CN209039578U - 一种镀膜机真空室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种镀膜机真空室，包括镀膜机主体，镀膜机主体的两侧均设置有扩散泵接口，镀膜机主体的顶端设置有增压泵端口，镀膜机主体的内侧中央设置有冷却辊，冷却辊的顶端两侧分别设置有收卷辊和放卷辊，收卷辊和放卷辊的底端均连接有导向辊、张力辊和压力辊，张力辊的底端设置有张力检测器，张力检测器的一侧设置有监测探头，收卷辊的底端设置有离子清洁器。本实用新型是一种镀膜机真空室，该设备通过设置的监控组件可分别对内部进行实时监测，通过内部具有除尘结构，可提升设备镀膜工艺质量，内部张力可方便进行调节，操作简单，实用性强。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种镀膜机，特别涉及一种镀膜机真空室。
背景技术
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜，对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
在现有的镀膜机的技术条件基础上，在使用的范围性以及便捷性上依然存在很多不足，大部分镀膜机在使用的过程中内部结构较为简单，缺乏自我监测功能，且内部清洁以及温度控制多为不便，影响设备工艺质量，十分不便。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种镀膜机真空室，该设备通过设置的监控组件可分别对内部进行实时监测，通过内部具有除尘结构，可提升设备镀膜工艺质量，内部张力可方便进行调节，操作简单，实用性强。
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：
本实用新型一种镀膜机真空室，包括镀膜机主体，所述镀膜机主体的两侧均设置有扩散泵接口，所述镀膜机主体的顶端设置有增压泵端口，所述镀膜机主体的内侧中央设置有冷却辊，所述冷却辊的顶端两侧分别设置有收卷辊和放卷辊，所述收卷辊和放卷辊的底端均连接有导向辊、张力辊和压力辊，所述张力辊的底端设置有张力检测器，所述张力检测器的一侧设置有监测探头，所述收卷辊的底端设置有离子清洁器。
作为本实用新型的一种优选技术方案，所述镀膜机主体的底端设置有镀膜底座，所述镀膜底座的底端一侧设置有泄压泵端口，所述镀膜底座的底端设置有固定底座。
作为本实用新型的一种优选技术方案，所述冷却辊的外侧设置有隔离槽。
作为本实用新型的一种优选技术方案，所述镀膜底座的两侧均设置有固定支撑架。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：
本实用新型是一种镀膜机真空室，可以有效的提高真空室的使用范围以及便捷性，该设备通过设置的监控组件可分别对内部进行实时监测，通过内部具有除尘结构，可提升设备镀膜工艺质量，内部张力可方便进行调节，操作简单，实用性强。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
图1是本实用新型的整体结构示意图；
图2是本实用新型的内部结构示意图；
图中：1、镀膜机主体；2、镀膜底座；3、扩散泵接口；4、增压泵端口；5、泄压泵端口；6、固定底座；7、固定支撑架；8、冷却辊；9、收卷辊；10、放卷辊；11、导向辊；12、张力辊；13、张力检测器；14、压力辊；15、隔离槽；16、监控探头；17、离子清洁器。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
实施例1
如图1-2所示，本实用新型提供一种镀膜机真空室，包括镀膜机主体1，镀膜机主体1的两侧均设置有扩散泵接口3，镀膜机主体1的顶端设置有增压泵端口4，镀膜机主体1的内侧中央设置有冷却辊8，冷却辊8的顶端两侧分别设置有收卷辊9和放卷辊10，收卷辊9和放卷辊10的底端均连接有导向辊11、张力辊12和压力辊14，张力辊12的底端设置有张力检测器13，张力检测器13的一侧设置有监测探头16，收卷辊9的底端设置有离子清洁器17。
进一步的，镀膜机主体1的底端设置有镀膜底座2，镀膜底座2的底端一侧设置有泄压泵端口5，镀膜底座2的底端设置有固定底座6，通过设置的泄压泵端口5进行泄压，通过设置的固定底座6进行底端固定。
冷却辊8的外侧设置有隔离槽15，通过设置的隔离槽15可将冷却辊8进行隔离，防止冷却辊8发生碰撞现象。
镀膜底座2的两侧均设置有固定支撑架7，通过设置的固定支撑架7可方便设备进行底部支撑固定。
具体的，本实用新型在使用的时候，可通过打开该设备进行工作，通过增压泵端口4进行内部增压，通过泄压泵端口5进行内部泄压，在使用的过程中通过收卷辊9和放卷辊10进行输送工作，通过导向辊11、张力辊12和压力辊14进行膜体输送，通过张力检测器13进行内部张力检测，监测探头16有一个近红外线，三个470nm、560nm、660nm探头，通过近红外线探头，可以判断膜层厚度变化情况，从而调整溅射功率，使其膜厚控制在设计范围之内，通过470nm和560nm、660nm三个通道的比较，判断介质层的厚薄是否达到最佳的光匹配效果，可以调节ITO靶溅射功率来控制介质厚度，使其达到最好的光学匹配效果，通过设置的离子清洁器17进行离子除尘，提升设备工艺，简单方便。
该设备通过设置的监控组件可分别对内部进行实时监测，通过内部具有除尘结构，可提升设备镀膜工艺质量，内部张力可方便进行调节，操作简单，实用性强。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种镀膜机真空室，包括镀膜机主体(1)，其特征在于，所述镀膜机主体(1)的两侧均设置有扩散泵接口(3)，所述镀膜机主体(1)的顶端设置有增压泵端口(4)，所述镀膜机主体(1)的内侧中央设置有冷却辊(8)，所述冷却辊(8)的顶端两侧分别设置有收卷辊(9)和放卷辊(10)，所述收卷辊(9)和放卷辊(10)的底端均连接有导向辊(11)、张力辊(12)和压力辊(14)，所述张力辊(12)的底端设置有张力检测器(13)，所述张力检测器(13)的一侧设置有监测探头(16)，所述收卷辊(9)的底端设置有离子清洁器(17)。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜机真空室，其特征在于，所述镀膜机主体(1)的底端设置有镀膜底座(2)，所述镀膜底座(2)的底端一侧设置有泄压泵端口(5)，所述镀膜底座(2)的底端设置有固定底座(6)。
3.根据权利要求1所述的一种镀膜机真空室，其特征在于，所述冷却辊(8)的外侧设置有隔离槽(15)。
4.根据权利要求2所述的一种镀膜机真空室，其特征在于，所述镀膜底座(2)的两侧均设置有固定支撑架(7)。
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| CN201821094105.8U CN209039578U (zh) | 2018-07-11 | 2018-07-11 | 一种镀膜机真空室 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114536798A (zh) * | 2022-02-25 | 2022-05-27 | 南京航空航天大学 | 一种可负压辅助的卷对卷精密辊压制造装置与方法 |
| CN115595549A (zh) * | 2021-06-28 | 2023-01-13 | 圆益Ips股份有限公司（Kr） | 腔室内部处理方法及基板处理方法 |
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2018
- 2018-07-11 CN CN201821094105.8U patent/CN209039578U/zh not_active Expired - Fee Related
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