CN212460196U - 一种微显示器 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种微显示器，该微显示器包括：显示面板，显示面板包括由多个像素单元组成的像素单元层；棱镜，棱镜位于像素单元层的表面，棱镜用于改变像素单元发出的光的传播方向；多个反射式微纳米结构颜色滤光片，一反射式微纳米结构颜色滤光片用于将一像素单元发出的光恢复至初始传播方向，并以滤光波长出射。本实用新型实施例提供的技术方案，降低了微显示器制作过程中对环境的污染程度。

Description

一种微显示器

技术领域

本实用新型实施例涉及半导体技术领域，尤其涉及一种微显示器。

背景技术

微显示器因其体积小、质量轻，在头盔显示器以及头戴式显示器中的应用越来越广泛。

现有的微显示器中像素单元发出的光经过滤光片转换为特定颜色的光。现有的滤光片包括有机染料，其对环境污染严重。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型实施例提供了一种微显示器，降低了微显示器制作过程中对环境的污染程度。

本实用新型实施例提供了一种微显示器，包括：

显示面板，所述显示面板包括由多个像素单元组成的像素单元层；

棱镜，所述棱镜位于所述像素单元层的第一表面之上，所述棱镜用于改变所述像素单元发出的光的传播方向；

多个反射式微纳米结构颜色滤光片，一所述反射式微纳米结构颜色滤光片用于将一所述像素单元发出的光恢复至初始传播方向，并以滤光波长出射。

可选地，所述棱镜包括全反射棱镜，所述全反射棱镜包括至少一个直角边，所述全反射棱镜的至少一个直角边与所述像素单元层平行设置。

可选地，所述反射式微纳米结构颜色滤光片包括红色反射式微纳米结构颜色滤光片、绿色反射式微纳米结构颜色滤光片以及蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片中的一种或多种。

可选地，所述反射式微纳米结构颜色滤光片包括第一基底以及位于第一基底表面的依次叠层设置的底层金属层、介质层和顶层金属层，所述底层金属层的厚度大于所述顶层金属层的厚度。

可选地，所述介质层的厚度与所述反射式微纳米结构颜色滤光片的滤光波长呈正比。

可选地，所述底层金属层包括银底层金属层、铝底层金属层以及镁银合金底层金属层中的一种或多种；和/或，

所述顶层金属层包括银底层金属层、铝底层金属层以及镁银合金底层金属层中的一种或多种。

可选地，所述介质层包括氧化硅介质层或者非晶硅介质层。

可选地，所述反射式微纳米结构颜色滤光片包括第二基底以及位于所述第二基底表面的依次叠层设置的波导层和预设狭缝宽度的波导光栅层。

可选地，所述波导光栅层的预设狭缝宽度与所述反射式微纳米结构颜色滤光片的滤光波长呈正比。

可选地，所述波导光栅层的预设狭缝宽度包括274纳米、327纳米以及369纳米中的一种或多种。

可选地，所述波导层包括氮化硅波导层；和/或，所述波导光栅层包括氮化硅波导光栅层。

可选地，所述像素单元层包括硅基板和发光器件层，所述发光器件层位于所述硅基板的表面。

可选地，所述显示面板还包括印刷电路板，所述印刷电路板位于所述像素单元层的所述第一表面。

可选地，所述显示面板还包括薄膜封装层和盖板；

所述薄膜封装层位于所述像素单元层与所述第一表面相对的第二表面；

所述盖板位于所述薄膜封装层远离所述像素单元层的一侧。

本实施例提供的技术方案中，从像素单元出射的光经过棱镜，经过棱镜反射至反射式微纳米结构颜色滤光片，像素单元出射的光中滤光波长的光在反射式微纳米结构颜色滤光片内以谐振状态传播，并且恢复至初始传播方向，以滤光波长出射，其光强会大大增强，进而提升了微显示器的画面显示质量。其中，反射式微纳米结构颜色滤光片不涉及有机染料，可以降低微显示器制作过程中对环境的污染程度。相比包括有机染料的滤光片，反射式微纳米结构颜色滤光片随着环境温度的变化仍然保持稳定的物理化学性能，使得反射式微纳米结构颜色滤光片随着环境温度的变化具有稳定的滤光性能。此外，相比直接将滤光片制作在显示面板中的技术方案，本实施例中，棱镜和反射式微纳米结构颜色滤光片无需集成在显示面板中，可以避免在显示面板中制作过多膜层，对显示面板中像素单元显示画面的不良影响，以提高微显示器的画面显示质量。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的一种微显示器的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的另一种微显示器的结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的又一种微显示器的结构示意图；

