CN211086152U - 一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，包括压块和定位圆块；所述压块是由螺柱和围绕螺柱下端外壁均布的多个支撑块组成的锤状结构；所述定位圆块中间形成Ⅰ号连接螺孔，圆周壁上形成多个Ⅱ号连接螺孔；螺柱与Ⅰ号连接螺孔螺纹连接；压块放入试样筒内，底面与片状试样上表面接触，支撑块外套设镶嵌块。本实用新型提供了一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，实现了片状试样沿垂直于厚向的EBSD制样，适用性强，制样效率较高，花样质量较好。

Description

一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置

技术领域

本实用新型属于EBSD试样制备技术领域，具体涉及一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置。

背景技术

电子背散射衍射（EBSD）技术是进行快速且准确的晶体取向测量和相鉴定的分析工具。由于它与扫描电镜（SEM）同时工作，使得显微组织（如晶粒、相、界面、形变等）能与晶体学关系相联系。该技术已成为继X射线衍射和电子衍射后的一种微区物相鉴定和微区织构分析新方法。

根据EBSD原理，花样激发区域只存在于试样表面的极浅表层（10nm-30nm的深度范围），所以EBSD分析对试样表面状态非常敏感。为了提高花样质量及排除误差因素，试样表面必须不残留磨抛划痕及加工应变层，还要平滑、无氧化膜、无连续的腐蚀坑。这就对EBSD的制样方法及效果提出了较高的要求。

EBSD试样的制备过程一般是先采用预磨抛，即在砂纸上预磨试样，然后用直径小于1μm抛光介质（氧化铝、氧化硅）将试样表面抛光到镜面状态，再通过震动抛光、电解抛光或离子减薄等方法消除试样表面的应变层。在预磨抛阶段，一般采用制样方法有：冷热镶嵌法、粘贴法及夹具夹持法。在以上三种方法中，粘贴法由于必须采用溶剂（酒精或丙酮）洗掉粘结剂，造成已抛光的试样表面容易受到粘结剂污染，从而影响观察效果。采用夹具夹持法磨抛试样，较小的夹持力可能会导致试样在磨抛过程中的飞脱，过大的夹持力很容易造成试样的局部变形，增加后续工序的难度及工作量。CN107121324 A公开了一种薄片板类金相试样磨抛夹具及其工作方法，但是夹具螺钉可能会造成薄板试样的变形，而且该夹具仅能磨抛试样的含厚向平面，应用范围有限。由于磨制面积较大，冷热镶嵌法可以较好地控制试样磨面从而得到质量较好的EBSD试样。但是由于镶嵌料不导电，试样必须取出以满足EBSD检测要求。但是采用常规镶样装置，试样不易取出，从而限制了镶嵌法在EBSD试样制备中的应用。

实用新型内容

本实用新型是为了克服现有技术中存在的缺点而提出的，其目的是提供一种 。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：

一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，包括压块和定位圆块；所述压块是由螺柱和围绕螺柱下端外壁均布的多个支撑块组成的锤状结构；所述定位圆块中间形成Ⅰ号连接螺孔，圆周壁上形成多个Ⅱ号连接螺孔；螺柱与Ⅰ号连接螺孔螺纹连接；压块放入试样筒内，底面与片状试样上表面接触，支撑块外套设镶嵌块。

在上述技术方案中，还包括用于从镶嵌试样中取出锤状压块的限位块和多个力臂柱。

在上述技术方案中，所述限位块为环向形成缺口的圆环形结构，其底面形成与支撑块相同数量的突起。

在上述技术方案中，所述突起的投影面积小于相邻支撑块上表面间隙的面积。

在上述技术方案中，所述力臂柱一端柱面形成外螺纹，且此端与Ⅱ号连接螺孔螺纹连接。

在上述技术方案中，所述支撑块呈凸多面体状，其上表面面积不小于下表面面积。

在上述技术方案中，所述支撑块上表面与镶嵌块上表面平齐。

在上述技术方案中，所述试样筒是由筒壁和可分离的底座的筒状结构。

在上述技术方案中，所述支撑块与镶嵌块的凹槽形位相匹配。

在上述技术方案中，所述限位块设置于压块和定位圆块之间。

在上述技术方案中，支撑块数量不小于2个，本实施例中为4个。

在上述技术方案中，锤状压块10和定位圆块20用于压住片状试样70。

在上述技术方案中，Ⅱ号连接螺孔的数量不小于2个，力臂柱的数量与Ⅱ号连接螺孔的数量相同。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型提供了一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，实现片状试样在垂直于厚向的EBSD平面观察，解决制样困难及花样质量差等问题。本实用新型利用镶嵌法磨制面积较大、制样质量较好的优点，通过在锤状压块、限位块、定位圆块之间的相对运动，可以较为容易地取出EBSD试样且不损伤试样表面，解决了镶嵌法难于取出试样的问题，通过优化锤状压块中支撑块形状、设置力臂柱等措施，进一步降低了试样的取出难度，实现了片状试样沿垂直于厚向的EBSD制样，适用性强，制样效率较高，花样质量较好。

附图说明

图1是本实用新型在制备EBSD试样时的安装结构示意图；

图2是本实用新型在取出EBSD试样时的安装结构示意图；

图3是本实用新型中压块的结构示意图；

图4是本实用新型中定位圆块的结构示意图；

图5是本实用新型中限位块的结构示意图；

图6是本实用新型中力臂柱的结构示意图。

其中：

10 压块

11 螺柱 12 支撑块

20 定位圆块

21 Ⅰ号连接螺孔 22 Ⅱ号连接螺孔

30 限位块

31 缺口 32 突起

40 力臂柱

50 试样筒

60 镶嵌块

70 片状试样

80 底座。

对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，可以根据以上附图获得其他的相关附图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型技术方案，下面结合说明书附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型一种电动放射性污染去污装置及应急保障***的技术方案。

