CN208681835U - 一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了单晶硅技术领域的一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，包括工作平台，所述驱动电机底部输出端与加工刀具连接，且软管位于加工刀具的右侧，所述工作平台底部安装有收集箱，所述收集箱左右两侧内壁之间设置有支撑板，所述支撑板顶部中央与挡板连接，所述挡板顶部与过滤网连接，所述过滤网右侧外壁与收集箱右侧内壁顶部连接，所述支撑板顶部右侧设置有抽水泵，所述抽水泵右侧出水口延伸至收集箱右侧外壁并与回流管连接，装置中通过软管向加工刀具上喷水，去除加工刀具表面附着的费屑杂质，防止加工刀具上附着的杂质划伤单晶硅表面而降低单晶硅的生产质量，同时通过抽水泵将收集的水输送到储水箱中再次使用，节约了水资源。

Description

一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置

技术领域

本实用新型涉及单晶硅技术领域，具体为一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置。

背景技术

硅的单晶体，具有基本完整的点阵结构的晶体，不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料，用于制造半导体器件、太阳能电池等，单晶硅在生产加工时，产生大量的费屑，费屑粘在刀具上，容易划破单晶硅表面，影响单晶硅整体的加工质量，并且大量费屑附着在刀具上，使刀具加工产生的热量无法散发，导致刀具损坏，降低装置使用寿命，为此，我们提出一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，包括工作平台，所述工作平台顶部左右两侧均设置有立柱，两组所述立柱顶部与顶板连接，所述顶板内腔底部开设有导向槽，所述导向槽内腔底部活动插接有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆底部设置有驱动电机，所述驱动电机底部输出端与加工刀具连接，所述驱动电机底部外壁设置有防尘罩，且加工刀具位于防尘罩的内腔，右侧所述立柱右侧外壁安装有储水箱，所述储水箱内腔左侧底部设置有泵，且泵左侧出水口延伸至储水箱的左侧外壁并与软管连接，所述软管左侧延伸至防尘罩的内腔，且软管位于加工刀具的右侧，所述工作平台顶部开设有孔洞，所述工作平台底部安装有收集箱，所述收集箱内腔底部设置有杂质收集箱，且杂质收集箱顶部开设有开口，所述杂质收集箱右侧外壁与把手连接，且把手右端延伸至收集箱的右侧外壁，所述收集箱左右两侧内壁之间设置有支撑板，且支撑板位于杂质收集箱的正上方，所述支撑板顶部中央与挡板连接，所述挡板顶部与过滤网连接，所述过滤网右侧外壁与收集箱右侧内壁顶部连接，且过滤网左侧高度低于右侧高度，所述支撑板顶部左侧开设有开口，所述支撑板顶部右侧设置有抽水泵，所述抽水泵右侧出水口延伸至收集箱右侧外壁并与回流管连接，所述回流管远离抽水泵的一端与储水箱右侧外壁连接。

优选的，所述杂质收集箱底部前后两侧均设置有滑轮，所述收集箱内腔底部均开设有与滑轮相匹配的滑动槽，且滑轮底部外壁在滑动槽顶部外壁相贴合。

优选的，所述收集箱顶部左右两侧均设置有卡块，所述工作平台底部左右两侧均开设有与卡块相匹配的卡槽，且收集箱顶部通过卡块卡槽与工作平台底部连接。

优选的，所述工作平台顶部均匀开设有孔洞，且孔洞呈矩形阵列排布。

优选的，所述过滤网呈左低右高倾斜设置，且倾斜角度为三十度到四十五度之间。

优选的，所述把手外壁均匀设置有半圆形的凸块，且凸块为橡胶凸块。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.装置中通过软管向加工刀具上喷水，去除加工刀具表面附着的费屑杂质，防止加工刀具上附着的杂质划伤单晶硅表面而降低单晶硅的生产质量，节约了生产资源，并且也防止费屑杂质聚集在加工刀具上，导致加工刀具加工产生的热量无法散发而使刀具损坏，同时水冲洗刀也具有着降温效果，降低加工刀具加工产生的温度，增加装置的使用寿命；

