CN213933636U - 一种检测装置和硅片分选设备 - Google Patents

一种检测装置和硅片分选设备 Download PDF

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Abstract

本实用新型提供了一种检测装置,包括输送机构和检测机构,检测机构用于检测待测物体的与输送机构的输送方向垂直的两条边缘的检测,检测机构包括检测相机、第一边缘照射光源、第二边缘照射光源和反射机构,其中:第一边缘照射光源用于照射待测物体的第一边缘;第二边缘照射光源用于照射待测物体的第二边缘;反射机构用于为对第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线进行反射使得第一边缘照射光线经第一边缘反射后被检测相机探测到;反射机构用于对第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线进行反射使得第二边缘照射光线经第二边缘反射后被检测相机探测到。本实用新型仅设置一套检测机构即实现了对待检测物体两条边缘的检测,降低了检测装置的成本。

Description

一种检测装置和硅片分选设备
技术领域
本实用新型属于硅片检测领域,尤其涉及一种检测装置和硅片分选设备。
背景技术
硅片边缘检测是硅片检测过程中必不可少的步骤。为了实现对硅片的两条相对边缘的检测,传统的硅片检测装置包括第一边缘检测装置和第二边缘检测装置。第一边缘检测装置和第二边缘检测装置均包括各自的光源、反射机构及检测相机。传统的硅片检测存在结构复杂,成本偏高的缺陷。
实用新型内容
针对传统的检测装置存在的上述技术缺陷,本实用新型第一方面提供了一种检测装置,其技术方案如下:
一种检测装置,其包括用于输送待测物体的输送机构和检测机构,检测机构被配置为检测输送机构输送的待测物体的第一边缘和第二边缘,第一边缘和第二边缘为待测物体上相对的且与输送机构的输送方向垂直的两条边缘,检测机构包括检测相机、第一边缘照射光源、第二边缘照射光源和反射机构,其中:
第一边缘照射光源被配置为照射待测物体的第一边缘;
第二边缘照射光源被配置为照射待测物体的第二边缘;
反射机构被配置为对第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线进行至少一次反射,以使得第一边缘照射光线经待测物体的第一边缘反射后被检测相机探测到;
反射机构被配置为对第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线进行至少一次反射,以使得第二边缘照射光线经待测物体的第二边缘反射后被检测相机探测到。
通过第一边缘照射光源、第二边缘照射光源、检测相机和反射机构的配合,本实用新型的检测装置能够实现对待检测物体的垂直于输送机构的输送方向的两条相对的边缘的检测。与现有技术中的检测装置相比,本实用新型只需要设置一套反射机构、检测相机即能实现对待检测物体的两条相对边缘的检测,其极大地降低了检测装置的结构复杂度及成本。
在一些实施例中,输送机构将待测物体从后往前输送,第一边缘为待测物体的前端边缘,第二边缘为待测物体的后端边缘,第一边缘照射光源位于输送机构的前侧,第二边缘照射光源位于输送机构的后侧,检测相机位于输送机构的上方或下方并位于第一边缘照射光源和第二边缘照射光源之间;待测物体的前端边缘到达第一检测位置时,第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线照射至待测物体的前端边缘,自前端边缘反射的第一边缘照射光线经反射机构反射至检测相机;待测物体的后端边缘到达第二检测位置时,第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线照射至待测物体的后端边缘,自后端边缘反射的第二边缘照射光线经反射机构反射至检测相机。
通过对第一边缘照射光源、第二边缘照射光源、检测相机及反射机构进行设置,待测物体从后向前输送过程中,检测相机能够依次、连续地实现对待测物体的前后端边缘的检测,从而保证检测效率。
