CN210325604U - 一种新型发光键帽 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种新型发光键帽，包括透明键体，所述的透明键体具有顶表面和周表面，所述的顶表面和周表面设有耐指纹防水镀膜层，所述的顶表面留置有镭雕字符区。先用真空电镀或水镀等方法在透明键体外表面沉积厚度为0.04um‑0.1um的金属薄膜层，使其变成不透明，然后再用激光雕刻加工方法在透明键体的顶表面进行透光字符雕刻，使电镀沉积的金属不透明层在激光照射下瞬间熔化和气化，显露出原来的透明键体，从而形成字符图案；激光加工与被加工透明键体表面没有接触，加工后的透明区域表面不会有损伤且透光率与未加前完全一样，而未被激光雕刻加工的区域仍然保持不透明。通过该结构非透明区域附着力强，可制作亚银色、灰银，枪色，金色，黑铬色，半光铬等五花八门的键帽，金属感强，亮度高，同时改变传统发光键帽结构，只采用单个键体实现发光效果。

Description

一种新型发光键帽

技术领域

本实用新型属于键盘技术领域，具体涉及一种新型发光键帽。

背景技术

随着计算机技术的高速发展，也相应的带动了计算机配件市场，其中包括键盘，而键帽是键盘的最基础的配件之一。随着使用者使用需求的增加，键盘不再仅是提供单纯的输入装置而已，辅助输入的功能及美观也有所需求。

对于一般的计算机而言，倘若在夜间或光线不足时使用，可能会由于没有足够的光线投射在键盘上，导致看不清楚键盘上的字母或符号而出现误操作，从而影响用户的操作时间，增加用户发生错误的几率。因此，出现了发光键帽。但是，这样的发光键帽大多为塑胶按键，而塑胶按键表面使用久了，表面易磨损从而影响按键的字母发光效果。CN201920438353.8号发光键帽的需要至少两个部件透光罩和遮光罩，首先透光罩和遮光罩接合的牢固性仍有改善空间，且制作透光罩和遮光罩后还需要组装，生产效率低，同时此种结构的透光效果较差，字符显示较暗。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种新型发光键帽，以解决上述背景技术中提出生产效率低和透光效果较差的问题，而且通过此结构光线直接穿透镭雕字符区，发光效果更亮且柔和。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：本实用新型公开了包括透明键体，所述的透明键体具有顶表面和周表面，所述的顶表面设有镭雕字符区和非透明区，所述的非透明区和周表面设有耐指纹防水镀膜层。先用真空电镀或水镀等方法在透明键体外表面沉积厚度为0.04um-0.1um的金属薄膜层，使其变成不透明，然后再用激光雕刻加工方法在透明键体的顶表面进行透光字符雕刻，使电镀沉积的金属不透明层在激光照射下瞬间熔化和气化，显露出原来的透明键体，从而形成字符图案；激光加工与被加工透明键体表面没有接触，加工后的透明区域表面不会有损伤且透光率与未加前完全一样，而未被激光雕刻加工的区域仍然保持不透明。

优选地，所述的透明键体的材料为塑料，耐指纹防水镀膜层的材料为铝合金。

优选地，所述的透明键体具有下开口，下开口具有由侧壁向下开口中心轴线外翻折形成凸台。

优选地，所述键体的内部设有键芯，所述的键芯的中部设有凹槽，所述的凹槽形状为十字形状。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型顶表面设有镭雕字符区和非透明区，非透明区通过真空电镀或水镀等方法在透明键体外表面沉积形成耐指纹防水镀膜层，耐指纹防水镀膜层附着力强，且可制作亚银色、灰银，枪色，金色，黑铬色，半光铬等五花八门的键帽，金属感强，亮度高，同时改变传统发光键帽结构，只采用单个键体实现发光效果,省材料，不再需要多个键壳组装，生产效率更高。

附图说明

图1为本实用新型的结构图；

图2为本实用新型的剖开图；

图3为本实用新型的另一种结构图；

附图标记：1、透明键体；11、凸台；2、顶表面；21.镭雕字符区；22.耐指纹防水镀膜层；3、周表面；4、键芯。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1-2所示本实用新型公开了一种新型发光键帽，本实用新型公开了包括透明键体1，所述的透明键体1具有顶表面2和周表面3，所述的顶表面2设有镭雕字符区21和非透明区，所述的非透明区和周表面3设有耐指纹防水镀膜层22。先用真空电镀或水镀等方法在透明键体1外表面沉积厚度为0.04um-0.1um的金属薄膜层(耐指纹防水镀膜层22)，使透明键体1变成不透明，然后再用激光雕刻加工方法在透明键体1的顶表面2进行透光字符雕刻，使电镀沉积的金属不透明层在激光照射下瞬间熔化和气化，显露出原来的透明键体1，从而形成字符图案；激光加工与被加工透明键体1表面没有接触，加工后的透明区域表面不会有损伤且透光率与未加前完全一样，而未被激光雕刻加工的区域仍然保持不透明。

