CN213069238U - 一种硅基底的红外窗口片 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种硅基底的红外窗口片，该红外窗口片设有硅基底，该硅基底两侧的上表面、下底面均镀有增透膜结构，两侧增透膜结构的入射角均定义为0°±3°。该窗口片可应用到3‑5um红外探测***中，也可以用到夜视仪中，因其镀膜设计简单，镀膜材料选择普通，膜层牢固度高等优点，大大降低了窗口片制作的周期与成本。
Description
技术领域
本实用新型属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种硅基底的红外窗口片。
背景技术
3-5um红外窗口片是一种常用的红外无源器件，用于隔离探测器内部***与外界环境。目前实际应用中基底材料的选择、增透膜材料的选择制约着窗口片制作的周期与成本，常规的红外窗口片上的增透膜一般是选择锗和氟化镱作为高低折射率材料，设计层数为3-7层，厚度1.5-2um。常规技术中红外窗口片通常设置多层增透材料，物料成本以及制备工艺成本均较高，且复杂的工艺延长了红外窗口片的制作周期。本实用新型选择一氧化硅材料，设计层数为1层，增透膜为一氧化硅材料时膜层厚度为0.537-0.696um，平均透射率大于90％，极值透过率大于98％。节约成本、降低了制备工艺的步骤和生产时间，有利于扩大生产。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种制作周期更短以及制作成本更低的红外窗口片。
本实用新型提供的一种硅基底的红外窗口片，包括硅基底以及一氧化硅增透膜，所述硅基底两侧的上表面、下底面均镀有所述一氧化硅增透膜。
进一步优选，所述硅基底为单晶硅基底。
进一步优选，所述一氧化硅增透膜的入射角的范围为：[-3°,+3°]。
进一步优选，所述一氧化硅增透膜为单层膜，厚度的取值范围为：[0.5,0.6] um。
进一步优选，所述一氧化硅增透膜的厚度为：0.584um。
进一步优选，所述一氧化硅增透膜的折射率的取值范围为1.7324。
进一步优选，所述红外窗口片对3-5um波长的光纤平均透射率大于90％，极值透射率大于98％，譬如一氧化硅增透膜的平均透过率为96.97％。
进一步优选，所述红外窗口片适用的光波长范围为3-5um。
有益效果
现有的红外窗口片上的增透膜一般是选择锗和氟化镱作为高低折射率材料，而为了达到平均透射率，极值透过率等工艺要求需要，需要3-7层增透膜，而本发明选用在硅基底两侧的上表面、下底面均镀有一氧化硅增透膜，甚至仅仅单层膜就可以达到工艺需求，从而降低了制作成本以及缩短了制作周期。
附图说明
图1是本实用新型提供的红外窗口片的结构示意图；
图2是本实用新型提供的红外窗口片的光谱设计图，红外窗口片的对于 3-5um波长的光纤平均透射率大于90％，极值透射率大于98％；
其中，图1标记说明如下：
1-硅基底，2-一氧化硅增透膜。
具体实施方式
下面将结合实施例对本实用新型做进一步的说明。
如图1所示，本实用新型提供的一种硅基底的红外窗口片，包括硅基底1 以及一氧化硅增透膜2，硅基底1两侧的上表面和下底面均镀有该一氧化硅增透膜2。其中，本实施例中，硅基底1为单晶硅基底。一氧化硅增透膜2是由一氧化硅经电子束蒸发工艺镀制而成。一氧化硅增透膜2的入射角的范围为：[-3°,+3°]。且为单层膜，厚度的取值范围为：[0.5,0.6]um，折射率为1.7324。且红外窗口片对3-5um波长的光纤平均透射率大于90％，极值透射率大于98％，譬如一氧化硅增透膜的平均透过率为96.97％。
实施例1。
本实施例提供的一种硅基底的红外窗口片设有单晶硅基底，单晶硅基底的两侧均镀有适应于3-5um波段的光的一氧化硅增透膜结构，一氧化硅增透膜由一氧化硅经电子束蒸发工艺镀制而成，其厚度为0.584um，折射率为1.7324，对 3-5um波段的红外光的平均透过率为96.97％。
以上所述的具体描述，对实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限定本实用新型的保护范围，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种硅基底的红外窗口片，其特征在于：包括硅基底以及一氧化硅增透膜，所述硅基底两侧的上表面、下底面均镀有所述一氧化硅增透膜；所述一氧化硅增透膜为单层膜，厚度的取值范围为：[0.5,0.6]um；
所述红外窗口片对3-5um波长的光纤平均透射率大于90％，极值透射率大于98％。
2.根据权利要求1所述的红外窗口片，其特征在于：所述硅基底为单晶硅基底。
3.根据权利要求1所述的红外窗口片，其特征在于：所述一氧化硅增透膜的入射角的范围为：[-3°,+3°]。
4.根据权利要求1所述的红外窗口片，其特征在于：所述一氧化硅增透膜的厚度为：0.584um。
5.根据权利要求1所述的红外窗口片，其特征在于：所述一氧化硅增透膜的折射率为1.7324。
6.根据权利要求1所述的红外窗口片，其特征在于：所述红外窗口片适用的光波长范围为3-5um。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202020931129.5U CN213069238U (zh) | 2020-05-28 | 2020-05-28 | 一种硅基底的红外窗口片 |
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| CN202020931129.5U CN213069238U (zh) | 2020-05-28 | 2020-05-28 | 一种硅基底的红外窗口片 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN213069238U true CN213069238U (zh) | 2021-04-27 |
Family
ID=75565058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN202020931129.5U Active CN213069238U (zh) | 2020-05-28 | 2020-05-28 | 一种硅基底的红外窗口片 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN213069238U (zh) |
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2020
- 2020-05-28 CN CN202020931129.5U patent/CN213069238U/zh active Active
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