CN214226889U - 一种应用于湿法设备的晶圆导片机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种应用于湿法设备的晶圆导片机构，涉及到半导体技术领域，包括水平导片机构，水平导片机构包括对称设置的两旋转式承载平台模块，和设于其中一旋转式承载平台模块下侧的晶圆片侦测计数机构，以及设于其中一旋转式承载平台模块的一侧的推片机构。其具有较强的稳定性、灵活性、完整性以及广用性。

Description

一种应用于湿法设备的晶圆导片机构

技术领域

本实用新型涉及到半导体技术领域，尤其涉及到一种应用于湿法设备的晶圆导片机构。

背景技术

在半导体工艺设备中，以湿法设备为例，在晶圆装载区和晶圆卸载区之间需要进行晶圆托篮的交换。在交换晶圆托篮的过程中，需要利用晶圆导片机构将一个晶圆托篮内的晶圆片取出放置到另一晶圆托篮内。然而，目前的晶圆导片机构在交换晶圆时运动不稳定，容易对晶圆产生撞击、磨损、挤压等情况，从而使晶圆破损。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种应用于湿法设备的晶圆导片机构，用于解决上述技术问题。

本实用新型采用的技术方案如下：

一种应用于湿法设备的晶圆导片机构，包括水平导片机构，所述水平导片机构包括对称设置的两旋转式承载平台模块，和设于其中一所述旋转式承载平台模块下侧的晶圆片侦测计数机构，以及设于其中一所述旋转式承载平台模块的一侧的推片机构。

作为优选，每一所述旋转式承载平台模块均包括：

挡板，所述挡板的中部开设有一第一通孔；

承载平台，所述承载平台设于所述挡板的一侧；

旋转平台，所述旋转平台可旋转地设于所诉挡板的另一侧，

定位模块，所述旋转平台上分别设有一所述定位模块；

第一气缸机构，所述旋转平台上还设有所述第一气缸机构，且所述第一气缸机构位于所述定位模块远离所述挡板的一侧。

作为进一步的优选，还包括第二气缸机构，所述旋转平台的一侧的下端设有一所述第二气缸机构.

作为进一步的优选，还包括垫板，所述垫板设于所述旋转平台上，且所述垫板位于所述定位模块与所述挡板之间，且所述垫板与所述挡板之间设有间隙，所述垫板上开设有一第二通孔，且所述第二通孔与所述第一通孔相正对。

作为进一步的优选，还包括第一传感器，所述定位模块包括若干个晶圆盒定位脚座，每一所述晶圆盒定位脚座上分别设有一所述第一传感器。

作为进一步的优选，所述旋转平台上开设有一第三通孔，所述第三通孔的两侧设有若干所述晶圆盒定位脚座。

作为进一步的优选，还包括第二传感器，所述垫板的上端设有至少一个所述第二传感器。

作为优选，还包括传感器支架和第三传感器，两所述旋转式承载平台模块之间设有一所述传感器支架，所述传感器支架的内侧设有至少一个所述第三传感器。

作为进一步的优选，所述推片机构包括滑轨、第一支撑杆机构、第二支撑杆机构和定向块，其中，所述第一支撑杆机构的一端与所述滑轨可滑动地连接，所述第一支撑杆机构的另一端与所述第二支撑杆机构的一端连接，所述第二支撑杆机构的另一端与所述定向块连接，所述定向块朝向的挡板的一侧开设有键槽。

作为优选，还包括支架，所述水平导片机构、所述晶圆片侦测计数机构和所述推片机构均安装于所述支架上。

上述技术方案具有如下优点或有益效果：

本实用新型中的晶圆导片机构具有较强的稳定性、灵活性、完整性以及广用性，能够实现在导片的过程中保证晶圆盒或晶圆片的位置不会出现偏移，提高导片效率以及晶圆盒或晶圆片的传输效率。

