CN210504912U - 纳米碳发热膜网印纠偏装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种纳米碳发热膜网印纠偏装置，包括底座，所述底座上转动安装有两个纠偏转轴，所述纠偏转轴的顶端分别固定设有纠偏架，所述纠偏架上分别转动安装有纠偏辊，所述底座上转动安装有纠偏蜗杆，所述纠偏转轴上分别固定设有纠偏蜗轮，所述纠偏蜗杆与所述底座之间设有纠偏驱动器，所述底座上设有偏移检测器和纠偏控制器，所述纠偏控制器的输出端信号连接所述纠偏驱动器。在纠偏时，纠偏辊两端分别绕纠偏转轴中心转动，不出现整体的摆动，在回位时，同样因两端同时转动，基膜受平衡的正反作用力不会发生带回，且因两端转动能与基膜之间产生沿纠偏辊轴向的相对活动，降低摩擦力影响，减少了基膜变形和褶皱发生，纠偏效果好。

Description

纳米碳发热膜网印纠偏装置

技术领域

本实用新型涉及纳米碳发热膜生产设备技术领域，尤其涉及一种纳米碳发热膜网印纠偏装置。

背景技术

纳米碳发热膜，也叫纳米碳电热膜、石墨烯电热膜等，简称发热膜或者电热膜，现已广泛应用于取暖、电器、大棚等多个领域。其加工方法主要是将纳米碳浆通过网印方式印刷在基膜上形成依次排列的纳米碳导电层，然后在纳米碳导电层两端分别串联柔性电极后再进行覆膜形成成品。

加工过程需要对基膜进行连续步进输送，张紧装置、纠偏装置等必不可少。目前纠偏装置多采用纠偏一体机(也称电子纠偏机)来完成，如图5和图6所示，其结构大致包括通过辊架转轴横向转动安装的纠偏辊架，辊架转轴通常偏心设置，纠偏辊架上转动安装两个纠偏辊，其中距离辊架转轴较远的纠偏辊通常被设置在输料的滞后位置；当偏移检测器检测到基膜出现跑偏时，给予纠偏控制器信号，纠偏控制器控制纠偏驱动电机驱动纠偏辊架转动，其中距离辊架转轴较远的纠偏辊其摆动幅度较大，摆动较大的纠偏辊对基膜起到侧向拖拽作用，而在纠偏辊偏斜后，因基膜被张紧的张紧力作用，会使得基膜产生沿纠偏辊轴向的滑动，直至实现纠偏。

发明人在使用该现有技术的过程中发现，对基膜纠偏后纠偏辊的回位过程中，基膜也会发生一定程度的回位，形成了再次偏移，纠偏一体机会重复纠偏动作好几次。分析其原因，主要是纠偏辊因单纯绕辊架转轴摆动，不但摆动角度较大，而且在摆动路线的切向上，辊面与基膜之间并不存在相对活动，加之基膜本身较为柔软，所以粘着的静摩擦力较大，以致于在摆动回位时将基膜重新带偏。这种现有技术在基膜纠偏工作中使用不但效果较差，而且因反复纠偏，基膜也容易产生变形或者褶皱，影响网印质量。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种减少纠偏摆动，避免反复纠偏情况出现，纠偏效果较好的纳米碳发热膜网印纠偏装置。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：纳米碳发热膜网印纠偏装置，包括底座，所述底座上转动安装有两个纠偏转轴，所述纠偏转轴的顶端分别固定设有纠偏架，所述纠偏架上分别转动安装有位于对应所述纠偏转轴正上方且横向设置的纠偏辊，两所述纠偏辊轴向平行设置；所述底座上转动安装有纠偏蜗杆，所述纠偏转轴上分别固定设有纠偏蜗轮，所述纠偏蜗杆上设有分别与两所述纠偏蜗轮对应的纠偏螺纹，两所述纠偏螺纹的螺旋方向相同，所述纠偏蜗杆与所述底座之间设有纠偏驱动器，所述底座上设有偏移检测器和纠偏控制器，所述偏移检测器信号连接所述纠偏控制器的输入端，所述纠偏控制器的输出端信号连接所述纠偏驱动器。

作为优选的技术方案，所述纠偏驱动器包括安装在所述底座上的纠偏驱动电机，所述纠偏驱动电机的输出端与所述纠偏蜗杆动力传动。

由于采用了上述技术方案，纳米碳发热膜网印纠偏装置，包括底座，包括两分别转动安装在所述底座上的纠偏转轴，所述纠偏转轴的顶端分别固定设有纠偏架，所述纠偏架上分别转动安装有位于对应所述纠偏转轴正上方且横向设置的纠偏辊，两所述纠偏辊轴向平行设置；所述底座上转动安装有纠偏蜗杆，所述纠偏转轴上分别固定设有纠偏蜗轮，所述纠偏蜗杆上设有分别与两所述纠偏蜗轮对应的纠偏螺纹，两所述纠偏螺纹的螺旋方向相同，所述纠偏蜗杆与所述底座之间设有纠偏驱动器，所述底座上设有偏移检测器和纠偏控制器，所述偏移检测器信号连接所述纠偏控制器的输入端，所述纠偏控制器的输出端信号连接所述纠偏驱动器。在纠偏时，纠偏辊两端分别绕纠偏转轴中心转动，不出现整体的摆动，在回位时，同样因两端同时转动，基膜受平衡的正反作用力不会发生带回，且因两端转动能与基膜之间产生沿纠偏辊轴向的相对活动，降低摩擦力影响，减少了基膜变形和褶皱发生，纠偏效果好。

