CN208429874U - 具有杂质去除功能的水处理*** - Google Patents

Abstract

提供了一种具有杂质去除功能的水处理***。水处理***安装在管道的一部分中，流体流动经过水处理***，并且水处理***包括：连接在相对的管道之间的壳体；以及壳体中的回转式反应器，回转式反应器通过沿着管道移动的流体而旋转以处理流体。沿着壳体的内表面从壳体的入口朝向位于回转式反应器的下部的轴承凹部形成有至少一个杂质引导凹部，环状的杂质容纳凹部设置在壳体内表面的下侧中心部分处，其中，杂质容纳凹部在轴承凹部的外部与轴承凹部形成同心圆，并且杂质容纳凹部与杂质引导凹部连接，且在壳体的下侧中心部分形成排流口，其中，排流口的入口通过连接凹部与杂质容纳凹部连接。

Description

具有杂质去除功能的水处理***

相关申请的交叉引用

本申请要求享有2017年10月20日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请NO.10-2017-0136326的优先权，其全部内容通过引用并入本文中。

技术领域

一个或多个实施例涉及具有杂质去除功能的水处理***，该水处理***能够有效地将流经包括回转式反应器的水处理***的流体中的杂质排出。

背景技术

通常，在净水厂中将水净化并在泵站中将净化水泵送以后，水管道向房屋的水龙头稳定地供应具有优良水质的水。

在刚刚最初安装好水管道之后，在刚刚管护好水管道之后，以及在刚刚更换老旧管道之后，会难以供应具有优良水质的水。

另外，当由于水管道长期使用在管道中发生的腐蚀而产生水垢时，当管道由于氧化腐蚀而老化时，当聚集了沉积物时，或当细菌微生物长时间附着并固定时，传输面积降低并且水受到严重污染。因此，诸如***或热水饮水机的可能会成为经济负担的附加净水装置得到广泛使用。

另外，为了向发电厂供应品质稳定的水，将水处理***部分地应用到管道上以去除水垢等。

至于防腐蚀，Zn＝Zn²⁺+2e-、Fe₂O₃(铁锈)+1/2e-＝Fe₃O₄(磁铁矿)、Fe₃O₄+5/2e-(Zn电子)＝Fe+(稳态铁)，即，铁锈与电子结合并转变为不被腐蚀的磁铁矿(Fe₃O₄)以防止腐蚀，并最终减少为稳态铁(Fe+)以去除存在的铁锈。

同样，至于水垢的去除，CaCO₃(水垢)+CO₂+H₂O＝Ca(HCO₃)₂(碳酸氢钙)，即水垢颗粒并不是以固态的碳酸钙(CaCO₃)的形式被去除，而是被转变成能够溶于水的碳酸氢钙(Ca(HCO₃)₂)并去除。

但是，在根据相关技术的水处理***中，当流体从设置有回转式反应器的管道入口通过回转式反应器排放至出口时，相对较轻的杂质通过回转式反应器得以处理，但是重的杂质经过回转式反应器的下方部分排放至出口而没有通过回转式反应器，从而降低了水处理的效率。

实用新型内容

一个或多个实施例包括具有杂质去除功能的水处理***，其中，水处理***具有这样的结构，即经过壳体的沉积杂质被引导排放至壳体的外部，其中，壳体以内部建立有回转式反应器的状态设置在管道之间，并且因此提高了管理水处理的效率且可以稳定水质。

另外的方面将在下面的描述中部分论述，且部分将从说明书中显而易见，或者可以通过实施所呈现的实施例而了解。

根据一个或多个实施例，一种具有杂质去除功能的水处理***，该水处理***安装在管道的一部分中，流体流动经过该水处理***，并且该水处理***包括：壳体，其连接在相对的管道之间；以及壳体中的回转式反应器，该回转式反应器通过沿着管道移动的流体而旋转以处理流体，其中，沿着壳体的内表面从壳体的入口朝向位于回转式反应器的下部的轴承凹部形成有至少一个杂质引导凹部，环状的杂质容纳凹部设置在壳体内表面的下侧中心部分处，其中，该杂质容纳凹部在轴承凹部的外部与轴承凹部形成同心圆，并且杂质容纳凹部与杂质引导凹部连接，且在壳体的下侧中心部分形成排流口，其中，排流口的入口通过连接凹部与杂质容纳凹部连接。