在一些实施例中,第一检测位置和第二检测位置之间的距离大于待测物体的前端边缘和待测物体的后端边缘之间的距离,待测物体的后端边缘在第一时刻到达第二检测位置,待测物体的前端边缘在第二时刻到达第一检测位置,第一时刻早于所述第二时刻。
通过对第一检测位置和第二检测位置之间的距离,即输送机构的输送长度进行调节,待测物体从后向前输送过程中,检测相机能够先后实现对待测物体的后端边缘、前端边缘的检测。
在一些实施例中,第一检测位置和第二检测位置之间的距离小于待测物体的前端边缘和待测物体的后端边缘之间的距离,待测物体的前端边缘在第三时刻到达第一检测位置,待测物体的后端边缘在第四时刻到达第二检测位置,第三时刻早于第四时刻。
通过对第一检测位置和第二检测位置之间的距离,即输送机构的输送长度进行调节,待测物体从后向前输送过程中,检测相机能够先后实现对待测物体的前端边缘、后端边缘的检测。
在一些实施例中,检测装置还包括上料输送机构和下料输送机构,其中:上料输送机构位于输送机构的后侧,上料输送机构用于将待检测物体自上道工位输送至所述输送机构,上料输送机构与输送机构之间保留有第一安装间隙。下料输送机构位于输送机构的前侧,下料输送机构用于将待检测物体自所述输送机构输送至下道工位,下料输送机构与输送机构之间保留有第二安装间隙。
通过设置上料输送机构和下料输送机构,实现了对待检测物的自动上、下料,进一步提升了检测效率。
在一些实施例中,反射机构包括第一边缘光反射机构、第二边缘光反射机构及光路整合机构,其中:第一边缘光反射机构被配置为将第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线反射至光路整合机构;第二边缘光反射机构被配置为将第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线反射至光路整合机构;光路整合机构被配置为将反射至光路整合机构的第一边缘照射光线反射至检测相机,及将反射至光路整合机构的第二边缘照射光线透射至检测相机。
通过对反射机构进行设置,能够保证第一边缘光反射机构输出的第一边缘照射光线、第二边缘光反射机构输出的第二边缘照射光线在通过光路整合机构时,均能按照预设光路进入到检测相机,即第一边缘照射光线、第二边缘照射光线最终都能够进入至同一检测相机内。
在一些实施例中,光路整合机构包括透反镜,透反镜设置在检测相机和输送机构之间,透反镜的反射面朝向检测相机,透反镜的透光面朝向输送机构。第一边缘光反射机构被配置为将第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线反射至透反镜的反光面,第一边缘照射光线被反射至透反镜的反光面后,经透反镜的反光面反射至检测相机;第二边缘光反射机构被配置为将第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线反射至透反镜的透光面,第二边缘照射光线被反射至透反镜的透光面后,直接穿过透反镜并进入至检测相机。
提供了一种结构简单的光路整合机构实现方式,在检测装置中设置透反镜,以使第一边缘光反射机构输出的第一边缘照射光线、第二边缘光反射机构输出的第二边缘照射光线均能经过透反镜进入到检测相机。
在一些实施例中,第一边缘光反射机构包括第一边缘入射反光镜和第一边缘出射反光镜组,第一边缘出射反光镜组包括至少一个第一边缘出射反光镜,第一边缘照射光源发射第一边缘照射光线至待测物体的第一边缘,第一边缘入射反光镜接收被待测物体的第一边缘反射的第一边缘照射光线,并将第一边缘照射光线反射至第一边缘出射反光镜组,由第一边缘出射反光镜组将第一边缘照射光线反射至光路整合机构;第二边缘光反射机构包括第二边缘入射反光镜和第二边缘出射反光镜组,第二边缘出射反光镜组包括至少一个第二边缘出射反光镜,第二边缘照射光源发射第二边缘照射光线至待测物体的第二边缘,第二边缘入射反光镜接收被待测物体的第二边缘反射的第二边缘照射光线,并将第二边缘照射光线反射至第二边缘出射反光镜组,由第二边缘出射反光镜组将第二边缘照射光线反射至光路整合机构。