附图说明

图1是本实用新型应用于湿法设备的晶圆导片机构的立体图一；

图2是本实用新型应用于湿法设备的晶圆导片机构的立体图二；

图3是本实用新型应用于湿法设备的晶圆导片机构与设备框架安装的示意图；

图4是本实用新型中的推片机构的结构示意图；

图5是本实用新型中的水平导片机构与推片机构的结构示意图。

图中：1、水平导片机构；11、挡板；12、第一通孔；13、承载平台；14、旋转平台；15、第一气缸机构；16、第二气缸机构；17、垫板；18、第一传感器；19、晶圆盒定位脚座；190、第二传感器；191、传感器支架；2、晶圆片侦测计数机构；3、推片机构；31、滑轨；32、第一支撑杆机构；33、第二支撑杆机构；34、定向块；35、键槽；4、入货晶圆盒；5、工艺晶圆盒；6、设备框架；7、入货窗口备载区；8、第二承载传递区；9、支架。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，如出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等，其所指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，如出现术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，如出现术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

图1是本实用新型应用于湿法设备的晶圆导片机构的立体图一；图2是本实用新型应用于湿法设备的晶圆导片机构的立体图二；图3是本实用新型应用于湿法设备的晶圆导片机构与设备框架安装的示意图；图4是本实用新型中的推片机构的结构示意图；图5是本实用新型中的水平导片机构与推片机构的结构示意图。请参见图1至图5所示，示出了一种较佳的实施例，示出的一种应用于湿法设备的晶圆导片机构，包括水平导片机构1，水平导片机构1包括对称设置的两旋转式承载平台模块，和设于其中一旋转式承载平台模块下侧的晶圆片侦测计数机构2，以及设于其中一旋转式承载平台模块的一侧的推片机构3。本实施例中的导片机构用于对晶圆盒内的晶圆片进行置换，其中晶圆盒包括入货晶圆盒4和工艺晶圆盒5，其中一个旋转式承载平台模块上用于承载入货晶圆盒4，另一个旋转式承载平台模块上用于承载工艺晶圆盒5。晶圆片侦测计数机构2用于检测入货晶圆盒4内的晶圆片的数量，推片机构3用于将入货晶圆盒4内的晶圆片推入工艺晶圆盒5内。

进一步，作为一种较佳的实施方式，每一旋转式承载平台模块均包括：

挡板11，挡板11的中部开设有一第一通孔12；

承载平台13，承载平台13设于挡板11的一侧；

旋转平台14，旋转平台14可旋转地设于所诉挡板11的另一侧，

定位模块，旋转平台14上分别设有一定位模块；

第一气缸机构15，旋转平台14上还设有第一气缸机构15，且第一气缸机构15位于定位模块远离挡板11的一侧。本实施例中，如图5所示，入货晶圆盒4先进入旋转平台14，经过定位模块进行定位，然后再通过第一气缸机构15推动入货晶圆盒4，对入货晶圆盒4的位置进行调整，并将入货晶圆盒4的位置进行固定，然后再通过旋转平台14进行90°的旋转，使得入货晶圆盒4传递至承载平台13，使得入货晶圆盒4内的晶圆片进入另一承载平台4上的工艺晶圆盒5内。本实施例中可通过推片机构3将入货晶圆盒4内的晶圆片推入工艺晶圆盒5内。其中，晶圆片侦测计数机构2设置在承载入货晶圆盒4的旋转平台14的下侧。

进一步，作为一种较佳的实施方式，还包括第二气缸机构16，旋转平台14的一侧的下端设有一第二气缸机构16。本实施例中，第二气缸机构16用于推动旋转平台14旋转，如图5所示，旋转平台14的一端与挡板11的另一侧铰接，且旋转平台14能够绕自身的一端旋转。

进一步，作为一种较佳的实施方式，还包括垫板17，垫板17设于旋转平台14上，且垫板17位于定位模块与挡板11之间，且垫板17与挡板11之间设有间隙，垫板17上开设有一第二通孔，且第二通孔与第一通孔12相正对。本实施例中，垫板17的高度低于挡板11的高度，且垫板17与挡板11之间的间隙，避免旋转平台14旋转时受到阻碍。第一气缸机构15推动晶圆盒，使得晶圆盒的一端抵于垫板17，通过第一气缸机构15与垫板17的配合，能够实现对晶圆盒的夹紧与固定。