2.通过收集箱将费屑杂质和水流收集，方便将费屑杂质进行集中处理，降低杂质收集难度，同时通过抽水泵将收集的水输送到储水箱中循环使用，减少了不必要的浪费，节约了水资源，增加了装置的实用性。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型收集箱结构示意图；

图3为本实用新型杂质收集箱与收集箱连接结构示意图。

图中：1工作平台、2立柱、3顶板、4电动伸缩杆、5导向槽、6驱动电机、7加工刀具、8防尘罩、9储水箱、10软管、11收集箱、111滑动槽、12 杂质收集箱、121滑轮、13把手、14固定板、15挡板、16过滤网、17抽水泵、18回流管。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，包括工作平台1，工作平台1顶部左右两侧均设置有立柱2，两组立柱2顶部与顶板3连接，顶板3内腔底部开设有导向槽5，导向槽5内腔底部活动插接有电动伸缩杆4，电动伸缩杆4在导向槽5中滑动加工单晶硅，电动伸缩杆4底部设置有驱动电机6，驱动电机6底部输出端与加工刀具7连接，驱动电机6底部外壁设置有防尘罩8，防止费屑杂质被水冲走，增加杂质收取的难度，且加工刀具7位于防尘罩8的内腔，右侧立柱2右侧外壁安装有储水箱9，储水箱9内腔左侧底部设置有泵，且泵左侧出水口延伸至储水箱 9的左侧外壁并与软管10连接，软管10左侧延伸至防尘罩8的内腔，且软管 10位于加工刀具7的右侧，工作平台1顶部开设有孔洞，工作平台1底部安装有收集箱11，收集箱11内腔底部设置有杂质收集箱12，且杂质收集箱12 顶部开设有开口，收集费屑杂质进行集中除了，降低收集难度，杂质收集箱 12右侧外壁与把手13连接，且把手13右端延伸至收集箱11的右侧外壁，收集箱11左右两侧内壁之间设置有支撑板14，且支撑板14位于杂质收集箱12 的正上方，支撑板14顶部中央与挡板15连接，挡板15顶部与过滤网16连接，过滤网16右侧外壁与收集箱11右侧内壁顶部连接，过滤网16将杂质费屑挡住，使水流可以通过，且过滤网16左侧高度低于右侧高度，方便杂质落下，防止杂质堆积的过滤网16上堵塞装置，提高了工作效率，支撑板14顶部左侧开设有开口，支撑板14顶部右侧设置有抽水泵17，抽水泵17右侧出水口延伸至收集箱11右侧外壁并与回流管18连接，回流管18远离抽水泵17 的一端与储水箱9右侧外壁连接，抽水泵17将水输送到储水箱9中进行循环使用，节约了水资源，电动伸缩杆4和驱动电机6均通过导线和外部电源开关电性连接。

其中，杂质收集箱12底部前后两侧均设置有滑轮121，收集箱11内腔底部均开设有与滑轮121相匹配的滑动槽111，且滑轮121底部外壁在滑动槽 111顶部外壁相贴合，将杂质收集箱12拿出来时，滑轮121在滑动槽111上滑动，减小杂质收集箱12取出来时产生的摩擦力，防止装置损坏，增加了装置的使用寿命；

收集箱11顶部左右两侧均设置有卡块，工作平台1底部左右两侧均开设有与卡块相匹配的卡槽，且收集箱11顶部通过卡块卡槽与工作平台1底部连接，方便将收集箱11取下来，清理收集箱11中的杂质，保证了收集箱11内部的清洁，增加了装置的使用寿命；

