CN214411122U - 一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置，包括用于容纳清洗液的储液罐、出液泵以及清洗槽，储液罐为至少一个彼此并联的分储液罐，出液泵与清洗槽之间设有缓冲罐，通过耐腐蚀管道将储液罐、出液泵、缓冲罐以及清洗槽串联，出液泵用于驱动储液罐内清洗液流入清洗槽内腔，清洗槽中间段的内侧面环绕均匀设置有补液口，自动补液装置还包括控制***，控制***主要由监测单元、流量控制单元、控制器以及显示单元组成，控制器分别电性连接出液泵、监测单元以及流量控制单元，显示单元电性连接控制器。本实用新型能有效应对腐蚀性的清洗液，而且控制能力多样，补液流量稳定，可以保证不同规格的晶片有效的浸入区域。

Description

一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置

技术领域

本实用新型涉及腐蚀清洗机设备技术领域，具体涉及一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置。

背景技术

随着集成电路的发展，晶片的需求量与日俱增，并且对晶片的质量要求也在同步提高。在晶片的生产加工过程中，晶片表面易粘附微细颗粒以及金属类的不良杂质，其会严重影响到最终产品的品质与成品率，而且在产品运行使用过程中，晶片表面可能会因氧化产生锈蚀的锈迹，现有技术中通常利用腐蚀清洗机对晶片进行清洗来除去杂质，以提高晶片质量，清洗方式多采用化学试剂清洗或化学试剂配合超声波进行清洗，为了保证晶片的有效清洗，需要连续向清洗机内补充一定浓度的化学试剂——清洗液，以调制出适宜的清洗环境。

目前的腐蚀清洗机设备会采用相应的自动补液装置进行补充清洗液，如专利号CN208189534U公开的“一种硅片腐蚀清洗机自动补液装置”，主体内设置第一储液室、第二储液室和废液室，第一储液室内设置总储液室，总储液室连通补液储液室，通过水位检测仪检测补液储液室内水位变化进行补液；又如专利号CN208189533U公开的“一种硅片腐蚀清洗机定量补液装置”，储液瓶上设置电机，控制盒内设置控制器，定量瓶上设置电容液位器，通过电容液位器与控制器配合使定量瓶能定量输出清洗液。这两者虽然能够达到自动补液的目的，但存在整体应对腐蚀性的清洗液能力不足，控制能力单一，缺乏计量功能，补液流量不稳定，难以保证不同规格的晶片有效的浸入区域的问题。

实用新型内容

为解决上述背景技术中提出的问题，本实用新型提供了一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置，可以有效应对腐蚀性的清洗液，而且控制能力多样，补液流量稳定，可以保证不同规格的晶片有效的浸入区域。

本实用新型提供如下技术方案:

一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置，包括用于容纳清洗液的储液罐、出液泵以及清洗槽，所述储液罐为至少一个彼此并联设置的分储液罐，所述出液泵与所述清洗槽之间设有缓冲罐，通过耐腐蚀管道将所述储液罐、所述出液泵、所述缓冲罐以及所述清洗槽串联，所述出液泵用于驱动所述储液罐内清洗液流入所述清洗槽内腔，所述清洗槽中间段的内侧面环绕均匀设置有补液口，所述自动补液装置还包括控制***，所述控制***主要由监测单元、流量控制单元、控制器以及显示单元组成，所述控制器分别电性连接所述出液泵、所述监测单元以及流量控制单元，所述显示单元电性连接所述控制器，

所述监测单元用于监测所述清洗槽和所述缓冲罐内清洗液的液位高度；

所述流量控制单元串联设置在所述清洗槽上游以及下游的耐腐蚀管道内，以保证所述清洗槽内合理的液位高度；

所述控制器用于接收所述监测单元反馈所述清洗槽和所述缓冲罐内的液位高度并控制所述流量控制单元运行调节清洗液的流通量；

所述显示单元用于显示所述出液泵、所述监测单元以及所述流量控制单元的监测数据或输出数据。

优选地，所述监测单元包括第一液位传感器、第二液位传感器以及电容传感器，所述第一液位传感器和第二液位传感器分别设置在所述清洗槽内腔的上下端位置，所述补液口的高度低于所述第二液位传感器的监测高度，所述电容传感器设置在所述缓冲罐的内腔。