如图1、2所示，一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，包括用于压住片状试样70的压块10、定位圆块20，以及用于从镶嵌试样中取出锤状压块10的限位块30和多个力臂柱40。

如图3所示，压块10是由螺柱11和围绕螺柱11下端外壁均布的多个支撑块12组成的锤状结构；支撑块12呈凸多面体状，其上表面面积不小于下表面面积。支撑块12上表面与镶嵌块60上表面平齐。支撑块12与镶嵌块60的凹槽形位相匹配。支撑块数量不小于2个，本实施例中为4个。

如图4所示，定位圆块20中间形成Ⅰ号连接螺孔21，圆周壁上形成多个Ⅱ号连接螺孔22；Ⅱ号连接螺孔22的数量不小于2个，本实施例中为2个。

螺柱11与Ⅰ号连接螺孔21螺纹连接；

压块10放入试样筒50内，底面与片状试样70上表面接触，支撑块12外套设镶嵌块60。

如图5所示，限位块30为环向形成缺口31的圆环形结构，其底面形成与支撑块12相同数量的突起32。限位块30通过缺口31套接在锤状压块10的螺柱11上，限位块30上表面为平面。突起32的投影面积小于相邻支撑块12上表面间隙的面积。

如图6所示，力臂柱40一端柱面形成外螺纹，且此端与Ⅱ号连接螺孔22螺纹连接。力臂柱40的数量与Ⅱ号连接螺孔22的数量相同。

如图1所示，试样筒50是由筒壁和可分离的底座80的筒状结构。镶嵌块60为圆柱形结构，中间形成镶嵌槽，镶嵌槽形状与压块10的螺柱11下端和其外部的多个支撑块12组成的形状相同。

本实用新型的使用方法：

步骤一：将定位圆块20旋入锤状压块10上部螺杆，放在试样筒50中的片状试样70上表面，压块10的支撑块12下表面压住片状试样70；

步骤二：在试样筒50中放置镶嵌块60至压块10的支撑块12上表面为止，镶嵌料完全凝固后，分离试样筒50及底板80，取出镶嵌试样块；

步骤三：按照正常步骤完成镶嵌试样块的预磨抛、震动磨抛或电解抛光等工序；

步骤四：将力臂柱40旋入定位圆块20的Ⅱ号连接螺孔22中，将限位块30从缺口31处套接在定位圆块20、压块10之间，调节限位块30与压块10的相对位置，使限位块30的突起32位于压块10的支撑块12上表面之间的间隙中，通过力臂柱40逐步旋入定位圆块20，从镶嵌块60中取出压块10；

步骤五：轻轻按压片状试样70背面的薄膜，从镶嵌块60中取出片状试样。

本实用新型提供了一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，实现片状试样在垂直于厚向的EBSD平面观察，解决制样困难及花样质量差等问题。本实用新型利用镶嵌法磨制面积较大、制样质量较好的优点，通过在锤状压块、限位块、定位圆块之间的相对运动，可以较为容易地取出EBSD试样且不损伤试样表面，解决了镶嵌法难于取出试样的问题，通过优化锤状压块中支撑块形状、设置力臂柱等措施，进一步降低了试样的取出难度，实现了片状试样沿垂直于厚向的EBSD制样，适用性强，制样效率较高，花样质量较好。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

申请人声明，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，所属技术领域的技术人员应该明了，任何属于本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，均落在本实用新型的保护范围和公开范围之内。

Claims (10)

1.一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，其特征在于：包括压块（10）和定位圆块（20）；

所述压块（10）是由螺柱（11）和围绕螺柱（11）下端外壁均布的多个支撑块（12）组成的锤状结构；

所述定位圆块（20）中间形成Ⅰ号连接螺孔（21），圆周壁上形成多个Ⅱ号连接螺孔（22）；

螺柱（11）与Ⅰ号连接螺孔（21）螺纹连接；

压块（10）放入试样筒（50）内，底面与片状试样（70）上表面接触，支撑块（12）外套设镶嵌块（60）。

2.根据权利要求1所述的片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，其特征在于：还包括用于从镶嵌试样中取出锤状压块（10）的限位块（30）和多个力臂柱（40）。

3.根据权利要求2所述的片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，其特征在于：所述限位块（30）为环向形成缺口（31）的圆环形结构，其底面形成与支撑块（12）相同数量的突起（32）。

4.根据权利要求3所述的片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，其特征在于：所述突起（32）的投影面积小于相邻支撑块（12）上表面间隙的面积。

5.根据权利要求2所述的片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，其特征在于：所述力臂柱（40）一端柱面形成外螺纹，且此端与Ⅱ号连接螺孔（22）螺纹连接。

6.根据权利要求1所述的片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，其特征在于：所述支撑块（12）呈凸多面体状，其上表面面积不小于下表面面积。

7.根据权利要求6所述的片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，其特征在于：所述支撑块（12）上表面与镶嵌块（60）上表面平齐。

8.根据权利要求1所述的片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，其特征在于：所述试样筒（50）是由筒壁和可分离的底座（80）的筒状结构。

9.根据权利要求1所述的片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，其特征在于：所述支撑块（12）与镶嵌块（60）的凹槽形位相匹配。

10.根据权利要求3所述的片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，其特征在于：所述限位块（30）设置于压块（10）和定位圆块（20）之间。

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