图4为本实用新型实施例提供的又一种微显示器的结构示意图；

图5为本实用新型实施例提供的又一种微显示器的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。

正如上述背景技术中所述，现有的微显示器中滤光片的制备过程对环境污染严重。究其原因，现有的微显示器中滤光片采用的是吸收型的颜色滤光片，包括有机染料，通过有机染料吸收不同波长的入射光，呈现特定颜色。而有机染料的制备过程中对环境污染严重。

针对上述技术问题，本实用新型实施例提供了如下技术方案：

图1为本实用新型实施例提供的一种微显示器的结构示意图。参见图1，该微显示器包括：显示面板10，显示面板10包括由多个像素单元11A组成的像素单元层11；棱镜20，棱镜20位于像素单元层11的第一表面之上，棱镜20用于改变像素单元11A发出的光的传播方向；多个反射式微纳米结构颜色滤光片30，一反射式微纳米结构颜色滤光片30用于将一像素单元11A发出的光恢复至初始传播方向，并以滤光波长出射。

具体的，从像素单元11A出射的光经过棱镜20，经过棱镜20反射至反射式微纳米结构颜色滤光片30，像素单元11A出射的光中滤光波长的光在反射式微纳米结构颜色滤光片30内以谐振状态传播，以滤光波长出射。需要说明的是，滤光波长的光在反射式微纳米结构颜色滤光片30内以谐振状态传播，其光强会大大增强，进而提升了微显示器的画面显示质量。

本实施例提供的技术方案中，从像素单元11A出射的光经过棱镜20，经过棱镜20反射至反射式微纳米结构颜色滤光片30，像素单元11A出射的光中滤光波长的光在反射式微纳米结构颜色滤光片30内以谐振状态传播，并且恢复至初始传播方向，以滤光波长出射，其光强会大大增强，进而提升了微显示器的画面显示质量。其中，反射式微纳米结构颜色滤光片30不涉及有机染料，可以降低微显示器制作过程中对环境的污染程度。相比包括有机染料的滤光片，反射式微纳米结构颜色滤光片30随着环境温度的变化仍然保持稳定的物理化学性能，使得反射式微纳米结构颜色滤光片30随着环境温度的变化具有稳定的滤光性能。此外，相比直接将滤光片制作在显示面板中的技术方案，本实施例中，棱镜20和反射式微纳米结构颜色滤光片30无需集成在显示面板中，可以避免在显示面板中制作过多膜层，对显示面板中像素单元11A显示画面的不良影响，以提高微显示器的画面显示质量。

可选地，参见图1，棱镜20包括全反射棱镜，全反射棱镜包括至少一个直角边，全反射棱镜的至少一个直角边与像素单元层11平行设置。

具体的，利用全发射棱镜的全反射特性，可高效地将从像素单元11A出射的光经过棱镜20全反射至反射式微纳米结构颜色滤光片30，像素单元11A出射的光中滤光波长的光在反射式微纳米结构颜色滤光片30内以谐振状态传播，并且恢复至初始传播方向，以滤光波长出射。

为了使得微显示器可以显示彩色的画面，本实施例提供了如下技术方案：

图2为本实用新型实施例提供的另一种微显示器的结构示意图。可选地，参见图2，反射式微纳米结构颜色滤光片30包括红色反射式微纳米结构颜色滤光片30A、绿色反射式微纳米结构颜色滤光片30B以及蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片30C中的一种或多种。