通过对第一边缘光反射机构、第二边缘光反射机构进行设置,实现将第一边缘反射的第一边缘照射光线、第二边缘反射的第二边缘照射光线反射至光路整合机构。
在一些实施例中,检测机构还包括第一倒角光源、第二倒角光源、第三倒角光源及第四倒角光源,其中:第一倒角光源被配置为照射待测物体的位于第一边缘的一端的第一倒角,第二倒角光源被配置为照射待测物体的位于第一边缘的另一端的第二倒角;第三倒角光源被配置为照射待测物体的位于第二边缘的一端的第三倒角,第四倒角光源被配置为照射待测物体的位于第二边缘的另一端的第四倒角;反射机构还被配置为分别对第一倒角光源发出的第一倒角照射光线和第二倒角光源发出的第二倒角照射光线进行至少一次反射,以使得第一倒角照射光线、第二倒角照射光线经第一倒角、第二倒角反射后被检测相机探测到;反射机构还被配置为分别对第三倒角光源发出的第三倒角照射光线和第四倒角光源发出的第四倒角照射光线进行至少一次反射,以使得第三倒角照射光线、第四倒角照射光线经第三倒角、第四倒角反射后被检测相机探测到。
通过设置倒角光源,实现了对待测物体的四个倒角的检测。
本实用新型第二方面提供了一种硅片分选设备,该硅片分选设备包括本实用新型第一方面提供的检测装置,其中的待测物体为硅片。
本实用新型的硅片分选设备,兼具硅片检测功能及硅片分选功能,其提升了硅片的分选效率。
附图说明
图1为本实用新型的检测装置在第一个实施例中的结构示意图;
图2为本实用新型的检测装置在第二个实施例中的结构示意图;
图3为本实用新型的检测装置在第三个实施例中的结构示意图;
图1至图3中包括:
输送机构1;
检测相机2;
第一边缘照射光源3;
第二边缘照射光源4;
反射机构5,第一反光镜51、第二反光镜52、第三反光镜53、第四反光镜54、第五反光镜55、透反镜56;
上料输送机构6;
下料输送机构7;
第一倒角光源8;
第二倒角光源9;
第三倒角光源10;
第四倒角光源11;
待测物体100、前端边缘101、后端边缘102、第一倒角103、第二倒角104、第三倒角105、第四倒角106。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
在此之前,先对本说明书中所提及的如下技术术语进行说明:
反射镜:即普通的全反镜。
透反镜:其具有的两个相对表面中,其中一个表面为反光面(相当于普通反射镜),另一个表面为透光面(光能够经该透光面直接穿过透反镜)。
如图1和图2所示,本实用新型的检测装置包括用于输送待测物体100的输送机构1和检测机构,检测机构被配置为检测输送机构输送的待测物体100的第一边缘和第二边缘,第一边缘和第二边缘为待测物体100上相对的且与输送机构1的输送方向(图中箭头所示方向)垂直的两条边缘,如图1中的前端边缘101和后端边缘102。
可选的,输送机构1包括支撑结构、输送带和驱动输送带输送的驱动部,输送带通过带轮设置在支撑结构上,输送带可设置为两条,两条输送带相互平行且间隔预定距离设置,待测物体100水平放置于两条传输带上进行输送。
检测机构包括检测相机2、第一边缘照射光源3、第二边缘照射光源4和反射机构5。其中:
第一边缘照射光源3被配置为照射待测物体100的第一边缘,第二边缘照射光源4被配置为照射待测物体100的第二边缘。第一边缘照射光源3、第二边缘照射光源4可以为普通光源、激光等光源,对光源的具体类型、波长不做限定。
反射机构5被配置为对第一边缘照射光源3发出的第一边缘照射光线进行至少一次反射,以使得第一边缘照射光线经待测物体100的第一边缘反射后被检测相机2探测到。反射机构5还被配置为对第二边缘照射光源4发出的第二边缘照射光线进行至少一次反射,以使得第二边缘照射光线经待测物体100的第二边缘反射后被检测相机2探测到。待测物体100为硅片,或是其他的片状件,本说明书中以待测物体100为硅片为例。
如图1和图2实施例中,第一边缘照射光源3、检测相机2及第二边缘照射光源4按着输送机构1的输送方向前后依序设置,即第一边缘照射光源3所在方位为前,第二边缘照射光源4为后,检测相机2位于第一边缘照射光源3和第二边缘照射光源4之间且位于输送机构1的上方。
