CN212989699U - 一种扩散片高透过率均光处理结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及扩散片技术领域，具体为一种扩散片高透过率均光处理结构，包括基材，基材的上方固定连接有第一扩散层，第一扩散层的上表面上固定设置有第一粗糙纹路，第一扩散层的上方固定设置有第二扩散层，第一扩散层与第二扩散层之间固定设置有棱镜片，第一扩散层通过棱镜片与第二扩散层固定连接，第二扩散层的上表面上固定设置有第二粗糙纹路，基材的下方固定连接有抗静电涂布层，抗静电涂布层的下表面上固定设置有第三粗糙纹路。本实用新型，通过设有第一扩散层和第二扩散层以及两层扩散层之间固定连接的棱镜片相互配合使用，保证光的高透过率，提高扩散片的透过率和利用率。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种高透过率均光处理结构，特别是涉及一种扩散片高透过率均光处理结构，属于扩散片技术领域。
背景技术
扩散片是背光模组组成之一，扩散板也有人叫它扩散片，主要功能为显示器提供一个均匀的面光源，基材需选择光透过率高的材料如PET、PC、PMMA，一般传统的扩散膜主要是在扩散膜基材中，加入一颗颗的化学颗粒，作为散射粒子，而现有之扩散板其微粒子分散在树指层之间，所以光缐在经过扩散层时会不断的再两个折射率相异的介质中穿过，在此同时光缐就会发生许多折射、反射与散射的现象，如此便造成了光学扩散的效果；
扩散片的结构从下至上通常是抗静电涂布层，PET基材，以及扩散层；
背光模组的材料的组成从下至上为反射片，导光板，下扩散片，棱镜片，上扩散片；扩散片工作原理是借有扩散物质的折射和反射将光源雾化，并将光由小角度出光集中到正面以提高正面辉度；下扩散片主要是将从导光板发出的光集中起来均匀投射到棱镜片上，而上扩散片的主要作用是将棱镜片射出的光雾化，并将光均匀透出，同时上扩也能起到保护棱镜片的作用；
现有的扩散片通常是抗静电涂布层加上基材以及扩散层，虽然基材选用PET、PC、PMMA等高透光率的材料，但背光光源在透出的过程中还是会造成一定的光损耗，造成了一定的浪费，降低了光的的透过率和利用率。
因此，亟需对扩散片的高透光率处理结构进行改进，以解决上述存在的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种扩散片高透过率均光处理结构，设有第一扩散层和第二扩散层以及两层扩散层之间固定连接的棱镜片，保证光的高透过率，提高扩散片的透过率和利用率。
为了达到上述目的，本实用新型采用的主要技术方案包括：
一种扩散片高透过率均光处理结构，包括基材，所述基材的上方固定连接有第一扩散层，所述第一扩散层的上表面上固定设置有第一粗糙纹路，所述第一扩散层的上方固定设置有第二扩散层，所述第一扩散层与所述第二扩散层之间固定设置有棱镜片，所述第一扩散层通过所述棱镜片与所述第二扩散层固定连接，所述第二扩散层的上表面上固定设置有第二粗糙纹路，所述基材的下方固定连接有抗静电涂布层，所述抗静电涂布层的下表面上固定设置有第三粗糙纹路。
优选的，所述棱镜片与所述第一扩散层及所述第二扩散层相配合的两端均设置有粘合剂，所述棱镜片通过所述粘合剂与所述第一扩散层以及所述第二扩散层固定连接。
优选的，所述第一粗糙纹路、所述第二粗糙纹路以及所述第三粗糙纹路均为多孔结构的硅藻土颗粒。
优选的，所述棱镜片的外侧面上设置有不透光胶带。
优选的，所述基材的材料为PMMA。
优选的，所述抗静电涂布层上设置有抗静电剂。
优选的，所述棱镜片与所述第一扩散层以及所述第二扩散层的外表面在同一平面上。
本实用新型至少具备以下有益效果：
1、通过设有第一扩散层和第二扩散层以及两层扩散层之间固定连接的棱镜片相互配合使用，保证光的高透过率，提高扩散片的透过率和利用率。
2、利用粗糙面结构实现聚光和光扩散的作用，使光线均匀进入再将光线往各个角度扩散射出，提高了背光光源的利用率。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：
图1为本实用新型的***示意图；
图2为本实用新型的抗静电涂布层示意图；
图3为本实用新型的棱镜片示意图；
图4为本实用新型的第二扩散层示意图。
图中，1-抗静电涂布层，2-基材，3-第一扩散层，4-第一粗糙纹路，5-第二扩散层，6-第二粗糙纹路，7-第三粗糙纹路，8-棱镜片，9-粘合剂，10-不透光胶带，11-抗静电剂。
具体实施方式
以下将配合附图及实施例来详细说明本申请的实施方式，借此对本申请如何应用技术手段来解决技术问题并达成技术功效的实现过程能充分理解并据以实施。
如图1-图4所示，本实施例提供的扩散片高透过率均光处理结构，包括基材2，基材2的上方固定连接有第一扩散层3，第一扩散层3的上表面上固定设置有第一粗糙纹路4，第一扩散层3的上方固定设置有第二扩散层5，第一扩散层3与第二扩散层5之间固定设置有棱镜片8，第一扩散层3通过棱镜片8与第二扩散层5固定连接，第二扩散层5的上表面上固定设置有第二粗糙纹路6，基材2的下方固定连接有抗静电涂布层1，抗静电涂布层1的下表面上固定设置有第三粗糙纹路7，光线照射到第三粗糙纹路7上，利用粗糙面结构实现聚光和光扩散的作用，使光线均匀进入后面各层，第一扩散层3和第二扩散层5以及之间的棱镜片8配合作用，保证光线的高透过率，最后由第二粗糙面6将光线往各个角度扩散射出，提高了背光光源的利用率，使出射光均匀。
在本实施例中，如图1和图3所示，棱镜片8与第一扩散层3及第二扩散层5相配合的两端均设置有粘合剂9，棱镜片8通过粘合剂9与第一扩散层3以及第二扩散层5固定连接，通过粘合剂9固定连接，操作简单、方便，节省工作时间，提高工作效率。
在本实施例中，如图1、图2和图4所示，第一粗糙纹路4、第二粗糙纹路6以及第三粗糙纹路7均为多孔结构的硅藻土颗粒，在提高提高光头率的同时又能提高雾度，提高扩散片的功能性。