回转式反应器在其外周边可以具有翼部或凹部，且通过壳体的中心的流体被引导至杂质容纳凹部，并且在杂质容纳凹部中捕获流体中的杂质。

翼部或凹部可以沿着回转式反应器的外周边以连续或不连续的螺旋的形式设置。

翼部可以在其表面包括多个通孔。

壳体可以包括：观察孔，其形成于壳体前表面中，观察孔具有预定的大小；安装部，其从观察孔的外周边向外突出，且安装部在其内周边表面上包括挂钩台阶；观察窗，其***到安装部的内周边表面，其中，观察窗的外周边的底部表面安装在挂钩台阶上；盖子，其通过联接构件联接到安装部，盖子处于盖子的底部表面接触安装部的突起的前边界的状态，且盖子在其中心处具有通孔；以及密封件，其设置在安装部的前边界和盖子的底部表面之间，且密封件在其中心具有孔。

可以在观察窗的内表面或相对的表面上形成涂层，并且可以透过涂层判别壳体的内部状态。

涂层可以具有与观察窗的大小对应的大小，且该涂层可以包括依次彼此联接的光学硅附接层、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)层、硬涂层以及疏油涂层或超疏水涂层。

涂层可以具有与观察窗的大小对应的大小，且该涂层可以包括依次彼此联接的光学硅附接层、钢化玻璃薄膜层、硬涂层以及疏油涂层或超疏水涂层。

回转式反应器内可以包含电气石、贵阳石(kiyoseki stone)、土卫七、赭石、脉斑岩、甲壳类动物、锗和木炭中的一种。

回转式反应器可以包括锌、镁或铜中的一种。

附图说明

从以下结合附图对实施例的描述中，这些和/或其它方面将变得清楚和更易于理解，在附图中：

图1为根据实施例的水处理***中的主要部件的分解立体图；

图2为根据实施例的水处理***的联接立体图；

图3为示出根据实施例的水处理***中的壳体内部构造的截面立体图；

图4A为示出根据实施例的水处理***中的壳体内部构造的截面图；

图4B为示出根据实施例的水处理***中的壳体内部构造的截面图；

图5为主要部件的横截面图，其示出了包括在根据实施例的水处理***的壳体中的安装单元的示例；以及

图6为主要部件的横截面图，其示出了包括在根据实施例的水处理***的壳体中的安装单元的另一示例。

具体实施方式

现在将具体地参考实施例，实施例的示例在附图中示出，其中，在全文中相同的附图标记指代相同的元件。就这一点而言，当前的实施例可以具有不同的形式并且不应当构造为局限于文中列举的描述。因此，下面仅通过参照附图来描述实施例以解释本说明书的方面。

在下文中，将在下面参照附图描述本公开的一个或多个实施例。在下文中，将参照附图将本公开的一个或多个实施例具体描述至一个本领域普通技术人员能够执行本公开的程度，并且本实用新型的范围并不局限于此。

在描述本公开时，为了清楚地说明，可能会将附图中诸如大小或形状的尺寸放大。因此，在说明书和权利要求书中使用的特定术语或词语的意义不应当局限于文字或通常使用的含义，而是应当根据使用者或操作者的意图和习惯用法进行解释或有所差别。因此，特定术语或词语的含义应当以整个说明书的内容为基础。

首先，根据实施例的具有杂质去除功能的水处理***包括设置在管道之间的壳体，该壳体具有入口和出口，以及设置在壳体的中心部分处的回转式反应器，以在根据经过管道的流体的流动而旋转的同时净化该流体。另外，在壳体的内表面中从壳体的入口处朝向壳体的下侧中心部分形成有杂质引导凹部，并且该杂质引导凹部连接到壳体下侧中心部分内的杂质容纳凹部。另外，在壳体的下侧中心部分处设置有连接到杂质容纳凹部的排流口。将参照附图对上述结构进行更加具体地描述。