输送机构1将待测物体100从后往前输送(图中箭头所示)。图1和图2实施例中,第一边缘为待测物体100在输送机构1上输送时的前端边缘101,第二边缘为待测物体100在输送机构100上输送时的后端边缘102。
输送机构1的前侧边缘位置处具有第一检测位置A,输送机构1的后侧边缘位置处具有第二检测位置B。第一照射光源3设置在第一检测位置A的前侧,第二照射光源4设置在第二检测位置B的后侧。
图1和图2实施例中,反射机构5包括第一反光镜51、第二反光镜52、第三反光镜53、第四反光镜54、第五反光镜55及透反镜56。具体的:第一反光镜51、第二反光镜52位于输送机构1的前侧,第三反光镜53、第四反光镜54位于输送机构1的后侧,第五反光镜55及透反镜56依次设置在输送机构1和检测相机2之间。第一反光镜51、第二反光镜52、第三反光镜53、第四反光镜54、第五反光镜55及透反镜56均呈45°设置,当然,各反射镜、透反镜的安装角度并不局限于45°,其上均设置有角度调节装置,用于调节各个镜子的安装角度。透反镜56的反射面朝向检测相机2,透反镜56的透光面朝向输送机构1。
图1和图2实施例中,第一边缘照射光线、第二边缘照射光线的传输光路具体如下:
输送机构1将待测物体100自后向前输送,当待测物体100的前端边缘101到达第一检测位置A时,第一边缘照射光源3发射第一边缘照射光线至待测物体100的前端边缘101,前端边缘101将第一边缘照射光线反射至第一反光镜51,第一反光镜51将第一边缘照射光线反射至第二反光镜52,第二反光镜52将第一边缘照射光线反射至透反镜56的上表面(反射面),透反镜56的上表面将第一边缘照射光线反射至检测相机2。至此,实现了检测机构对待测物体100的前端边缘101的检测。
同理,当待测物体100的后端边缘102到达第二检测位置B时,第二边缘照射光源4发射第二边缘照射光线至待测物体100的后端边缘102,后端边缘102将第二边缘照射光线反射至第三反光镜53,第三反光镜53将第二边缘照射光线反射至第四反光镜54,第四反光镜54将第二边缘照射光线反射至第五反光镜55,第五反光镜55将第二边缘照射光线反射至透反镜56的下表面(透光面),第二边缘照射光线穿过透反镜56后到达检测相机2。至此,实现了检测机构对待测物体100的后端边缘102的检测。
可见,图1和图2实施例中的反射机构5包括如下三部分:
第一反光镜51和第二反光镜52构成的第一边缘光反射机构,用于反射第一边缘照射光线,其中:第一反光镜51构成接收第一边缘反射的第一边缘照射光线的第一边缘入射反光镜,第二反光镜52构成出射及传输第一边缘照射光线的第一边缘出射反光镜。
第三反光镜53、第四反光镜54及第五反光镜55构成的第二边缘光反射机构,用于反射第二边缘照射光线,其中:第三反光镜53构成接收第二边缘反射的第二边缘照射光线的第二边缘入射反光镜,第四反光镜54及第五反光镜55构成出射及传输第二边缘照射光线的第二边缘出射反光镜组。以及
透反镜56构成的光路整合机构,一方面将第一边缘光反射机构输出的第一边缘照射光线按照预设光路反射至检测相机2,另一方面将第二边缘光反射机构输出的第二边缘照射光线按照预设光路即竖直方向透射检测相机2。
对反射机构5进行如此设置,能够保证第一边缘光反射机构输出的第一边缘照射光线、第二边缘光反射机构输出的第二边缘照射光线在通过光路整合机构时,均能按照预设光路进入到检测相机2,由同一个检测相机2对待测物体的前边缘和后边缘进行检测。
当然,在其他实施例中,也可以对反射机构5的具体组成结构进行适应性调整。此外,可选的,为了避免周围环境光线的干扰,反射机构的各组成部件均封装在遮光板内。
图1所示实施例中,第一检测位置A和第二检测位置B之间的距离L大于待测物体100的前端边缘101和后端边缘102之间的距离(即待测物体100在沿输送机构1输送方向上的长度尺寸)。该实施例中:
输送机构1在将待测物体100自后向前输送过程中,待测物体100的后端边缘102在第一时刻T1到达第二检测位置B,待测物体100的前端边缘101则在第二时刻T2到达第一检测位置A,第一时刻T1早于第二时刻T2。即,在图1实施例中,检测机构先完成对后端边缘102的检测,然后完成对前端边缘101的检测。