优选地，所述流量控制单元包括设置在所述分储液罐下游管路的一号液阀、安装在所述缓冲罐与所述清洗槽之间的补液泵以及设置在所述清洗槽下游管路的二号液阀。

优选地，所述出液泵和所述补液泵均为耐腐蚀泵，所述出液泵采用齿轮泵，所述补液泵采用叶片泵。

优选地，所述一号液阀和所述二号液阀均为耐腐蚀电磁阀，所述耐腐蚀电磁阀采用软密封工艺。

优选地，所述清洗槽的上端为开口，所述清洗槽底部设有出液口。

优选地，所述出液口通过耐腐蚀管道连通有集液槽。

本实用新型的有益效果为：利用耐腐蚀管道将并联设置的分储液罐、出液泵、缓冲罐、清洗槽以及集液槽串联起来，出液泵和补液泵均为耐腐蚀泵，来提高整体补液装置应对腐蚀性的清洗液的能力，避免发生管路的泄露；并联设置的分储液罐可相应盛放不同浓度或不同类型的清洗液以满足实际使用需求；通过控制***完成对清洗槽稳定的补液，其中监测单元用于监测清洗槽和缓冲罐内清洗液的液位高度，流量控制单元调节清洗液的流通量，以保证清洗槽内合理的液位高度，控制器接收监测单元反馈的数据并控制流量控制单元运行调节清洗液的流通量，显示单元示出出液泵、监测单元以及流量控制单元的监测数据或输出数据，达到连续稳定的补液流量的目的，不同规格的晶片有效的浸入区域，保证清洗槽在清洗过程中清洗液浓度的稳定。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型清洗槽的半剖图；

图3为本实用新型的工作原理示意图。

图中标记：1-储液罐；101-充液口；2-出液泵；3-缓冲罐；4-清洗槽；5-集液槽；6-控制***；610-监测单元；611-第一液位传感器；612-第二液位传感器；613-电容传感器；620-流量控制单元；621-一号液阀；622-补液泵；623-二号液阀；630-控制器；640-显示单元。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术进行清楚完全的描述。

实施例1：

请参阅图1-图3，本实施例提供了一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置，包括用于容纳清洗液的储液罐1、出液泵2以及清洗槽4，储液罐1为至少一个彼此并联设置的分储液罐，出液泵2与清洗槽4之间设有缓冲罐3，通过耐腐蚀管道将储液罐1、出液泵2、缓冲罐3以及清洗槽4串联，出液泵2用于驱动储液罐内清洗液流入清洗槽4内腔，清洗槽4中间段的内侧面环绕均匀设置有补液口401，自动补液装置还包括控制***6，控制***6主要由监测单元610、流量控制单元620、控制器630以及显示单元640组成，控制器630分别电性连接出液泵2、监测单元610以及流量控制单元620，显示单元640电性连接控制器630。

在本实施例中，监测单元610包括第一液位传感器611、第二液位传感器612以及电容传感器613，第一液位传感器611和第二液位传感器612分别设置在清洗槽4内腔的上下端位置，补液口401的高度低于第二液位传感器612的监测高度，从而在第一液位传感器611和第二液位传感器612之间的区域形成晶片有效的浸入区域，电容传感器613设置在缓冲罐3的内腔，电容传感器613响应快速敏捷，可为缓冲罐3至补液泵622的管道段提供较大的流通量裕度，可及时降低缓冲罐3与补液泵622处的不良压差，为补液泵622稳定运行提供条件。

在本实施例中，流量控制单元620包括设置在分储液罐下游管路的一号液阀621、安装在缓冲罐3与清洗槽4之间的补液泵622以及设置在清洗槽4下游管路的二号液阀623，一号液阀621控制分储液罐内清洗液的流速与流通量，补液泵622将缓冲罐3内清洗液输入清洗槽4内腔，二号液阀623排除清洗槽4内反应的清洗液。

在本实施例中，清洗槽4的上端为开口，清洗槽4底部设有出液口402，出液口402通过耐腐蚀管道连通有集液槽5。

本实用新型工作原理如下，并联设置的分储液罐可相应盛放不同浓度或不同类型的清洗液以满足实际使用需求，控制打开相应的一号液阀621由补液装置通入清洗槽4内腔；利用耐腐蚀管道将并联设置的分储液罐、出液泵2、缓冲罐3、清洗槽4以及集液槽5依次串联起来，通过控制***完成对清洗槽4稳定的补液，具体的，由监测单元610监测清洗槽4和缓冲罐3内清洗液的液位高度，第一液位传感器611感应清洗槽4内液位上限，第二液位传感器612感应清洗槽4内液位下限，以形成晶片有效的浸入区域，电容传感器613感应缓冲罐3内液位，三者反馈数据至控制器630，控制器630接收监测单元610反馈清洗槽4和缓冲罐3内的液位高度并发出指令控制流量控制单元620运行调节清洗液的流通量，使清洗槽4内达到合理的液位高度，从而完成补液过程，由一号液阀621调节储液罐1内流体的流量，配合出液泵2输入至缓冲罐3，当缓冲罐3内电容传感器613发生响应时，控制器630降低一号液阀621与出液泵2流量与流速，增大补液泵622的流量；当清洗槽4内第一液位传感器611发生响应时，控制器630降低一号液阀621与出液泵2流量与流速，增大补液泵622的流量；当清洗槽4内第二液位传感器612发生响应时，控制器630增大一号液阀621与出液泵2流量与流速，降低补液泵622的流量，从而达到连续补液的目的，第一液位传感器611和第二液位传感器612之间的区域形成晶片有效的浸入区域，以满足对不同规格的晶片的清洗，与此同时，显示单元640示出出液泵2、监测单元610以及流量控制单元620的监测数据或输出数据，为工作人员视阅自动补液装置内具体情况提供便捷；补液口401连通补液泵622输入清洗槽4的管道段，通过补液泵622的运转加压，清洗液流入清洗槽4内腔，环绕均匀设置在清洗槽4中间段内侧面的补液口401有助于清洗液的优化扩散，加强补液效果，保证清洗槽4内清洗液浓度的稳定均衡，有利于提高腐蚀清洗机的清洗效率；通过控制二号液阀623将反应残余杂液逐步由出液口402排出清洗槽4，流入集液槽5汇合。