优选地，所述的透明键体1的材料为塑料，水镀层的材料为铝合金。

优选地，所述的透明键体1具有下开口，下开口具有由侧壁向下开口中心轴线外翻折形成凸台。

优选地，所述键体的内部设有键芯4，所述的键芯4的中部设有凹槽，所述的凹槽形状为十字形状。

一种新型发光键帽的制作方法，首先通过注塑成型出透明键体1，把待镀膜的透明键体1放到镀膜机的真空室内的挂架上，然后人工添加镀膜所需的镀膜材料到真空室下方的三个不同坩埚内，检查每个坩埚与真空室相连接的电子喷枪固定牢靠到位，其中透明键体1顶面和周面镀膜材料均为：SiO2、ZrO2、ITO，做好准备工作后关上真空室门；打开镀膜机总电源，确定循环泵、压缩机工作，使镀膜机内部压力达到2.5×10-3Pa，温度加热到250℃并保持恒温30分钟，去除镀膜机真空室中的水分；将透明键体1的顶表面2朝下，设定镀膜真空室温度50℃，真空室压力3×10-3Pa～1×10-1Pa，将盛放镀膜材料的坩埚的温度设定为1280℃，电子喷枪的发射电子温度控制在400℃，功率22MA，使用电子喷枪将镀膜材料均匀喷涂在透明键体1顶表面2上蒸镀形成镀膜层；顶表面2镀完后再将透明键体1进行翻转，用同样的工艺对和周表面3进行周表面3蒸镀膜。

顶表面2镀膜层分七层：第一层，材料ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为7.6nm，O2体积流量为20sccm；第二层，材料为SiO2，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为87.5±4nm，O2体积流量为20sccm；第三层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为11.8±1nm，O2体积流量为5sccm；第四层，材料为SiO2，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为27.3nm，O2体积流量为5sccm；第五层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为92.9±2nm，O2体积流量为5sccm；第六层，材料为ITO，镀膜速率为0.08nm/s，镀膜厚度为5.9nm，O2体积流量为45sccm；第七层，材料为SiO2，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为76.6±3nm，O2体积流量为5sccm，通过七层镀膜形成顶表面2镀膜层。

周表面3镀膜层为七层；材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为8.1nm，O2体积流量为20sccm；第二层，材料为SiO2，镀膜速率为2.40nm/s，镀膜厚度为206±5nm，O2体积流量为20sccm；第三层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为15.3±1nm，O2体积流量为5sccm；第四层，材料为SiO2，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为41.3nm，O2体积流量为5sccm；第五层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为59.7±2nm，O2体积流量为5sccm；第六层，材料为ITO，镀膜速率为0.08nm/s，镀膜厚度为5.5nm，O2体积流量为45sccm；第七层，材料为SiO2，镀膜速率为2.40nm/s，镀膜厚度为115.2±3nm，O2体积流量为5sccm；七层镀膜的厚度为451.1±10nm；通过七层镀膜形成周表面3镀膜层。透明键体1无论采用树脂或玻璃，本身的透光率都只有91％左右，会有部分光线被透明键体1的两个表面反射回来。透明键体1镀上一定厚度的单层或多层光学薄膜，以改善透明键体1反射光线的能力，起到增强或减少光线透过的作用使透明键体1的透光率增加到98％，从而使字符发光效果更光。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (3)

1.一种新型发光键帽，其特征在于：包括透明键体，所述的透明键体具有顶表面和周表面，所述的顶表面设有镭雕字符区和非透明区，所述的非透明区和周表面设有耐指纹防水镀膜层。

2.根据权利要求1所述的一种新型发光键帽，其特征在于：所述的透明键体的材料为塑料，耐指纹防水镀膜层的材料为铝合金。

3.根据权利要求1所述的一种新型发光键帽，其特征在于：所述的透明键体具有下开口，下开口具有由侧壁向下开口中心轴线外翻折形成凸台。

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