壳体100包括为抗磁物质的铝或黄铜材料，并且可以具有涂覆有特氟龙(Teflon)的内部和外部以充分地产生静电。

壳体100包括位于其相对侧的入口101和出口102，且入口101和出口102分别连接到相对的管道的端部。因此，经由一根管道引导进入入口101的流体在经过壳体100后排放至出口102，并且然后排放至其它管道。

壳体100内具有预定大小的空间，并且用于防止产生水垢和腐蚀的回转式反应器200安装在该空间中。因此，经过壳体100的流体接触该回转式反应器200以防止在管道中产生水垢、铁锈、腐蚀等。

在此，回转式反应器200可以包括电气石、贵阳石、土卫七、赭石、脉斑岩、甲壳类动物、锗和释放阴离子的木炭中的至少一种。

回转式反应器200可以安装在壳体100中以便如图3和图4A所示的固定或旋转，并且当回转式反应器200安装成旋转时，回转式反应器200的上部和下部通过位于轴承凹部106中的轴承(未示出)旋转，轴承凹部106分别位于壳体100的上侧中心部分和下侧中心部分处。

在壳体100中，在壳体100的内表面100中凹陷至预定深度的杂质引导凹部105朝向位于壳体100的下侧中心部分处的轴承凹部106以连续的线的形式形成，并且从入口101朝向壳体100的下侧中心部分处的轴承凹部106可以彼此间隔地设置一个或多个杂质引导凹部105。另外，杂质引导凹部105的宽度或深度可以进行不同地修改。

如图3和图4A所示，杂质容纳凹部103在壳体100的内表面的下侧中心部分中凹陷，从而具有预定的宽度和预定的深度，并且可以在轴承凹部106的外部上形成为环，从而与轴承凹部106形成同心圆。

杂质容纳凹部103的侧部连接到杂质引导凹部105，并由此可以将沿着杂质引导凹部105移动的杂质运输到并容纳在杂质容纳凹部103中。

杂质引导凹部105和杂质容纳凹部103可以具有相等或彼此不等的宽度，并且如果需要的话，可以具有凹陷的半球形状或凹陷的的多边形形状。

排流口180可以设置在壳体100的下侧中心，其中，排流口穿透壳体100，并且在排流口180的出口182处可以设置诸如阀或盖的排流构件以便打开/关闭排流口180，其中出口182位于壳体100的外表面处。

壳体100的内表面中的排流口180的入口181位于轴承凹部106下方，并且入口181连接到连接凹部107，连接凹部107横跨杂质容纳凹部103的中心。另外，连接凹部107的相对侧部可以连接到杂质容纳凹部103。

因此，由杂质引导凹部105朝向轴承凹部106引导的沉积杂质被容纳在连接到该杂质引导凹部105的端部的杂质容纳凹部103中，并且在那之后，在经由连接到杂质容纳凹部103的连接凹部107通过排流口180的入口181之后，杂质经由排流口180的出口182排放出去，排流构件已从出口182分离开。

在此，连接凹部107的相对侧部高于其中心部，其中，中心部位于排流口180的入口181处，并且由此可以使连接凹部107从其相对侧部朝着中心部向下倾斜。

根据具有上述结构的实施例，将包括杂质的流体引导通过壳体100的入口101，在经过回转式反应器200的同时进行处理，并且通过壳体100的出口102排放。在此，重的杂质沉积在入口101下方并沿着壳体100的下侧内表面移动，其中，该下侧内表面在回转式反应器下方。在这时，将重的杂质引导至形成于入口101的内表面中的杂质引导凹部105，并容纳在杂质容纳凹部103中，并且将容纳在杂质容纳凹部103中的杂质通过连接到杂质容纳凹部103的连接凹部107而在位于壳体100的下侧中心处的排流口180的入口181附近进行收集，并且使杂质朝向排流口180的出口182移动。