实施例2：

在上述实施例的基础上，出液泵2和补液泵622均为耐腐蚀泵，以提高补液装置整体的耐腐蚀性能，出液泵2可采用齿轮泵，能够定量输出稳定的清洗液，使储液罐1至缓冲罐3内清洗液的流通量均衡；补液泵622可采用叶片泵，叶片泵不仅精度高，转速稳定，而且转向恒定，不可反转，可充当单向阀体，有效防止清洗槽4内的清洗液发生倒流。

一号液阀621和二号液阀623均为耐腐蚀电磁阀，以提高液阀的实用性，由于清洗液的温度不高，清洗液流通时阻力适宜，耐腐蚀电磁阀可采用软密封工艺，以提升阀口的密封性能，做到清洗液的零泄露，提高补液装置整体的耐腐蚀性能。

上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明，但是本专利并不限于上述实施方式，在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本专利宗旨的前提下做出各种变化。

Claims (7)

1.一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置，包括用于容纳清洗液的储液罐(1)、出液泵(2)以及清洗槽(4)，其特征在于：所述储液罐(1)为至少一个彼此并联设置的分储液罐，所述出液泵(2)与所述清洗槽(4)之间设有缓冲罐(3)，通过耐腐蚀管道将所述储液罐(1)、所述出液泵(2)、所述缓冲罐(3)以及所述清洗槽(4)串联，所述出液泵(2)用于驱动所述储液罐内清洗液流入所述清洗槽(4)内腔，所述清洗槽(4)中间段的内侧面环绕均匀设置有补液口(401)，所述自动补液装置还包括控制***(6)，所述控制***(6)主要由监测单元(610)、流量控制单元(620)、控制器(630)以及显示单元(640)组成，所述控制器(630)分别电性连接所述出液泵(2)、所述监测单元(610)以及流量控制单元(620)，所述显示单元(640)电性连接所述控制器(630)，

所述监测单元(610)用于监测所述清洗槽(4)和所述缓冲罐(3)内清洗液的液位高度；

所述流量控制单元(620)串联设置在所述清洗槽(4)上游以及下游的耐腐蚀管道内，以保证所述清洗槽(4)内合理的液位高度；

所述控制器(630)用于接收所述监测单元(610)反馈所述清洗槽(4)和所述缓冲罐(3)内的液位高度并控制所述流量控制单元(620)运行调节清洗液的流通量；

所述显示单元(640)用于显示所述出液泵(2)、所述监测单元(610)以及所述流量控制单元(620)的监测数据或输出数据。

2.根据权利要求1所述的一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置，其特征在于：所述监测单元(610)包括第一液位传感器(611)、第二液位传感器(612)以及电容传感器(613)，所述第一液位传感器(611)和第二液位传感器(612)分别设置在所述清洗槽(4)内腔的上下端位置，所述补液口(401)的高度低于所述第二液位传感器(612)的监测高度，所述电容传感器(613)设置在所述缓冲罐(3)的内腔。

3.根据权利要求1所述的一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置，其特征在于：所述流量控制单元(620)包括设置在所述分储液罐下游管路的一号液阀(621)、安装在所述缓冲罐(3)与所述清洗槽(4)之间的补液泵(622)以及设置在所述清洗槽(4)下游管路的二号液阀(623)。

4.根据权利要求3所述的一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置，其特征在于：所述出液泵(2)和所述补液泵(622)均为耐腐蚀泵，所述出液泵(2)采用齿轮泵，所述补液泵(622)采用叶片泵。

5.根据权利要求3所述的一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置，其特征在于：所述一号液阀(621)和所述二号液阀(623)均为耐腐蚀电磁阀，所述耐腐蚀电磁阀采用软密封工艺。

6.根据权利要求1所述的一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置，其特征在于：所述清洗槽(4)的上端为开口，所述清洗槽(4)底部设有出液口(402)。

7.根据权利要求6所述的一种晶片的腐蚀清洗机自动补液装置，其特征在于：所述出液口(402)通过耐腐蚀管道连通有集液槽(5)。

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