图2所示实施例中则不同,第一检测位置A和第二检测位置B之间的距离L小于待测物体100的前端边缘101和后端边缘102之间的距离(即待测物体100在沿输送机构1输送方向上的长度尺寸)。该实施例中:
输送机构1在将待测物体100自后向前输送过程中,待测物体100的前端边缘101在第三时刻T3到达第一检测位置A,待测物体100的后端边缘102则在第四时刻T4到达第二检测位置B,第三时刻T3早于第四时刻T4。即:在图2实施例中,检测机构先完成对前端边缘101的检测,然后完成对后端边缘102的检测。
继续参考图2所示,可选的,本实用新型中的检测装置还包括上料输送机构6和下料输送机构7,其中:上料输送机构6位于输送机构1的后侧,上料输送机构用于将待检测物体100自上道工位输送至输送机构1上,从而实现对待检测物体100的自动上料;下料输送机构7则位于输送机构1的前侧,下料输送机构用于将待检测物体100自输送机构1输送至下道工位,从而实现对待检测物体100的自动下料。
如图2所示的,上料输送机构6、下料输送机构7与输送机构1均为输送带结构。且上料输送机构6、输送机构1和下料输送机构7位于同一轴线上,且上料输送机构6、输送机构1和下料输送机构7的输送承载面处于同一水平面。如此,在惯性作用下,上料输送机构6上的待检测物体100能够顺利过渡至输送机构1上以完成自动上料,输送机构1上的待检测物体100则能够顺利过渡至下料输送机构7以完成自动下料。
图2实施例中,反射机构5均设置在输送机构1的输送承载面的上方,对应的,第一边缘照射光源3和第二边缘照射光源4的安装位置则需低于输送机构1的输送承载面。因此,为了便于第一边缘照射光源3和第二边缘照射光源4的安装,可选的,上料输送机构6与输送机构1之间保持有用于安装第二边缘照射光源4的第一间隙,下料输送机构7与输送机构1之间则保持有用于安装第一边缘光源3的第二间隙。
如前文所述,通过第一边缘照射光源3、第二边缘照射光源4、检测相机2和反射机构5的配合,本实用新型的检测装置能够实现对待检测物体100(如硅片)的垂直于输送机构1的输送方向的两条相对的边缘的检测。
然而,如图3所示,作为待检测物体100的硅片,其四个边角处一般形成有倒角,包括:位于前端边缘101的一端的第一倒角103,位于前端边缘101的另一端的第二倒角104,位于后端边缘102的一端的第三倒角105,位于后端边缘102的第二端的第四倒角106。
如本领域一般技术人员所知晓的,硅片的倒角位置处容易出现隐裂缺陷,因此有必要对倒角进行检测。然而,如图3所示的,第一边缘照射光源3发出的第一边缘照射光线无法照射到第一倒角103和第二倒角104,第二边缘照射光源4发出的第二边缘照射光线发出的第二边缘照射光线也无法照射到第三倒角105和第四倒角106。因此,检测相机2也就无法实现对各个倒角的成像、检测。
为了解决倒角检测问题,如图3所示,可选的,本实用新型的检测装置还包括第一倒角照射光源8,第二倒角照射光源9、第三倒角照射光源10和第四倒角照射光源11。其中:第一倒角光源8被配置为照射待测物体的位于第一边缘的一端的第一倒角103,第二倒角光源9被配置为照射待测物体的位于第一边缘的另一端的第二倒角104;第三倒角光源10被配置为照射待测物体的位于第二边缘的一端的第三倒角105,第四倒角光源11被配置为照射待测物体的位于第二边缘的另一端的第四倒角106。
图3实施例中,第一倒角照射光源8和第二倒角照射光源9分别设置于第一边缘照射光源3的两侧,第二倒角光源9和第三倒角光源10分别设置于第二边缘照射光源3的两侧。
各倒角照射光源发出的倒角照射光线照射至对应的倒角后,被倒角反射至反射机构5内,并最终被反射机构5反射传输至检测相机2内,从而实现了检测机构对硅片的倒角的检测。具体的:
当硅片的前端边缘101到达第一检测位置A时,前端边缘101在被第一边缘照射光源3照射的同时,第一倒角103、第二倒角104分别被第一倒角照射光源8、第二倒角照射光源9照射,从而实现了检测机构对硅片的前端边缘101、第一倒角103、第二倒角104的同时检测。