另外，当将封闭排流口180的出口182的排流构件从排流口180的出口182分离开以用于去除杂质的时候，沉积在排流口180中的杂质可以排放至壳体100以外。

另外，当经过壳体100的流体中的杂质重量轻时，杂质可能不会移动到回转式反应器200中，而是可能会移动通过回转式反应器200的外部。在这种情况下，为了引导移动通过回转式反应器200外部的杂质进入到位于壳体100的下部的杂质容纳凹部103中，可以在回转式反应器200的外周边上设置多个翼部210，其中多个翼部210以预定的间距彼此间隔开并沿着回转式反应器200的纵长方向以预定的角度倾斜，如图4A所示。另外，可以在外周边上形成凹部220，其中，凹部220以预定间距彼此间隔开并以预定角度向下倾斜，如图4B所示。这样，当经由入口101引入壳体100的流体在通过回转式反应器200后经由出口102排出时，杂质由于回转式反应器200的翼部210或凹部220可向下移动并收集在杂质容纳凹部103中。

在此，在杂质容纳凹部103的上部可以设置有裙部(未示出)，其中，裙部倾斜地向内延伸，并由此可以防止杂质容纳凹部103中的杂质从杂质容纳凹部103逸出。

同样，设置在回转式反应器200的外周边处的翼部210或者凹部220是线性倾斜的，并且可以沿着回转式反应器200的纵长方向设置在回转式反应器200的前表面和后表面上或者前表面和后表面以及相对的侧表面上以彼此面对。在此，翼部210或凹部220可以不是线性的，而是弯曲的。作为另一实施例，翼部210可以以螺旋的形式连续地或不连续地围绕回转式反应器200的外周边。

同样，以翼部210为例，通过壳体100的流体会受到阻挡，并且由此，可以在每个翼部210的表面形成预定大小的至少一个通孔211。

同样，翼部210可以通过焊接等固定在回转式反应器200的外周边上，但是在翼部210的下端部上可以形成有多个突起(未示出)，该下端部接触回转式反应器200，并且可以在回转式反应器200的外周边中形成***孔(未示出)，从而使突起可以***回转式反应器200的***孔中。在此，翼部210的角度、翼部210之间的间距以及翼部210的数量可以根据***孔的位置进行调整，并且翼部210可以布置成各种形式。

另外，当到了检查或清理回转式反应器200的时候，使用者需要使用裸眼判别壳体100中的回转式反应器200。为了做到这一点，在通过操作位于壳体100的一个侧部上的阀(未示出)而使通过壳体100的流体中断的状态下，打开通过多个联接单元(如螺栓)联接到壳体100的上部的盖子110以判别壳体100中的回转式反应器200。

但是，用上述方式操作需要花费很长时间，并且操作复杂且不高效。

因此，在壳体100的前表面中形成用于观察壳体100内部的观察窗140，并且由此，使用者可以使用裸眼透过观察窗140快速且准确地确定回转式反应器200的状态。

观察窗140的示例如下。

即，如图5所示，可以在壳体100的前表面形成贯穿中心部的观察孔120，且观察孔120可以有各种形状，例如圆形、多边形等。

观察孔120可以形成于位于壳体100的前表面或后表面或上部的盖子110的表面中，并且多个观察孔120可以形成于多个位置。

另外，可以在观察孔120的外周边上设置从壳体100突出预定长度的安装部130，且观察窗140和盖子150安装在安装部130上。

安装部130包括沿着内周边表面的挂钩台阶131以用于在其中固定安装观察窗140，且挂钩台阶130可以包括在安装部130内周边表面上彼此间隔开的多个挂钩台阶，或者挂钩台阶130可以设置成一个整体。

在安装部130的前表面形成联接孔，联接构件152联接到该联接孔，并且由此，通过联接构件152使将在后面描述的盖子150联接到安装部130上。

观察窗140匹配并安装在安装部130中，其中，观察窗140可以包括可以承受高压的钢化玻璃，并且可以围绕观察窗140的外周边表面安装金属框。

观察窗140是透明的，以便可以从壳体100的外部透过观察窗140判别壳体100中的流体的状态，或者可以检查位于壳体100中的回转式反应器200的状态。

观察窗140的形状可以对应于安装部130的内周边表面的形状，并且由此，通过安装部130的挂钩台阶131将观察窗140的外周边钩住并安装。观察窗140可以设置为一个单体。当观察窗140的外周边的底部表面安装在安装部130的挂钩台阶131上时，可以在观察窗140和安装部130之间设置用于密封的密封构件170，且密封构件170也可以设置在观察窗140的外周边的上表面和将在后面描述的盖子150的底部表面之间以用于密封。

