CN213701068U - 一种全自动等离子清洗设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及等离子清洗技术领域，更加具体地涉及一种全自动等离子清洗设备，包括底座，底座沿直线依次设置有上料机构、清洗机构、转移机构和下料机构，上料机构包括上料载台、设置于上料载台的上料传输组件，上料传输组件用于将上料载台上的物料移动至靠近清洗机构的位置；清洗机构包括真空清洗室和设置于真空清洗室内的电极板；转移机构包括转移架、转移座、夹持座、夹具、第一驱动件、第二驱动件和第三驱动件，下料机构包括下料载台、设置于下料载台的下料传输组件，下料传输组件用于将下料载台上的物料移动至远离清洗机构的位置。通过本实用新型，可以完成产品的自动上下料，极大地提高加工速率，减小工人电磁辐射的安全隐患。

Description

一种全自动等离子清洗设备

技术领域

本实用新型涉及等离子清洗技术领域，更加具体地涉及一种全自动等离子清洗设备。

背景技术

等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基)；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。

等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。

目前，一般的等离子清洗机采用人工上下料，需要在机器的上料工位和下料工位安排工人协助机器上料和下料，但是，人工上下料劳动强度大、效率较低，而且对工人的身体健康还存在着一定的安全隐患。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种全自动等离子清洗设备，以解决现有的等离子清洗机采用人工上下料，劳动强度大，效率较低的技术问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种全自动等离子清洗设备，包括底座，所述底座沿直线依次设置有：上料机构、清洗机构、转移机构和下料机构，

所述上料机构包括用于承载物料的上料载台、设置于所述上料载台的上料传输组件，所述上料传输组件用于将所述上料载台上的物料移动至靠近所述清洗机构的位置；

所述清洗机构包括真空清洗室和设置于所述真空清洗室内的电极板；

所述转移机构包括转移架、转移座、夹持座、夹具、第一驱动件、第二驱动件和第三驱动件，所述转移架设置有转移滑轨，所述转移滑轨的两端分别位于上料机构上方和下料机构上方，所述转移座滑动设置在所述转移滑轨上，所述第一驱动件驱动所述转移座在所述转移滑轨上来回移动，所述夹持座竖直滑动设置于所述转移座上，所述第二驱动件用于驱动所述夹持座上下移动，所述夹具设置于所述夹持座的底端，所述第三驱动件用于驱动所述夹具打开和闭合；

所述下料机构包括用于承载物料的下料载台、设置于所述下料载台的下料传输组件，所述下料传输组件用于将所述下料载台上的物料移动至远离所述清洗机构的位置。

优选地，所述上料载台设置有上料定位件，所述下料载台设置有下料定位件，所述转移滑轨的两端分别位于所述上料定位件和所述下料定位件的正上方。

优选地，所述上料载台开设有用于容纳所述上料传输组件的第一容纳槽，所述上料传输组件包括竖直滑动设置于所述第一容纳槽的上料架、用于驱动所述上料架上下移动的第一气缸和转动承载于所述上料架的第一传送带，所述第一传送带的一端靠近所述上料定位件；所述下料载台开设有用于容纳所述下料传输组件的第二容纳槽，所述下料传输组件包括竖直滑动设置于所述第二容纳槽的下料架、用于驱动所述下料架上下移动的第二气缸和转动承载于所述下料架的第二传送带，所述第二传送带的一端靠近所述下料定位件。

优选地，所述第一驱动件为伺服电机。

优选地，所述第二驱动件为丝杆模组。

优选地，所述夹具包括滑动设置于所述夹持座的第一夹片和第二夹片，所述第三驱动件为夹持气缸，所述夹持气缸用于驱动所述第一夹片和所述第二夹片相互靠近或相互远离。

本实用新型的有益效果是：具体工作时，上料机构将产品移动至靠近所述清洗机构的位置，然后转移机构的夹具夹住产品，将产品放置到清洗室内进行清洗，清洗完成后，夹具再夹住清洗完成的产品，将其移动至下料机构上；通过本实用新型，不需要人工辅助，可以完成产品的自动上下料，极大地提高加工速率，减小工人电磁辐射的安全隐患。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型装配示意图；

图2是图1中清洗机构的结构示意图；

图3是图1中清洗机构的另一视角的结构示意图。

图中，100、底座；200、上料机构；210、上料载台；211、上料定位件；221、第一气缸；222、第一传送带；300、清洗机构；310、真空清洗室；320、电极板；331、箱门件；332、产品治具；333、放料驱动件；334、直线导轨；335、缓冲器；336、观测窗；337、密封层；340、真空泵；350、破真空阀；360、真空计；370、匹配器；380、屏蔽盒；400、转移机构；410、转移架；411、转移滑轨；420、转移座；430、夹持座；440、夹具；450、第一驱动件；460、第二驱动件；470、第三驱动件；500、下料机构；510、下料载台；522、第二传送带。

