CN211420246U - 一种用于连续式光亮处理炉的下料装置 - Google Patents
一种用于连续式光亮处理炉的下料装置 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开了一种热处理设备,旨在提供一种用于连续式光亮处理炉的下料装置,其技术方案要点是包括处理炉与置于处理炉出料端的支架,所述下料支架表面设置有下料板,所述下料板远离处理炉的一端活动连接于所述支架,所述支架设置有用于驱动所述下料板靠近处理炉一端升降的驱动组件,所述支架表面位于下料板远离处理炉的一侧设置有挡料板,支架位于挡料板与下料板之间设置有输料装置本实用新型可对工件进行连续平稳的下料,减少了人工成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及热处理设备领域,更具体地说,它涉及一种用于连续式光亮处理炉的下料装置。
背景技术
连续式处理炉对金属工件进行各种金属处理的工业炉的统称,温度一般较加热炉为低,热处理炉可以采用各种加热炉的炉型,但要求较严格地控制炉温和炉内气氛等,热处理炉大多使用气体燃料加热,为了准确控制炉温,有的热处理炉采用电加热。
现有的连续式热处理炉在进行工作时,工件从炉内尾部进行出料时,需要人工对其进行下料,人工成本较高。
因此需要提出一个新的技术方案来解决上述技术问题。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种用于连续式光亮处理炉的下料装置。
实用新型提供了如下技术方案:一种用于连续式光亮处理炉的下料装置,包括处理炉与置于处理炉出料端的支架,所述支架表面设置有下料板,所述下料板远离处理炉的一端活动连接于所述支架,所述支架设置有用于驱动所述下料板靠近处理炉一端升降的驱动组件,所处理炉的下料装置。
为实现上述目的,本述支架表面位于下料板远离处理炉的一侧设置有挡料板,支架位于挡料板与下料板之间设置有输料装置。
通过采用上述技术方案,在处理炉进行出料时,物料从处理炉的出料口输送到下料板一端的表面,通过驱动组件带动下料板靠近处理炉的一端上升,从而使得下料板发送倾斜,从而使得物料沿着下料板进行下料,并通过挡料板防止工件从支架表面滑落,并通过输料装置将工件从支架表面运走,以便下个工件进行下料,以对工件进行平稳的下料。
本实用新型进一步设置为:所述驱动组件包括固定铰接于所述下料板下表面的支杆,所述支架上表面开设有供所述支杆沿竖直方向滑动的滑动槽,所述支架的一个侧壁开设有连通于所述滑动槽的滑槽,所述滑槽成水平设置且其内部滑动连接有驱动杆,所述驱动杆的端部与所述支杆的底端成互相平行并抵接的斜面,所述支架侧壁安装有用于驱动所述驱动杆的汽缸。
通过采用上述技术方案,在工件被传输到下料板表面时,汽缸带动驱动杆朝向支杆运动,从而带动支杆向上运动,带动下料板朝向挡板倾斜,使得工件滑落到输料装置上,以对工件进行持续下料。
本实用新型进一步设置为:所述下料板的表面转动连接有若干垂直于下料板长度方向的下料辊。
通过采用上述技术方案,减少工件与下料板之间的摩擦力,使得工件能够顺利地从下料板滑落,切能够减少对工件下表面的磨损,提升工件最终的成品品质。
附图说明
图1为本实用新型实施例的整体结构示意图;
图2为本实用新型部分结构的剖面示意图;
图3为本实用新型部分结构的俯视示意图;
图4为挡料板的剖面结构示意图。
具体实施方式
参照图1至图4对本实用新型实施例做进一步说明。
一种用于连续式光亮处理炉的下料装置,包括处理炉1与置于处理炉1出料端的支架2,支架2表面设置有下料板3,下料板3远离处理炉1的一端铰接于支架2的上表面,支架2设置有用于驱动下料板3靠近处理炉1一端升降的驱动组件,支架2表面位于下料板3远离处理炉1的一侧固定连接有竖直的挡料板4,挡料板4朝向下料板3的表面固定连接有缓冲垫5,以对工件起到保护作用,支架2位于挡料板4与下料板3之间设置有输料装置10,其具体为输送带。
在处理炉1进行出料时,物料从处理炉1的出料口输送到下料板3一端的表面,通过驱动组件带动下料板3靠近处理炉1的一端上升,从而使得下料板3发送倾斜,从而使得物料沿着下料板3进行下料,并通过挡料板4防止工件从支架2表面滑落,并通过输料装置10将工件从支架2表面运走,以便下个工件进行下料。
驱动组件包括固定铰接于下料板3下表面的支杆6,支架2上表面开设有供支杆6沿竖直方向滑动的滑动槽,支架2的一个侧壁开设有连通于滑动槽的滑槽,滑槽成水平设置且其内部滑动连接有驱动杆7,驱动杆7的端部与支杆6的底端成互相平行并抵接的斜面,支架2侧壁安装有汽缸8,汽缸8的活塞杆伸入滑槽内并固定连接于驱动杆7的端部,在工件被传输到下料板3表面时,汽缸8带动驱动杆7朝向支杆6运动,从而带动支杆6向上运动,带动下料板3朝向挡板倾斜,使得工件滑落到输料装置10上,以对工件进行持续下料。
下料板3的表面转动连接有若干垂直于下料板3长度方向的下料辊9,减少工件与下料板3之间的摩擦力,使得工件能够顺利地从下料板3滑落,切能够减少对工件下表面的磨损,提升工件最终的成品品质。
以上仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,本领域的技术人员在本实用新型技术方案范围内进行通常的变化和替换都应包含在本实用新型的保护范围内。
Claims (3)
1.一种用于连续式光亮处理炉的下料装置,包括处理炉与置于处理炉出料端的支架,其特征是:所述支架表面设置有下料板,所述下料板远离处理炉的一端活动连接于所述支架,所述支架设置有用于驱动所述下料板靠近处理炉一端升降的驱动组件,所述支架表面位于下料板远离处理炉的一侧设置有挡料板,支架位于挡料板与下料板之间设置有输料装置。
2.根据权利要求1所述的一种用于连续式光亮处理炉的下料装置,其特征是:所述驱动组件包括固定铰接于所述下料板下表面的支杆,所述支架上表面开设有供所述支杆沿竖直方向滑动的滑动槽,所述支架的一个侧壁开设有连通于所述滑动槽的滑槽,所述滑槽成水平设置且其内部滑动连接有驱动杆,所述驱动杆的端部与所述支杆的底端成互相平行并抵接的斜面,所述支架侧壁安装有用于驱动所述驱动杆的汽缸。
3.根据权利要求2所述的一种用于连续式光亮处理炉的下料装置,其特征是:所述下料板的表面转动连接有若干垂直于下料板长度方向的下料辊。
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CN201922142687.3U CN211420246U (zh) | 2019-12-04 | 2019-12-04 | 一种用于连续式光亮处理炉的下料装置 |
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CN201922142687.3U Active CN211420246U (zh) | 2019-12-04 | 2019-12-04 | 一种用于连续式光亮处理炉的下料装置 |
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