在本实施例中，如图1和图3所示，棱镜片8的外侧面上设置有不透光胶带10，避免光透，降低光损耗，提高光的利用率。
在本实施例中，如图1所示，基材2的材料为PMMA，PMMA材料具有较高的透光率，基材1选用PMMA材料，扩散片可以提高光透量，提高背光光源光的利用率。
在本实施例中，如图1和图2所示，抗静电涂布层1上设置有抗静电剂11，在光源光透过程中起到抗静电作用。
在本实施例中，如图1所示，棱镜片8与第一扩散层3以及第二扩散层5的外表面在同一平面上，充分利用第一扩散层3以及第二扩散层5的使用面积，提高光的透过率和利用率。
如图1-图4所示，本实施例提供的扩散片高透过率均光处理结构的使用步骤如下：光线照射到第三粗糙纹路7上，利用粗糙面结构实现聚光和光扩散的作用，使光线均匀进入后面各层，第一扩散层3和第二扩散层5以及之间的棱镜片8配合作用，保证光线的高透过率，最后由第二粗糙面6将光线网各个角度扩散射出，提高了背光光源的利用率，使出射光均匀。
如在说明书及权利要求当中使用了某些词汇来指称特定组件。本领域技术人员应可理解，硬件制造商可能会用不同名词来称呼同一个组件。本说明书及权利要求并不以名称的差异来作为区分组件的方式，而是以组件在功能上的差异来作为区分的准则。如在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包含”为一开放式用语，故应解释成“包含但不限定于”。“大致”是指在可接收的误差范围内，本领域技术人员能够在一定误差范围内解决技术问题，基本达到技术效果。
需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的商品或者***不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种商品或者***所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括要素的商品或者***中还存在另外的相同要素。
上述说明示出并描述了本实用新型的若干优选实施例，但如前所述，应当理解本实用新型并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述实用新型构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本实用新型的精神和范围，则都应在本实用新型所附权利要求的保护范围内。
Claims (7)
1.一种扩散片高透过率均光处理结构，包括基材（2），其特征在于，所述基材（2）的上方固定连接有第一扩散层（3），所述第一扩散层（3）的上表面上固定设置有第一粗糙纹路（4），所述第一扩散层（3）的上方固定设置有第二扩散层（5），所述第一扩散层（3）与所述第二扩散层（5）之间固定设置有棱镜片（8），所述第一扩散层（3）通过所述棱镜片（8）与所述第二扩散层（5）固定连接，所述第二扩散层（5）的上表面上固定设置有第二粗糙纹路（6），所述基材（2）的下方固定连接有抗静电涂布层（1），所述抗静电涂布层（1）的下表面上固定设置有第三粗糙纹路（7）。
2.根据权利要求1所述的一种扩散片高透过率均光处理结构，其特征在于：所述棱镜片（8）与所述第一扩散层（3）及所述第二扩散层（5）相配合的两端均设置有粘合剂（9），所述棱镜片（8）通过所述粘合剂（9）与所述第一扩散层（3）以及所述第二扩散层（5）固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种扩散片高透过率均光处理结构，其特征在于：所述第一粗糙纹路（4）、所述第二粗糙纹路（6）以及所述第三粗糙纹路（7）均为多孔结构的硅藻土颗粒。
4.根据权利要求1所述的一种扩散片高透过率均光处理结构，其特征在于：所述棱镜片（8）的外侧面上设置有不透光胶带（10）。
5.根据权利要求1所述的一种扩散片高透过率均光处理结构，其特征在于：所述基材（2）的材料为PMMA。
6.根据权利要求1所述的一种扩散片高透过率均光处理结构，其特征在于：所述抗静电涂布层（1）上设置有抗静电剂（11）。
7.根据权利要求1所述的一种扩散片高透过率均光处理结构，其特征在于：所述棱镜片（8）与所述第一扩散层（3）以及所述第二扩散层（5）的外表面在同一平面上。
Priority Applications (1)
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| CN202022064026.6U CN212989699U (zh) | 2020-09-21 | 2020-09-21 | 一种扩散片高透过率均光处理结构 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113641062A (zh) * | 2021-08-16 | 2021-11-12 | 深圳市火乐科技发展有限公司 | 扩散片组件、光束消散斑装置以及投影仪 |
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2020
- 2020-09-21 CN CN202022064026.6U patent/CN212989699U/zh active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN113641062A (zh) * | 2021-08-16 | 2021-11-12 | 深圳市火乐科技发展有限公司 | 扩散片组件、光束消散斑装置以及投影仪 |
| CN113641062B (zh) * | 2021-08-16 | 2023-03-14 | 深圳市火乐科技发展有限公司 | 扩散片组件、光束消散斑装置以及投影仪 |
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