具体实施方式

以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本实用新型的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本实用新型保护的范围。另外，专利中涉及到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本实用新型创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。

参照图1至图3所示，一种全自动等离子清洗设备，包括底座100，所述底座100沿直线依次设置有：上料机构200、清洗机构300、转移机构400和下料机构500，所述上料机构200包括用于承载物料的上料载台210、设置于所述上料载台210的上料传输组件，所述上料传输组件用于将所述上料载台210上的物料移动至靠近所述清洗机构300的位置；所述清洗机构300包括真空清洗室310和设置于所述真空清洗室310内的电极板320；所述转移机构400包括转移架410、转移座420、夹持座430、夹具440、第一驱动件450、第二驱动件460和第三驱动件470，所述转移架410设置有转移滑轨411，所述转移滑轨 411的两端分别位于上料机构200上方和下料机构500上方，所述转移座420 滑动设置在所述转移滑轨411上，所述第一驱动件450驱动所述转移座420在所述转移滑轨411上来回移动，所述夹持座430竖直滑动设置于所述转移座420 上，所述第二驱动件460用于驱动所述夹持座430上下移动，所述夹具440设置于所述夹持座430的底端，所述第三驱动件470用于驱动所述夹具440打开和闭合；所述下料机构500包括用于承载物料的下料载台510、设置于所述下料载台510的下料传输组件，所述下料传输组件用于将所述下料载台510上的物料移动至远离所述清洗机构300的位置。具体工作时，上料机构200将产品移动至靠近所述清洗机构300的位置，然后转移机构400的夹具440夹住产品，将产品放置到清洗室内进行清洗，清洗完成后，夹具440再夹住清洗完成的产品，将其移动至下料机构500上；通过本实用新型，不需要人工辅助，可以完成产品的自动上下料，极大地提高加工速率，减小工人电磁辐射的安全隐患。

如图1所示，所述上料载台210设置有上料定位件211，所述上料载台210 开设有用于容纳所述上料传输组件的第一容纳槽，所述上料传输组件包括竖直滑动设置于所述第一容纳槽的上料架、用于驱动所述上料架上下移动的第一气缸221和转动承载于所述上料架的第一传送带222，所述第一传送带222的一端靠近所述上料定位件211。具体地，上料定位件211为一个固定板，位于清洗机构300的一侧。在本实施例中设置有两个第一传送带222，这里的传送带指传送带机构，上料时，第一气缸221驱动第一传送带222向上运动，第一传送带222凸出第一容纳槽，第一传送带222顶起产品，然后第一传送带222将产品移动传送至上料定位件211，接着第一气缸221驱动第一传送带222向下运动，产品再落到上料载台210上。通过上料定位件211，可以提高上料精度。

如图1所示，所述转移架410可以为龙门架，转移架410架设于所述上料结构、清洗机构300和下料机构500的上方。在本实施例中，所述第一驱动件 450为伺服电机，伺服电机可以控制所述转移座420在转移滑轨411上来回滑动；所述第二驱动件460为丝杆模组，所述夹具440包括滑动设置于所述夹持座430的第一夹片和第二夹片，所述第三驱动件470为夹持气缸，所述夹持气缸用于驱动所述第一夹片和所述第二夹片相互靠近或相互远离。

如图2和图3所示，所述清洗机构300包括设置于所述真空清洗室310一侧的放料组件，所述真空清洗室310靠近所述放料组件的一侧设置有开口。所述放料组件包括滑动设置于所述底座100的箱门件331、设置于所述箱门件331 靠近所述真空清洗室310一侧的产品治具332和用于驱动箱门件331靠近或者远离所述真空清洗室310的放料驱动件333。具体地，底座100上设置于直线导轨334，箱门件331滑动设置在直线导轨334上，直线导轨334远离所述真空清洗室310的一端设置有缓冲器335，缓冲器335可以避免箱门件331移动至直线导轨334端部时发生撞击损坏，放料驱动件333可以为气缸或者丝杆模组，工作时，夹具440将产品放置到产品治具332上，然后放料驱动件333驱动箱门件331靠近真空清洗室310直到抵紧真空清洗室310，此时产品位于真空清洗室310内，接着真空清洗室310开始工作。清洗完成后，放料驱动件333 反向驱动所述箱门件331移动，产品脱离真空清洗室310，然后在通过转移机构400取走。

优选地，所述箱门件331靠近所述真空清洗室310一侧设置有密封层337，在本实施例中，所述密封层337可以采用橡胶层。

在本实施例中，所述箱门件331上还设置有透明的观测窗336，所述观测窗336可以方便观察真空清洗室310内的状况。

优选地，所述清洗机构300还包括用于对真空清洗室310抽真空的真空泵 340、用于对所示真空清洗室310破真空的破真空阀350、用于测试真空清洗室 310内压力的真空计360。

