CN208414521U - 一种双等离子镀膜机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种双等离子镀膜机，包括机架、设置在机架上方的机罩，所述机罩上有进料口到出料口，所述机架上有物料传输装置，在所述机架上，依次设置有等离子清洗装置，喷涂装置，烘烤装置，其特征在于，所述等离子清洗装置包括两台或两台以上的等离子喷枪，所述喷涂装置包括两台或两台以上的喷涂枪，所述物料传输装置上设有物料传送带，所述物料传送带上分布有透气栅格，在所述机罩上对应设置排污风口。本实用新型提供的设备，能够对触摸屏AF面进行均匀清洗和喷涂，能有效降低因弹力作用而对摸屏玻璃的AF背面造成损伤，提高成品率，同时避免强大的气流冲击使得玻璃发生位移。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种用于清洗和喷涂触摸屏或电路板的等离子镀膜设备，特别涉及一种喷涂均匀且兼具等离子清洗、喷涂、烘烤功能的等离子镀膜设备。
背景技术
随着电子技术的发展，现在的电子设备大多都带有覆盖有玻璃的触摸显示屏。为了提高触摸屏抗指纹的性能，触摸屏的触控面通常会喷涂一层抗指纹防油污涂层，俗称触摸屏玻璃的AF面。为了达到更好的指纹防油污效果，通常要求对触摸屏的触控面进行均匀的清洗和喷涂，另一方面需要对喷涂之后的触摸屏进行烘烤处理，此外，为了提高触摸屏的显示质量，在喷涂的过程中，触摸屏的AF背面不可粘上涂层。
然而现有的等离子镀膜机，存在这样的缺陷：一方面对触摸屏的触控面的清洗和喷涂不够均匀；另一方面在清洗和喷涂的过程中，等离子体或喷涂料子容易因弹力作用而对摸屏玻璃的AF背面造成损伤，且强大的等离子气流和喷涂粒子气流容易冲击玻璃产生位移；为此，迫切需要一种能够清洗和喷涂均匀且有效降低对摸屏玻璃的AF背面造成损伤的等离子镀膜设备。
实用新型内容
针对上述不足，本实用新型为解决上述技术问题，提供了一种等离子镀膜机，一方面能够对触摸屏AF面进行均匀的清洗和喷涂；另一方面在清洗和喷涂的过程中，有效降低因弹力作用而对摸屏玻璃的AF背面造成损伤，提高成品率，同时避免强大的气流冲击使得玻璃发生位移。
本实用新型通过以下技术手段解决上述技术问题：
双等离子镀膜机包括机架、设置在机架上方的机罩，所述机罩上设置有进料口到出料口，所述机架上设置有物料传输装置，在所述机架上，从所述进料口到出料口方向依次设置有等离子清洗装置、喷涂装置、烘烤装置，其特征在于，所述等离子清洗装置包括两台或两台以上的等离子喷枪，所述喷涂装置包括两台或两台以上的喷涂枪，所述物料传输装置上设有物料传送带，所述物料传送带上分布有透气栅格，在所述机罩上对应设置排污风口。
优选的，还包括物料感应器，所述物料感应器可固定所述机架或者物料传输装置上。
优选的，所述等离子清洗装置和喷涂装置通过移动***在所述物料传送带的上方实现移动。
优选的，所述移动***包括导轨，安装在导轨上的喷枪固定块，驱动所述喷枪固定块移动的伺服电机。
优选的，在所述等离子固定块上设置有等离子喷枪高度调节器。
优选的，所述机罩上还设置有控制***和触控屏，所述触控屏与控制***电连接，所述物料传输装置、等离子清洗装置、喷涂装置、烘烤装置均与控制***电连接。
优选的，所述机罩上的排污风口设置在与所述触控屏相对的另一侧。
由于所述等离子清洗装置上有包括两台或两台以上的等离子喷枪，且所述喷涂装置上有两台或两台以上的喷涂枪，因此在喷涂的时候能够更为均匀的实现清洗和喷涂。
由于所述物料传送带上分布有透气栅格，在所述机罩上对应设置排污风口，透气栅格能够使等离子和喷涂枪气流渗透到物料传输装置的下方，并通过排污风口将废气排除，一方面有效防止了纳米涂层喷涂到玻璃背面，提高了成品率；另一方面避免强大的气流冲击使得玻璃发生位移。
由于在双等离子镀膜机上设置有物料感应器，使得等离子清洗装置、喷涂装置能够自动检测和感应物料，并由此根据检测和感应的情况自动控制双等离子镀膜机的清洗和喷涂工作，提高了机器的工作效率。
由于在所述等离子固定块上设置有等离子喷枪高度调节器，因此可以根据不同的触摸屏清洗和镀膜需求进行等离子喷枪的高度调节，扩大了双等离子镀膜机工作适应范围。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步描述。
图1为实施例所述双等离子镀膜机的结构示意图；
图2为实施例所述双等离子镀膜机在内部结构示意图；
图3为实施例所述双等离子镀膜机在摘去机罩时的内部结构主视图；
图4为实施例所述双等离子镀膜机的物料传输装置的俯视图；
图5为实施例所述双等离子镀膜机的等离子清洗装置结构示意图；
图6为实施例所述双等离子镀膜机的喷涂装置结构示意图。