观察窗140的内表面需要具有和壳体100的内周边表面的形状相同的形状，其中，该内表面面对壳体100。即，当壳体100的内周边表面为平坦表面时，观察窗140的内表面也可以是平坦的，从而在它们之间不产生台阶。备选地，当壳体100的内周边表面具有预定的曲率时，观察窗140的内表面也可以具有与壳体100的内周边表面的曲率相等的曲率。

当观察窗140具有和壳体100的内周边表面相同的形状时，即，具有相同的曲率或平坦表面时，在壳体100中移动的流体在接触观察窗140时可以自然地移动而不存在任何阻力，并由此可以提高流体的流动性。

作为另一实施例，如图6所示，观察窗140可以包括彼此间隔开的第一观察窗141和第二观察窗142。

当观察窗140包括第一观察窗141和第二观察窗142时，密封构件170可以设置在第一观察窗141和第二观察窗142之间以用于保持间隙和密封。

第一观察窗141和第二观察窗142之间的间隙可以通过单独的间隙保持工具进行保持，并且观察壳体100的内部不应当受到间隙保持工具的干扰。

当观察窗140具有双重结构时，可以防止结露，且即使当双重结构中的一个损坏了，另一个可以保持壳体的密封状态且可以提高壳体100的安全性。

设置了一个或多个观察窗140，盖子150安装在安装部130的前部，以便观察窗140可以固定到安装部130上，并且盖子150在其中心部分可以具有通孔151，其中通孔151具有与观察孔120和观察窗140的形状对应的形状。

也就是说，必须使用裸眼通过通孔151、观察窗140和观察孔120判别壳体100的内部状态，且通孔151的形状可以和观察窗140和观察孔120的形状相同，或者可以进行各种修改直到可以判别壳体100内部的程度。

当盖子150安装在安装部130上时，形成于安装部130的前表面的联接孔与形成在盖子150边界上的***孔对准，并且然后将联接构件152联接到***孔和联接孔以将它们固定。

还可以另外在安装部130和盖子150之间设置密封件160以用于密封。

密封件160可以包括弹性材料，且在密封件160的中心部分的孔161可以允许使用者使用裸眼判别壳体100的内部状态而不阻挡观察孔120和观察窗140。

密封件160可以固定成卡在盖子150和安装部130的前表面之间的状态。备选地，对应于安装部130的联接孔的***孔可以设置在密封件160的外周边上并且联接构件152可以通过密封件160的***孔联接到安装部130的联接孔，并且由此，可以通过联接构件152固定该密封件160。

另外，可以在观察窗140的表面上布置透明涂层143，并且由此，可以透过该透明涂层143看见壳体100的内部状态。

当形成一个观察窗140时，涂层143可以布置在观察窗140的内表面上或者内表面和外表面上，并且当观察窗140包括第一观察窗141和第二观察窗142时，涂层143可以形成于第一观察窗141的内表面和第二观察窗142的外表面上。

涂层143防止了观察窗140被水弄脏，使观察窗140的清洁操作变得简单，且加固了观察窗140以提高耐用性。

涂层143具有对应于观察窗140的形状的形状，且被附接到观察窗140上。

涂层143可以包括依次彼此联接的多个层，例如，附接到观察窗140上的光学硅层、联接到光学硅层上的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)层或钢化玻璃薄膜层、联接到PET层或钢化玻璃层的硬涂层以及联接到硬涂层的疏油涂层或超疏水涂层。

光学硅层可以具有约1.42的透光率，且PET可以包括透明合成树脂。钢化玻璃薄膜层可以具有约8-9H的高硬度，且硬涂层可以具有约3-4的高硬度。疏油涂层通过疏油涂料防止该层与油偶联，且超疏水涂层通过超疏水涂料防止该层与水分子偶联。