工作平台1顶部均匀开设有孔洞，且孔洞呈矩形阵列排布，增加杂质费屑进入收集箱11的途径，防止杂质费屑堵塞工作平台1表面，提高了工作效率；

过滤网16呈左低右高倾斜设置，且倾斜角度为三十度到四十五度之间，防止杂质堆积在过滤网16上而堵塞过滤网16，提高了过滤的工作效率；

把手13外壁均匀设置有半圆形的凸块，且凸块为橡胶凸块，增加把手13 与接触面积和摩擦力，方便将杂质收集箱12取出，清理杂质收集箱12中收集的杂质。

工作原理：该装置工作时，先将要加工的单晶硅放到工作平台1上，通过电动伸缩杆4工作，使加工刀具7下降到与单晶硅接触，然后驱动电机6 旋转带动加工刀具7工作，开始加工单晶硅，同时储水箱9中的泵将水输送到软管10中，然后喷向加工刀具7上，防止费屑杂质在加工刀具7表面附着，避免了费屑杂质划伤单晶硅表面，也防止费屑堆积在加工刀具7表面，造成加工刀具7无法散热而使装置损坏，增加了装置的使用寿命，并且水流将费屑杂质冲到收集箱11中，经过过滤网16，水流进入挡板15的右侧，接着水由抽水泵17输送会储水箱9中进行循环利用，节约了水资源，同时过滤网16 上挡住的费屑杂质被冲进挡板15的左侧，然后穿过支撑板14进入杂质收集箱12中，方便集中处理费屑杂质，减小工作难度，完成加工时，拉动把手13 将杂质收集箱12取出，处理杂质收集箱12中的杂质，处理完毕时，将杂质收集箱12放回原位。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，包括工作平台(1)，其特征在于：所述工作平台(1)顶部左右两侧均设置有立柱(2)，两组所述立柱(2)顶部与顶板(3)连接，所述顶板(3)内腔底部开设有导向槽(5)，所述导向槽(5)内腔底部活动插接有电动伸缩杆(4)，所述电动伸缩杆(4)底部设置有驱动电机(6)，所述驱动电机(6)底部输出端与加工刀具(7)连接，所述驱动电机(6)底部外壁设置有防尘罩(8)，且加工刀具(7)位于防尘罩(8)的内腔，右侧所述立柱(2)右侧外壁安装有储水箱(9)，所述储水箱(9)内腔左侧底部设置有泵，且泵左侧出水口延伸至储水箱(9)的左侧外壁并与软管(10)连接，所述软管(10)左侧延伸至防尘罩(8)的内腔，且软管(10)位于加工刀具(7)的右侧，所述工作平台(1)顶部开设有孔洞，所述工作平台(1)底部安装有收集箱(11)，所述收集箱(11)内腔底部设置有杂质收集箱(12)，且杂质收集箱(12)顶部开设有开口，所述杂质收集箱(12)右侧外壁与把手(13)连接，且把手(13)右端延伸至收集箱(11)的右侧外壁，所述收集箱(11)左右两侧内壁之间设置有支撑板(14)，且支撑板(14)位于杂质收集箱(12)的正上方，所述支撑板(14)顶部中央与挡板(15)连接，所述挡板(15)顶部与过滤网(16)连接，所述过滤网(16)右侧外壁与收集箱(11)右侧内壁顶部连接，且过滤网(16)左侧高度低于右侧高度，所述支撑板(14)顶部左侧开设有开口，所述支撑板(14)顶部右侧设置有抽水泵(17)，所述抽水泵(17)右侧出水口延伸至收集箱(11)右侧外壁并与回流管(18)连接，所述回流管(18)远离抽水泵(17)的一端与储水箱(9)右侧外壁连接。

2.根据权利要求1所述的一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，其特征在于：所述杂质收集箱(12)底部前后两侧均设置有滑轮(121)，所述收集箱(11)内腔底部均开设有与滑轮(121)相匹配的滑动槽(111)，且滑轮(121)底部外壁在滑动槽(111)顶部外壁相贴合。

3.根据权利要求1所述的一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，其特征在于：所述收集箱(11)顶部左右两侧均设置有卡块，所述工作平台(1)底部左右两侧均开设有与卡块相匹配的卡槽，且收集箱(11)顶部通过卡块卡槽与工作平台(1)底部连接。

4.根据权利要求1所述的一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，其特征在于：所述工作平台(1)顶部均匀开设有孔洞，且孔洞呈矩形阵列排布。

5.根据权利要求1所述的一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，其特征在于：所述过滤网(16)呈左低右高倾斜设置，且倾斜角度为三十度到四十五度之间。

6.根据权利要求1所述的一种带有水循环功能的单晶硅除杂装置，其特征在于：所述把手(13)外壁均匀设置有半圆形的凸块，且凸块为橡胶凸块。