附图说明

以下附图仅旨在于对本实用新型做示意性说明和解释，并不限定本实用新型的范围。其中：

图1是本实用新型实施例的整体结构示意图；

图2是图1的A-A结构示意图；

图3是本实用新型实施例的俯视结构示意图；

图4是本实用新型实施例纠偏时的状态示意图；

图5是现有技术的俯视结构示意图；

图6是现有技术纠偏时的状态示意图；

其中，图3至图6中以双点划线示意基膜边缘，以箭头示意基膜输送方向。

图中：1-底座；2-纠偏转轴；3-纠偏架；4-纠偏辊；5-纠偏蜗轮；6-纠偏蜗杆；7-偏移检测器；8-纠偏控制器；9-纠偏辊架；10-辊架转轴；11-基膜。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，进一步阐述本实用新型。在下面的详细描述中，只通过说明的方式描述了本实用新型的示范性实施例。毋庸置疑，本领域的普通技术人员可以认识到，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，附图和描述在本质上是说明性的，而不是用于限制权利要求的保护范围。

如图1至图4共同所示，纳米碳发热膜网印纠偏装置，包括底座1，本实施例示意所述底座1为箱体结构。所述底座1上转动安装有两个纠偏转轴2，所述纠偏转轴2是竖向设置的，该转动安装通过多个轴承的设置可实现，属于公知常用技术，在此不再赘述。优选地，所述纠偏转轴2的中心处于基膜11的输送中线位置。

所述纠偏转轴2的顶端分别固定设有纠偏架3，该固定设置可以为螺栓固定连接，也可以为直接焊接。所述纠偏架3上分别转动安装有位于对应所述纠偏转轴2正上方且横向设置的纠偏辊4，两所述纠偏辊4轴向平行设置。从俯视角度看，所述纠偏转轴2的中心位于对应所述纠偏辊4的轴线上，当所述纠偏转轴2转动时，所述纠偏辊4两端分别转动且相对基膜11来说产生相反方向的转动。

所述底座1上转动安装有纠偏蜗杆6，所述纠偏转轴2上分别固定设有纠偏蜗轮5，所述纠偏蜗杆6上设有分别与两所述纠偏蜗轮5对应的纠偏螺纹，两所述纠偏螺纹的螺旋方向相同，所述纠偏蜗杆6与所述底座1之间设有纠偏驱动器。所述纠偏蜗杆6被驱动转动时，两所述纠偏转轴2同步且同向转动，这样两所述纠偏辊4可产生同样的转动，利于纠偏。所述纠偏驱动器包括安装在所述底座1上的纠偏驱动电机，所述纠偏驱动电机的输出端与所述纠偏蜗杆6动力传动，该动力传动优选齿轮传动，所述纠偏驱动器的结构为本领域技术人员根据现有技术很容易理解的，故在图中未示出。

所述底座1上设有偏移检测器7和纠偏控制器8，所述偏移检测器7信号连接所述纠偏控制器8的输入端，所述纠偏控制器8的输出端信号连接所述纠偏驱动器，更进一步地，所述纠偏控制器8的输出端信号连接所述纠偏驱动电机。所述偏移检测器7为穿透式光电传感器，其与所述纠偏控制器8均为本领域常用技术，在此不再赘述。

本实施例在使用时，当基膜11发生偏移，所述偏移检测器7触发信号并输送给所述纠偏控制器8，所述纠偏控制器8根据偏移量控制所述纠偏驱动电机转动，两所述纠偏辊4同步转动，所述纠偏辊4实际产生了两端绕对应所述纠偏转轴2中心且相对于基膜11不同方向的转动，相对基膜11来说未发生任何摆动，在所述纠偏辊4偏转后，因出料侧纠偏辊4处存在张紧装置的张紧力，所以基膜11张紧力会因纠偏辊4的偏转产生一沿纠偏辊4轴向的分力，该分力会促使基膜11朝正常位置移动，直至所述偏移检测器7检测到纠偏结束，此时所述纠偏控制器8控制所述纠偏驱动电机反转，两所述纠偏辊4回位，回位过程为两端绕对应所述纠偏转轴2中心反转且相对于基膜11不同方向的转动，基膜11受纠偏辊4辊面力矩平衡，且两端的转动会产生与基膜11之间沿所述纠偏辊4轴向的略微活动，不存在静摩擦，可大幅降低摩擦力影响，减少了基膜11变形和褶皱发生，整体纠偏效果好。本实施例基于基膜11的输送纠偏改进，对于其他柔性带状材料的输送纠偏也可推广应用。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征及本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (2)

1.纳米碳发热膜网印纠偏装置，包括底座，其特征在于：所述底座上转动安装有两个纠偏转轴，所述纠偏转轴的顶端分别固定设有纠偏架，所述纠偏架上分别转动安装有位于对应所述纠偏转轴正上方且横向设置的纠偏辊，两所述纠偏辊轴向平行设置；所述底座上转动安装有纠偏蜗杆，所述纠偏转轴上分别固定设有纠偏蜗轮，所述纠偏蜗杆上设有分别与两所述纠偏蜗轮对应的纠偏螺纹，两所述纠偏螺纹的螺旋方向相同，所述纠偏蜗杆与所述底座之间设有纠偏驱动器，所述底座上设有偏移检测器和纠偏控制器，所述偏移检测器信号连接所述纠偏控制器的输入端，所述纠偏控制器的输出端信号连接所述纠偏驱动器。

2.如权利要求1所述的纳米碳发热膜网印纠偏装置，其特征在于：所述纠偏驱动器包括安装在所述底座上的纠偏驱动电机，所述纠偏驱动电机的输出端与所述纠偏蜗杆动力传动。

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