优选地，所述清洗机构300包括用于控制所述电极板320工作的匹配器 370，所述真空清洗室310上还设置有屏蔽盒380，可以避免电极板320工作时收外界磁场干扰。

如图1所示，所述下料载台510设置有下料定位件，所述下料载台510开设有用于容纳所述下料传输组件的第二容纳槽，所述下料传输组件包括竖直滑动设置于所述第二容纳槽的下料架、用于驱动所述下料架上下移动的第二气缸和转动承载于所述下料架的第二传送带522，所述第二传送带522的一端靠近所述下料定位件。在本实施例中，下料机构500和上料机构200结构相同，此处不再赘述。

工作原理：

上料：第一气缸221驱动第一传送带222向上运动，第一传送带222凸出第一容纳槽，第一传送带222顶起产品，然后第一传送带222将产品移动传送至上料定位件211，接着第一气缸221驱动第一传送带222向下运动，产品再落到上料载台210上；第一驱动件450驱动夹具440至上料定位件211上方，夹具440夹住产品并将产品放置到产品治具332上；

清洗：放料驱动件333驱动箱门件331靠近真空清洗室310直到抵紧真空清洗室310，此时产品位于真空清洗室310内，真空泵340对真空清洗室310 抽正空，接着电极板320工作对产品进行清洗，清洗完成后，电极板320停止工作，破真空阀350对真空清洗室310破真空，放料驱动件333反向驱动所述箱门件331移动，产品脱离真空清洗室310；

下料：第一驱动件450驱动夹具440至产品治具332的上方，夹具440夹住产品并将产品放置到下料载台510上，第二气缸驱动第二传送带522向上运动，第二传送带522凸出第二容纳槽，第二传送带522顶起产品，然后第二传送带522将产品移走。

综上所述：通过本实用新型，不需要人工辅助，可以完成产品的自动上下料，极大地提高加工速率，减小工人电磁辐射的安全隐患。

以上是对本实用新型的较佳实施进行了具体说明，但本实用新型创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换，这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。

Claims (6)

1.一种全自动等离子清洗设备，包括底座，其特征在于：所述底座沿直线依次设置有：上料机构、清洗机构、转移机构和下料机构，

所述上料机构包括用于承载物料的上料载台、设置于所述上料载台的上料传输组件，所述上料传输组件用于将所述上料载台上的物料移动至靠近所述清洗机构的位置；

所述清洗机构包括真空清洗室和设置于所述真空清洗室内的电极板；

所述转移机构包括转移架、转移座、夹持座、夹具、第一驱动件、第二驱动件和第三驱动件，所述转移架设置有转移滑轨，所述转移滑轨的两端分别位于上料机构上方和下料机构上方，所述转移座滑动设置在所述转移滑轨上，所述第一驱动件驱动所述转移座在所述转移滑轨上来回移动，所述夹持座竖直滑动设置于所述转移座上，所述第二驱动件用于驱动所述夹持座上下移动，所述夹具设置于所述夹持座的底端，所述第三驱动件用于驱动所述夹具打开和闭合；

所述下料机构包括用于承载物料的下料载台、设置于所述下料载台的下料传输组件，所述下料传输组件用于将所述下料载台上的物料移动至远离所述清洗机构的位置。

2.根据权利要求1所述的一种全自动等离子清洗设备，其特征在于：所述上料载台设置有上料定位件，所述下料载台设置有下料定位件，所述转移滑轨的两端分别位于所述上料定位件和所述下料定位件的正上方。

3.根据权利要求2所述的一种全自动等离子清洗设备，其特征在于：所述上料载台开设有用于容纳所述上料传输组件的第一容纳槽，所述上料传输组件包括竖直滑动设置于所述第一容纳槽的上料架、用于驱动所述上料架上下移动的第一气缸和转动承载于所述上料架的第一传送带，所述第一传送带的一端靠近所述上料定位件；所述下料载台开设有用于容纳所述下料传输组件的第二容纳槽，所述下料传输组件包括竖直滑动设置于所述第二容纳槽的下料架、用于驱动所述下料架上下移动的第二气缸和转动承载于所述下料架的第二传送带，所述第二传送带的一端靠近所述下料定位件。

4.根据权利要求1所述的一种全自动等离子清洗设备，其特征在于：所述第一驱动件为伺服电机。

5.根据权利要求1所述的一种全自动等离子清洗设备，其特征在于：所述第二驱动件为丝杆模组。

6.根据权利要求1所述的一种全自动等离子清洗设备，其特征在于：所述夹具包括滑动设置于所述夹持座的第一夹片和第二夹片，所述第三驱动件为夹持气缸，所述夹持气缸用于驱动所述第一夹片和所述第二夹片相互靠近或相互远离。

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