当硅片的后端边缘102到达第二检测位置B时,后端边缘102在别第二边缘照射光源4照射的同时,第三倒角105、第四倒角106分别被第三倒角照射光源10、第四倒角照射光源11照射,从而实现了检测机构对硅片的后端边缘102、第三倒角105、第四倒角106的同时检测。
本实用新型还公开了一种硅片分选设备,该硅片分选设备包括如上任一所述的检测装置,待测物体为硅片;硅片分选设备还包括用于检测输送机构1上输送的硅片的外形尺寸是否合格的外形尺寸检测设备、用于检测硅片上是否存在隐裂检测装置、用于检测硅片的厚度是否合格的厚度检测装置等。
上文对本实用新型进行了足够详细的具有一定特殊性的描述。所属领域内的普通技术人员应该理解,实施例中的描述仅仅是示例性的,在不偏离本实用新型的真实精神和范围的前提下做出所有改变都应该属于本实用新型的保护范围。本实用新型所要求保护的范围是由所述的权利要求书进行限定的,而不是由实施例中的上述描述来限定的。

Claims (10)

1.一种检测装置,其特征在于,所述检测装置包括用于输送待测物体的输送机构和检测机构,所述检测机构被配置为检测所述输送机构输送的待测物体的第一边缘和第二边缘,所述第一边缘和所述第二边缘为所述待测物体上相对的且与所述输送机构的输送方向垂直的两条边缘,所述检测机构包括检测相机、第一边缘照射光源、第二边缘照射光源和反射机构,其中:
所述第一边缘照射光源被配置为照射待测物体的所述第一边缘;
所述第二边缘照射光源被配置为照射待测物体的所述第二边缘;
所述反射机构被配置为对所述第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线进行至少一次反射,以使得所述第一边缘照射光线经所述待测物体的第一边缘反射后被所述检测相机探测到;
所述反射机构被配置为对所述第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线进行至少一次反射,以使得所述第二边缘照射光线经所述待测物体的第二边缘反射后被所述检测相机探测到。
2.如权利要求1所述的检测装置,其特征在于:
所述输送机构将所述待测物体从后往前输送,所述第一边缘为所述待测物体的前端边缘,所述第二边缘为所述待测物体的后端边缘,所述第一边缘照射光源位于所述输送机构的前侧,所述第二边缘照射光源位于所述输送机构的后侧,所述检测相机位于所述输送机构的上方或下方并位于所述第一边缘照射光源和所述第二边缘照射光源之间;
所述待测物体的前端边缘到达第一检测位置时,所述第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线照射至所述待测物体的前端边缘,自所述前端边缘反射的所述第一边缘照射光线经所述反射机构反射至所述检测相机;
所述待测物体的后端边缘到达第二检测位置时,所述第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线照射至所述待测物体的后端边缘,自所述后端边缘反射的所述第二边缘照射光线经所述反射机构反射至所述检测相机。
3.如权利要求2所述的检测装置,其特征在于:
所述第一检测位置和所述第二检测位置之间的距离大于所述待测物体的前端边缘和所述待测物体的后端边缘之间的距离,所述待测物体的后端边缘在第一时刻到达所述第二检测位置,所述待测物体的前端边缘在第二时刻到达所述第一检测位置,所述第一时刻早于所述第二时刻。
4.如权利要求2所述的检测装置,其特征在于:
所述第一检测位置和所述第二检测位置之间的距离小于所述待测物体的前端边缘和所述待测物体的后端边缘之间的距离,所述待测物体的前端边缘在第三时刻到达所述第一检测位置,所述待测物体的后端边缘在第四时刻到达所述第二检测位置,所述第三时刻早于所述第四时刻。
5.如权利要求2所述的检测装置,其特征在于,所述检测装置还包括上料输送机构和下料输送机构,其中:
所述上料输送机构位于所述输送机构的后侧,所述上料输送机构用于将待检测物体自上道工位输送至所述输送机构,所述上料输送机构与所述输送机构之间保留有第一安装间隙;