具体的，像素单元11A发出的光经过棱镜20反射至红色反射式微纳米结构颜色滤光片30A，以红光出射。像素单元11A发出的光经过棱镜20反射至绿色反射式微纳米结构颜色滤光片30B以绿光出射。像素单元11A发出的光经过棱镜20反射至蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片30C以蓝光出射。示例性的，像素单元层11包括的多个像素单元11A统一发出白色的光，通过合理配置红色反射式微纳米结构颜色滤光片30A、绿色反射式微纳米结构颜色滤光片30B以及蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片30C的位置和数量，以使微显示器可以显示彩色的画面。

下面具体介绍反射式微纳米结构颜色滤光片30的具体结构。

图3为本实用新型实施例提供的又一种微显示器的结构示意图。可选地，参见图3，该反射式微纳米结构颜色滤光片30包括第一基底31以及位于第一基底31表面的依次叠层设置的底层金属层32A、介质层32B和顶层金属层32C，底层金属层32A的厚度大于顶层金属层32C的厚度。

示例性的，图3示出的底层金属层32A是分立且间隔设置的。需要说明的是，底层金属层32A还可以是连续的。第一基底31可以选取硅基底。本实施例中可以通过等离子体增强化学气相沉积的方法制备介质层32B。底层金属层32A和顶层金属层32C可以采用热蒸发技术制备。

具体的，底层金属层32A的厚度大于顶层金属层32C的厚度，使得像素单元11A发出的光经过棱镜20后，反射至反射式微纳米结构颜色滤光片30，从顶层金属层32C透射进入介质层32B中，像素单元11A发出的光中滤光波长的光在介质层32B中以谐振状态传播，然后通过底层金属层32A的反射作用，穿过顶层金属层32C以滤光波长的光出射，其光强会大大增强，进而提升了微显示器的画面显示质量。

需要说明的是，介质层32B的介电常数大于底层金属层32A和顶层金属层32C，因此可以允许滤光波长的光在介质层32B内以谐振状态传播。介质层32B的厚度与滤光波长有关，因此可以通过调节介质层32B的厚度来调节底层金属层32A、介质层32B和顶层金属层32C构成的反射式微纳米结构颜色滤光片30的滤光波长。

反射式微纳米结构颜色滤光片30包括依次叠层设置的底层金属层32A、介质层32B和顶层金属层32C，其中底层金属层32A、介质层32B和顶层金属层32C构成法布里-玻罗腔(Fabry-Pérot)干涉型滤光片。像素单元11A发出的光经过棱镜20后，反射至反射式微纳米结构颜色滤光片30，从顶层金属层32C进入介质层32B中，像素单元11A发出的光中滤光波长的光在介质层32B中以谐振状态传播，然后通过底层金属层32A的反射作用，穿过顶层金属层32C以滤光波长的光出射，其光强会大大增强，进而提升了微显示器的画面显示质量。其中，底层金属层32A、介质层32B和顶层金属层32C均不涉及有机染料，可以降低微显示器制作过程中对环境的污染程度。且相比包括有机染料的滤光片，底层金属层32A、介质层32B和顶层金属层32C构成的反射式微纳米结构颜色滤光片30随着环境温度的变化仍然保持稳定的物理化学性能，使得反射式微纳米结构颜色滤光片30随着环境温度的变化具有稳定的滤光性能。

由于介质层32B的厚度与反射式微纳米结构颜色滤光片30的滤光波长有关，下面具体介绍通过调节介质层32B的厚度来调节反射式微纳米结构颜色滤光片30的滤光波长的技术方案：

可选地，介质层32B的厚度与反射式微纳米结构颜色滤光片30的滤光波长呈正比。

参见图3，红色反射式微纳米结构颜色滤光片30A、绿色反射式微纳米结构颜色滤光片30B以及蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片30C中，红色反射式微纳米结构颜色滤光片30A的介质层32B的厚度大于绿色反射式微纳米结构颜色滤光片30B的介质层32B的厚度，绿色反射式微纳米结构颜色滤光片30B的介质层32B的厚度大于蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片30C的介质层32B的厚度。示例性的，红色反射式微纳米结构颜色滤光片30A的介质层32B的厚度约为28纳米。绿色反射式微纳米结构颜色滤光片30B的介质层32B的厚度约为15纳米，蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片30C的介质层32B的厚度约为9纳米。具体的，介质层32B的厚度与反射式微纳米结构颜色滤光片30的滤光波长呈正比，通过控制介质层32B的厚度这一变化量，可以方便且简单地制备预设滤光波长的滤光片，相比现有滤波片通过改变有机染料的配比来实现滤光波长的改变，简化了制作工艺。