根据本公开的具有远程管理***的水处理***具有如下的优点。

即，在包括回转式反应器的水处理***中，在设置于管道之间的壳体中，为了净化通过壳体的流体，将沉积在壳体的下部的杂质进行引导并沉积在杂质容纳部中，并且然后通过排流口排放出去，并由此可以防止净化流体性能的降低，该性能的降低是由在不通过回转式反应器的重杂质没有经过净化而排放时所引起的。

在此，上面描述的效果无论发明人是否意识到，都是显而易见的，且因此仅仅是公开的示例而不包括在现实中可能存在的所有其它效果。

另外，所公开的效果应当通过本公开的全部说明书来理解，并且没有公开但是本领域普通技术人员可以从本公开认识到的效果作为根据本公开的说明书公开的效果。

应当理解的是，在此描述的实施例应当仅仅以描述性的意义看待且不用于限制的目的。每个实施例中的特征或方面的描述通常应看作可用于其它实施例中的其它类似特征或方面。

虽然参照附图描述了一个或多个实施例，但是本领域的普通技术人员将会理解，在不脱离本公开的精神和范围的情况下，可以如以下权利要求所定义的在其中进行形式和细节上的各种改变。

Claims (10)

1.一种具有杂质去除功能的水处理***，所述水处理***安装在管道的一部分中，流体流动经过该水处理***，并且所述水处理***包括：壳体，其连接在相对的管道之间；以及所述壳体中的回转式反应器，所述回转式反应器通过沿着管道移动的所述流体而旋转以处理所述流体，

其中，沿着所述壳体的内表面从所述壳体的入口朝向位于所述回转式反应器的下部的轴承凹部形成有至少一个杂质引导凹部，

环状的杂质容纳凹部设置在所述壳体的内表面的下侧中心部分处，其中，所述杂质容纳凹部在所述轴承凹部的外部与所述轴承凹部形成同心圆，并且所述杂质容纳凹部与所述杂质引导凹部连接，并且

在所述壳体的下侧中心部分形成有排流口，其中，所述排流口的入口通过连接凹部与所述杂质容纳凹部连接。

2.根据权利要求1所述的水处理***，其中，所述回转式反应器在其外周边具有翼部或凹部，且移动通过所述壳体的中心的流体被引导至所述杂质容纳凹部，并且在所述杂质容纳凹部中捕获所述流体中的杂质。

3.根据权利要求2所述的水处理***，其中，所述翼部或凹部沿着所述回转式反应器的外周边以连续或不连续的螺旋的形式设置。

4.根据权利要求2所述的水处理***，其中，所述翼部在其表面包括多个通孔。

5.根据权利要求1所述的水处理***，其中，所述壳体包括：

观察孔，其形成于所述壳体的前表面中，所述观察孔具有预定的大小；

安装部，其从所述观察孔的外周边向外突出，且所述安装部在所述安装部的内周边表面上包括挂钩台阶；

观察窗，其***到所述安装部的内周边表面，其中，所述观察窗的外周边的底部表面安装在所述挂钩台阶上；

盖子，其通过联接构件联接到所述安装部上，所述盖子处于盖子的底部表面接触所述安装部的突起的前边界的状态，且在所述盖子的中心处具有通孔；以及

密封件，其设置在所述安装部的所述前边界和所述盖子的所述底部表面之间，且在所述密封件的中心处具有孔。

6.根据权利要求5所述的水处理***，其中，在所述观察窗的内表面或相对的表面上形成有涂层，并且透过所述涂层判别所述壳体的内部状态。

7.根据权利要求6所述的水处理***，其中，所述涂层具有与所述观察窗的大小对应的大小，且所述涂层包括依次彼此联接的：

光学硅附接层；

聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)层；

硬涂层；以及

疏油涂层或超疏水涂层。

8.根据权利要求6所述的水处理***，其中，所述涂层具有与所述观察窗的大小对应的大小，且所述涂层包括依次彼此联接的：

光学硅附接层；

钢化玻璃薄膜层；

硬涂层；以及

疏油涂层或超疏水涂层。

9.根据权利要求1所述的水处理***，其中，所述回转式反应器内包含电气石、贵阳石、土卫七、赭石、脉斑岩、甲壳类动物、锗和木炭中的一种。

10.根据权利要求1所述的水处理***，其中，所述回转式反应器包括锌、镁或铜中的一种。