进一步，作为一种较佳的实施方式，还包括第一传感器18，定位模块包括若干个晶圆盒定位脚座19，每一晶圆盒定位脚座19上分别设有一第一传感器18。本实施例中，第一传感器18用于检测晶圆盒的位置是否安装到位。

进一步，作为一种较佳的实施方式，旋转平台14上开设有一第三通孔(图中未示出)，第三通孔的两侧设有若干晶圆盒定位脚座19。晶圆片侦测计数机构2的一端可穿过第三通孔，用于检测晶圆盒内部的晶圆片的数量。本实施例中的定位模块包括四个晶圆盒定位脚座19，且第三通孔的一侧及另一侧分别设有两个晶圆盒定位脚座19。

进一步，作为一种较佳的实施方式，还包括第二传感器190，垫板17的上端设有至少一个第二传感器190。第二传感器190用于检测晶圆盒的位置，当晶圆盒的一端抵于垫板17时，第二传感器190可控制第一气缸机构15停止工作。

进一步，作为一种较佳的实施方式，还包括传感器支架191和第三传感器(图中未示出)，两旋转式承载平台模块之间设有一传感器支架191，传感器支架191的内侧设有至少一个第三传感器。第三传感器位于入货晶圆盒4与工艺晶圆盒5之间，用于检测入货晶圆盒4导入工艺晶圆盒5内的晶圆片的数量。

进一步，作为一种较佳的实施方式，推片机构3包括滑轨31、第一支撑杆机构32、第二支撑杆机构33和定向块34，其中，第一支撑杆机构32的一端与滑轨31可滑动地连接，第一支撑杆机构32的另一端与第二支撑杆机构33的一端连接，第二支撑杆机构33的另一端与定向块34连接，定向块34朝向的挡板11的一侧开设有键槽35。本实施例中，键槽35的形状与晶圆片的形状相匹配，可以适应不同的晶圆片。其中推片机构3可以设置一个，也可以设置两个，当设置一个推片机构3时，其可位于任意一个旋转式承载平台模块的一侧；当设置两个推片机构3时，每一旋转式承载平台模块均可设置一个推片机构3。本实施例中，设置两个推片机构3能够实现将入货晶圆盒4内的晶圆片导入工艺晶圆盒5内，也能够实现将工艺晶圆盒5内的晶圆片导入入货晶圆盒4内，用于防止晶圆片导入过多。本实施例中的定向块可穿过第一通孔12和第二通孔并延伸至晶圆盒内，与其内的晶圆盒相抵。

进一步，作为一种较佳的实施方式，还包括支架9，水平导片机构1、晶圆片侦测计数机构2和推片机构3均安装于支架9上。本实施例中，支架9用于起到支撑作用，支架9可安装于设备框架6内，具体如图3所示。

以上仅为本实用新型较佳的实施例，并非因此限制本实用新型的保护范围及实施方式。

本实用新型在上述实施方式的基础上还具有如下实施方式：

进一步，作为一种较佳的实施方式，还包括设于设备框架6的一端的入货窗口备载区7，该入货窗口备载区7与水平导片机构1相正对；且入货窗口备载区7包括框体、线性机器人、传递平台和衔接平台，框体内设有至少两个传递平台，传递平台的一侧依次设有一线性机器人和一衔接平台。本实施例中，外部的晶圆盒夹取机器人直接的将入货晶圆盒4夹取至传递平台上，并经过传递平台上的定位脚座及传感器进行定位后，再通过线性机器人直接的将传递平台上的入货晶圆盒4传递至衔接平台，衔接平台为一入或是两入晶圆盒的临时衔接负载平台，在线性机器人上设有五个侦测点，可对应于单入或是双入晶圆盒,可广泛对应于半导体湿法设备入货要求的单入或是双入的要求。

进一步，作为一种较佳的实施方式，还包括第一承载传递区(图中未示出)和第二承载传递区8，且第一承载传递区和第二承载传递区8均设于设备框架6内，且第一承载传递区和第二承载传递区8位于水平导片机构1的两侧，其中，第一承载传递区用于将入货窗口备载区7内的入货晶圆盒4传递至水平导片机构1内，第二承载传递区8用于将水平导片机构1内导片后的工艺晶圆盒5传递至下一工艺(例如清洗工艺)。