可选地，底层金属层32A包括银底层金属层、铝底层金属层以及镁银合金底层金属层中的一种或多种；和/或，顶层金属层32C包括银底层金属层、铝底层金属层以及镁银合金底层金属层中的一种或多种。

具体的，银底层金属层、铝底层金属层以及镁银合金底层金属层在预设厚度范围内反射性能比较好，有利于将滤光波长的光反射回顶层金属层32C以滤光波长的光出射，且材料价格便宜，降低了反射式微纳米结构颜色滤光片的生产成本。

具体的，银顶层金属层、铝顶层金属层以及镁银合金顶层金属层在预设厚度范围内透光性能比较好，有利于像素单元11A发出的光通过顶层金属层32C进入介质层32B中以谐振状态传播，且材料价格便宜，降低了滤光片的生产成本。

需要说明的是，本实用新型实施例提供的底层金属层32A和顶层金属层32C包括但并不限定于上述材料制成的膜层。

可选地，参见图3，介质层32B包括氧化硅介质层或者非晶硅介质层。

具体的，氧化硅介质层或者非晶硅介质层的介电常数比较高，有助于滤波波长的光在介质层32B内传播，而不会在传播的过程中从介质层32B中出射。需要说明的是，本实用新型实施例提供的介质层32B包括但并不限定于上述材料制成的膜层。

图4为本实用新型实施例提供的又一种微显示器的结构示意图。可选地，参见图4，反射式微纳米结构颜色滤光片30包括第二基底33以及位于第二基底33表面的依次叠层设置的波导层34A以及预设狭缝宽度的波导光栅层34B。

示例性的，第二基底33可以选取硅基底。在本实施例中可以通过等离子体增强化学气相沉积的方法制备波导层34A和波导光栅层34B。

像素单元11A发出的光经过棱镜20反射至反射式微纳米结构颜色滤光片30，像素单元11A发出的光中滤光波长的光在波导层34A内以谐振状态传播，并且可以通过调节波导光栅层34B的预设狭缝宽度来调节反射式微纳米结构颜色滤光片30的滤光波长，最后以滤光波长从波导光栅层34B出射，其光强会大大增强，进而提升了微显示器的画面显示质量。其中，波导层34A和预设狭缝宽度的波导光栅层34B均不涉及有机染料，可以降低微显示器制作过程中对环境的污染程度。且相比包括有机染料的滤光片，波导层34A和预设狭缝宽度的波导光栅层34B构成的反射式微纳米结构颜色滤光片30随着环境温度的变化仍然保持稳定的物理化学性能，使得反射式微纳米结构颜色滤光片30随着环境温度的变化具有稳定的滤光性能。

由于波导光栅层34B的预设狭缝宽度与反射式微纳米结构颜色滤光片30的滤光波长有关，下面具体介绍通过调节波导光栅层34B的预设狭缝宽度来调节反射式微纳米结构颜色滤光片30的滤光波长的技术方案：

可选地，波导光栅层34B的预设狭缝宽度与反射式微纳米结构颜色滤光片30的滤光波长呈正比。

参见图4，红色反射式微纳米结构颜色滤光片30A、绿色反射式微纳米结构颜色滤光片30B以及蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片30C中，红色反射式微纳米结构颜色滤光片30A的波导光栅层34B的预设狭缝宽度大于绿色反射式微纳米结构颜色滤光片30B的波导光栅层34B的预设狭缝宽度，蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片30C的波导光栅层34B的预设狭缝宽度大于蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片30C的波导光栅层34B的预设狭缝宽度。

具体的，波导光栅层34B的预设狭缝宽度与反射式微纳米结构颜色滤光片30的滤光波长呈正比，通过控制波导光栅层34B的预设狭缝宽度这一变化量，可以方便且简单地制备预设滤光波长的滤光片，相比现有滤波片通过改变有机染料的配比来实现滤光波长的改变，简化了制作工艺。

