其特征是在于:所述基材层内还包括有玻纤层,所述玻纤层设置于镂空位内。
3.根据权利要求2所述的一种炫彩手机后盖,其特征是在于:所述玻纤层形状与镂空位相对应,且该玻纤层边缘与镂空位边缘相贴合。
4.根据权利要求1所述的一种炫彩手机后盖,其特征是在于:所述基材层还包括有第二玻纤层,该述第二玻纤层与碳纤层相复合,该玻纤层设置于镂空位内。
5.根据权利要求1所述的一种炫彩手机后盖,其特征是在于:所述打底层为涂料层,厚度为10-40μm。
6.根据权利要求1所述的一种炫彩手机后盖,其特征是在于:所述高光颜色层为高光颜色涂料,厚度为5-20μm。
7.根据权利要求1所述的一种炫彩手机后盖,其特征是在于:所述UV转印层为UV胶,厚度为5-15μm。
8.根据权利要求1所述的一种炫彩手机后盖,其特征是在于:所述镀膜层为光学镀膜,厚度为20-800nm。
9.根据权利要求1所述的一种炫彩手机后盖,其特征是在于:所述表面处理层为保护镀膜层的涂料,厚度为2-10μm。
10.根据权利要求1所述的一种炫彩手机后盖,其特征是在于:所述HC层为高硬度高耐磨的淋涂液层,厚度为2-10μm。
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