所述下料输送机构位于所述输送机构的前侧,所述下料输送机构用于将待检测物体自所述输送机构输送至下道工位,所述下料输送机构与所述输送机构之间保留有第二安装间隙。
6.如权利要求2所述的检测装置,其特征在于,所述反射机构包括第一边缘光反射机构、第二边缘光反射机构及光路整合机构,其中:
所述第一边缘光反射机构被配置为将所述第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线反射至所述光路整合机构;
所述第二边缘光反射机构被配置为将所述第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线反射至所述光路整合机构;
所述光路整合机构被配置为将反射至所述光路整合机构的所述第一边缘照射光线反射至所述检测相机,及将反射至所述光路整合机构的所述第二边缘照射光线透射至所述检测相机。
7.如权利要求6所述的检测装置,其特征在于,所述光路整合机构包括透反镜,所述透反镜设置在所述检测相机和所述输送机构之间,所述透反镜的反射面朝向所述检测相机,所述透反镜的透光面朝向所述输送机构;
所述第一边缘光反射机构被配置为将所述第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线反射至所述透反镜的反光面,所述第一边缘照射光线被反射至所述透反镜的反光面后,经所述透反镜的反光面反射至所述检测相机;
所述第二边缘光反射机构被配置为将所述第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线反射至所述透反镜的透光面,所述第二边缘照射光线被反射至所述透反镜的透光面后,直接穿过所述透反镜并进入至所述检测相机。
8.如权利要求6所述的检测装置,其特征在于,所述第一边缘光反射机构包括第一边缘入射反光镜和第一边缘出射反光镜组,所述第一边缘出射反光镜组包括至少一个第一边缘出射反光镜,所述第一边缘照射光源发射第一边缘照射光线至所述待测物体的第一边缘,所述第一边缘入射反光镜接收被所述待测物体的第一边缘反射的所述第一边缘照射光线,并将所述第一边缘照射光线反射至所述第一边缘出射反光镜组,由所述第一边缘出射反光镜组将所述第一边缘照射光线反射至所述光路整合机构;
所述第二边缘光反射机构包括第二边缘入射反光镜和第二边缘出射反光镜组,所述第二边缘出射反光镜组包括至少一个第二边缘出射反光镜,所述第二边缘照射光源发射第二边缘照射光线至所述待测物体的第二边缘,所述第二边缘入射反光镜接收被所述待测物体的第二边缘反射的所述第二边缘照射光线,并将所述第二边缘照射光线反射至所述第二边缘出射反光镜组,由所述第二边缘出射反光镜组将所述第二边缘照射光线反射至所述光路整合机构。
9.如权利要求1所述的检测装置,其特征在于:所述检测机构还包括第一倒角光源、第二倒角光源、第三倒角光源及第四倒角光源,其中:
所述第一倒角光源被配置为照射待测物体的位于所述第一边缘的一端的第一倒角,所述第二倒角光源被配置为照射待测物体的位于所述第一边缘的另一端的第二倒角;
所述第三倒角光源被配置为照射待测物体的位于所述第二边缘的一端的第三倒角,所述第四倒角光源被配置为照射待测物体的位于所述第二边缘的另一端的第四倒角;
所述反射机构还被配置为分别对所述第一倒角光源发出的第一倒角照射光线和所述第二倒角光源发出的第二倒角照射光线进行至少一次反射,以使得所述第一倒角照射光线、所述第二倒角照射光线经所述第一倒角、所述第二倒角反射后被所述检测相机探测到;
所述反射机构还被配置为分别对所述第三倒角光源发出的第三倒角照射光线和所述第四倒角光源发出的第四倒角照射光线进行至少一次反射,以使得所述第三倒角照射光线、所述第四倒角照射光线经所述第三倒角、所述第四倒角反射后被所述检测相机探测到。
10.一种硅片分选设备,其特征在于,所述硅片分选设备包括权利要求1-9任一项所述的检测装置,所述待测物体为硅片。
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