可选地，波导光栅层34B的预设狭缝宽度包括274纳米、327纳米以及369纳米中的一种或多种。具体的，红色反射式微纳米结构颜色滤光片30A的波导光栅层34B的预设狭缝宽度为369纳米，绿色反射式微纳米结构颜色滤光片30B的波导光栅层34B的预设狭缝宽度为327纳米，蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片30C的波导光栅层34B的预设狭缝宽度为274纳米。示例性的，像素单元层11包括的多个像素单元11A统一发出白色的光，通过合理配置红色反射式微纳米结构颜色滤光片30A、绿色反射式微纳米结构颜色滤光片30B以及蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片30C的位置和数量，以使微显示器可以显示彩色的画面。

可选地，波导层34A包括氮化硅波导层；和/或，波导光栅层34B包括氮化硅波导光栅层。

需要说明的是，本实用新型实施例提供的波导层34A以及波导光栅层34B包括但并不限定于上述材料制成的膜层。

在上述技术方案中，像素单元层11中像素单元11A发出的光经过棱镜20反射至反射式微纳米结构颜色滤光片30转换为特定颜色的光，以完成微显示器的画面显示。下面具体介绍像素单元层11内部的具体结构。

图5为本实用新型实施例提供的又一种微显示器的结构示意图。参见图5，像素单元层11包括硅基板110和发光器件层120，发光器件层120位于硅基板110的表面。

需要说明的是，发光器件层120包括多个分立的阳极121、发光层122和阴极层123，每一阳极121、以及与阳极121对应的发光层122和阴极层123组成一个像素单元11A。其中，发光层122可以包括依次叠层设置的空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层和电子注入层，其中，空穴注入层和阳极121接触，电子注入层和阴极层123接触。载流子从空穴注入层和电子注入层，经过空穴传输层和电子传输层的传输到达有机发光层中复合发光。硅基板110上设置有驱动像素单元11A的驱动电路。其中硅基板110上设置有过孔110A，将硅基板110紧邻阳极121一侧的电信号引至硅基板110远离阳极121一侧的表面。

在硅基板110上以硅材料作为有源层，通过CMOS集成电路工艺形成驱动电路，其中，驱动电路包括的薄膜晶体管具有较高的载流子迁移率和漂移较小的阈值电压。该硅基板110上驱动电路的制备采用CMOS集成电路而非薄膜晶体管工艺的优点是：1、薄膜晶体管的生产工艺中，其特征尺寸相对较大，通常为几至几十微米，而通过CMOS集成电路工艺以硅材料作为有源层形成驱动电路，制备的驱动晶体管的尺寸可以降低到微米以下，相对应的，可以在硅基板110表面形成间距十微米左右的像素单元11A，大大降低了整个显示面板的尺寸。2、CMOS集成电路工艺已经相当成熟，可以通过集成电路代工厂生产，产品良率高。3、CMOS集成电路工艺能耗低。因此，包括硅基板110的显示面板具有寿命高、体积小、重量轻、产品良率高、能耗低等优点。

需要说明的是，包括硅基板110的显示面板称之为硅基显示面板。硅基显示面板因具有寿命高、体积小、重量轻、产品良率高、能耗低等优点在智能手机、智能穿戴显示器等显示装置中的应用越来越广泛。

本实用新型实施例还提供了一种像素单元层的制备方法，该方法包括：提供硅基板，在硅基板上定义若干个像素单元区域，并在像素单元区域制备发光器件层。其中发光器件层的制备过程包括：在像素单元区域制备阳极、发光层和阴极层。

可选地，参见图5，该显示面板还包括印刷电路板12，印刷电路板12位于像素单元层11的第一表面。

需要说明的是，印刷电路板12上设置有焊盘，该焊盘通过过孔110A与硅基板110上的驱动电路实现电连接，用于为驱动电路提供驱动信号，以实现显示面板进行画面的显示。

可选地，参见图5，该显示面板还包括薄膜封装层13和盖板14；薄膜封装层13位于像素单元层11与第一表面相对的第二表面；盖板14位于薄膜封装层13远离像素单元层11的一侧。