进一步，作为一种较佳的实施方式，第一承载传递区(图中未示出)和第二承载传递区8均包括长轴线性机器人和设于长轴线性机器人的一侧的承载传递用平台和承载传递用衔接平台。本实施例中，长轴线性机器人用于夹持晶圆盒，承载传递用平台和承载传递用衔接平台均是用于承载并传递晶圆盒。本实施例中的第一承载传递区与第二承载传递区中的长轴线性机器人之间结构可相同或不同、承载传递用平台之间的之间结构可相同或不同，承载传递用衔接平台之间的结构可相同或不同。

进一步，作为一种较佳的实施方式，还包括限位块(图中未示出)，其中，在两承载板承载平台之间设有限位块，限位块用于限定晶圆盒的位置，当推片机构3推动晶圆片时，可以防止晶圆盒移动。

以上所述仅为本实用新型较佳的实施例，并非因此限制本实用新型的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本实用新型说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本实用新型的保护范围内。

Claims (10)

1.一种应用于湿法设备的晶圆导片机构，其特征在于，包括水平导片机构，所述水平导片机构包括对称设置的两旋转式承载平台模块，和设于其中一所述旋转式承载平台模块下侧的晶圆片侦测计数机构，以及设于其中一所述旋转式承载平台模块的一侧的推片机构。

2.如权利要求1所述的应用于湿法设备的晶圆导片机构，其特征在于，每一所述旋转式承载平台模块均包括：

挡板，所述挡板的中部开设有一第一通孔；

承载平台，所述承载平台设于所述挡板的一侧；

旋转平台，所述旋转平台可旋转地设于所诉挡板的另一侧，

定位模块，所述旋转平台上分别设有一所述定位模块；

第一气缸机构，所述旋转平台上还设有所述第一气缸机构，且所述第一气缸机构位于所述定位模块远离所述挡板的一侧。

3.如权利要求2所述的应用于湿法设备的晶圆导片机构，其特征在于，还包括第二气缸机构，所述旋转平台的一侧的下端设有一所述第二气缸机构。

4.如权利要求2所述的应用于湿法设备的晶圆导片机构，其特征在于，还包括垫板，所述垫板设于所述旋转平台上，且所述垫板位于所述定位模块与所述挡板之间，且所述垫板与所述挡板之间设有间隙，所述垫板上开设有一第二通孔，且所述第二通孔与所述第一通孔相正对。

5.如权利要求2所述的应用于湿法设备的晶圆导片机构，其特征在于，还包括第一传感器，所述定位模块包括若干个晶圆盒定位脚座，每一所述晶圆盒定位脚座上分别设有一所述第一传感器。

6.如权利要求5所述的应用于湿法设备的晶圆导片机构，其特征在于，所述旋转平台上开设有一第三通孔，所述第三通孔的两侧设有若干所述晶圆盒定位脚座。

7.如权利要求4所述的应用于湿法设备的晶圆导片机构，其特征在于，还包括第二传感器，所述垫板的上端设有至少一个所述第二传感器。

8.如权利要求1所述的应用于湿法设备的晶圆导片机构，其特征在于，还包括传感器支架和第三传感器，两所述旋转式承载平台模块之间设有一所述传感器支架，所述传感器支架的内侧设有至少一个所述第三传感器。

9.如权利要求2所述的应用于湿法设备的晶圆导片机构，其特征在于，所述推片机构包括滑轨、第一支撑杆机构、第二支撑杆机构和定向块，其中，所述第一支撑杆机构的一端与所述滑轨可滑动地连接，所述第一支撑杆机构的另一端与所述第二支撑杆机构的一端连接，所述第二支撑杆机构的另一端与所述定向块连接，所述定向块朝向的挡板的一侧开设有键槽。

10.如权利要求1所述的应用于湿法设备的晶圆导片机构，其特征在于，还包括支架，所述水平导片机构、所述晶圆片侦测计数机构和所述推片机构均安装于所述支架上。

Images