具体的，薄膜封装层13可以是有机膜层、无机膜层或者有机膜层和无机膜层形成的堆叠结构，用于防止外界水氧侵入像素单元层11。薄膜封装层13示例性的可以是氧化铝/氧化钛/氧化硅组成的堆叠结构。盖板14示例性的包括玻璃盖板。其中盖板14和薄膜封装层13之间设置有粘结层15，用于将盖板14固定于薄膜封装层13的表面。示例性的，粘结层15可以选择无影(Ultraviolet Rays，UV)胶。无影胶又称光敏胶、紫外光固化胶，无影胶是一种通过紫外线光照射才能固化的一类胶粘剂。

需要说明的是，本实用新型中示出微显示器包括的显示面板中示例性的示出了3个像素单元11A。

本实用新型实施例提供微显示器包括的显示面板，可以是有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示面板或有机发光二极管微显示面板(Micro-OLED)。

注意，上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (14)

1.一种微显示器，其特征在于，包括：

显示面板，所述显示面板包括由多个像素单元组成的像素单元层；

棱镜，所述棱镜位于所述像素单元层的第一表面之上，所述棱镜用于改变所述像素单元发出的光的传播方向；

多个反射式微纳米结构颜色滤光片，一所述反射式微纳米结构颜色滤光片用于将一所述像素单元发出的光恢复至初始传播方向，并以滤光波长出射。

2.根据权利要求1所述的微显示器，其特征在于，所述棱镜包括全反射棱镜，所述全反射棱镜包括至少一个直角边，所述全反射棱镜的至少一个直角边与所述像素单元层平行设置。

3.根据权利要求1所述的微显示器，其特征在于，所述反射式微纳米结构颜色滤光片包括红色反射式微纳米结构颜色滤光片、绿色反射式微纳米结构颜色滤光片以及蓝色反射式微纳米结构颜色滤光片中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的微显示器，其特征在于，所述反射式微纳米结构颜色滤光片包括第一基底以及位于第一基底表面的依次叠层设置的底层金属层、介质层和顶层金属层，所述底层金属层的厚度大于所述顶层金属层的厚度。

5.根据权利要求4所述的微显示器，其特征在于，所述介质层的厚度与所述反射式微纳米结构颜色滤光片的滤光波长呈正比。

6.根据权利要求4所述的微显示器，其特征在于，所述底层金属层包括银底层金属层、铝底层金属层以及镁银合金底层金属层中的一种或多种；和/或，

所述顶层金属层包括银底层金属层、铝底层金属层以及镁银合金底层金属层中的一种或多种。

7.根据权利要求4所述的微显示器，其特征在于，所述介质层包括氧化硅介质层或者非晶硅介质层。

8.根据权利要求1所述的微显示器，其特征在于，所述反射式微纳米结构颜色滤光片包括第二基底以及位于所述第二基底表面的依次叠层设置的波导层和预设狭缝宽度的波导光栅层。

9.根据权利要求8所述的微显示器，其特征在于，所述波导光栅层的预设狭缝宽度与所述反射式微纳米结构颜色滤光片的滤光波长呈正比。

10.根据权利要求8所述的微显示器，其特征在于，所述波导光栅层的预设狭缝宽度包括274纳米、327纳米以及369纳米中的一种或多种。

11.根据权利要求8所述的微显示器，其特征在于，所述波导层包括氮化硅波导层；和/或，所述波导光栅层包括氮化硅波导光栅层。

12.根据权利要求1所述的微显示器，其特征在于，所述像素单元层包括硅基板和发光器件层，所述发光器件层位于所述硅基板的表面。

13.根据权利要求1所述的微显示器，其特征在于，所述显示面板还包括印刷电路板，所述印刷电路板位于所述像素单元层的所述第一表面。

14.根据权利要求1所述的微显示器，其特征在于，所述显示面板还包括薄膜封装层和盖板；

所述薄膜封装层位于所述像素单元层与所述第一表面相对的第二表面；

所述盖板位于所述薄膜封装层远离所述像素单元层的一侧。

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