具体实施方式
现结合附图，通过实施例对本实用新型的技术方案作进一步说明。需要说明的是，以下所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
为了更好地对本实用新型的技术方案作更好的描述，术语中“上部”及“底部”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或者位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，不能理解为是对本实用新型的限制，此外术语“相连”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸的活动连接。
如图1至图6所示的双等离子镀膜机及其组件，包括机架1、设置在机架上方的机罩2，所述机罩上设置有进料口11到出料口12，所述机架上设置有物料传输装置3，在所述机架2上，从所述进料口11到出料口12方向依次安装有等离子清洗装置4，喷涂装置5，烘烤装置6,在所述机架2上还设置有自动检测和感应物料的物料感应器7。
如图1至图3所示，所述机罩2的表面设置有触控屏201、操作按钮202，所述控制***机罩2的内部还设置有控制***(图中未标注)，所述触控屏201 与控制***电连接，所述物料传输装置3、等离子清洗装置4、喷涂装置5、烘烤装置6均与控制***电连接。
如图4所示，物料传输装置3，搭载在机架上，包括固定在机架一侧的电机传动组件30，两端分别固定在机架上的托辊31，承载在托辊31上的物料传送带 32，为了有效防止了纳米涂层喷涂到玻璃背面，提高了成品率，以及避免强大的气流冲击使得玻璃发生位移，在物料传送带31的表面分布有透气栅格321，这种物料传送带可以选择PTEF网格皮带。所述托辊31依靠所述电机传动组件30的传动实现滚动，所述物料传送带32依靠托辊31的滚动实现传动。
如图5所示，等离子清洗装置4，包括移动***、等离子喷枪41和等离子喷枪高度调节器42，以及用于产生等离子的等离子主机43。移动***40固定在机架且位于物料传送带32上方，该移动***可以由常见的工作机械手构成，包括移动导轨401，贯穿移动导轨401的等离子固定块402，以及导轨传动电机403；所述等离子喷枪41，分别为固定安装在等离子固定块402，所述等离子固定块402 上还连接有等离子喷枪高度调节器42，所述等离子主机43位于机架的下方。所述等离子喷枪41、等离子固定块402、等离子主机43以及等离子喷枪高度调节器42的数量均为两个。
如图6所示，喷涂装置5，包括固定在机架且位于物料传送带32上方的移动***，该移动***可以由常见的工作机械手构成，包括移动导轨501，位于移动导轨501的一侧且与移动导轨501固定连接的喷涂枪固定条502，与移动导轨相连的导轨传动电机503；还包括与喷涂枪固定条502相连的喷涂枪51，所述喷涂枪51的数量为两个，为配合喷涂枪的使用，在位于机架下方的区域固定有喷枪压力桶52。
如图1至图3所示，烘烤装置是一个固化炉6，位于喷涂装置5的一侧，固定在机架且位于物料传送带32上方。经喷涂后的物料进行固化炉6内进行烘烤，经过固定温度和时间的烘烤后，物料从物料传送带32末端的出料口12运出完成整个清洗、喷涂和烘烤的过程。
如图3所示，为了便于实现双等离子镀膜机的自动运行，在所述机架的侧边设置有多个光电感应器7作为物料感应器，该物料感应器与所述控制***电连接，当物料进入清洗、喷涂、烘烤等不同的工作区域时，光电感应器能够自动检测到物料，并将信号传输给控制***，控制***同时对相应的工作区域的装置发出工作指令并开始计时，工作时间结束后，控制***对相应的工作区域的装置发出结束工作的指令，从而实现双等离子镀膜机的自动运行。
如图4所示，为了与物料传送带31的表面分布的透气栅格321配合工作，在机罩开有排污风口(图中未标注)，更好的方案是将排污风口设置在与所述触摸屏201相对的另一侧。
本实用新型所提供的双等离子镀膜机，由于所述等离子清洗装置上有包括两台或两台以的等离子喷枪，且所述喷涂装置上有两台或两台以上的喷涂枪，因此在喷涂的时候能够更为均匀的实现清洗和喷涂；由于所述物料传送带上分布有透气栅格，在所述机罩上对应设置排污风口，透气栅格能够使等离子和喷涂枪气流渗透到物料传输装置的下方，并通过排污风口将废气排除，一方面有效防止了纳米涂层喷涂到玻璃背面，提高了成品率；另一方面避免强大的气流冲击使得玻璃发生位移由于在双等离子镀膜机上设置有物料感应器，使得等离子清洗装置、喷涂装置能够自动检测和感应物料，并由此根据检测和感应的情况自动控制双等离子镀膜机的清洗和喷涂工作，提高了机器的工作效率。此外，由于在所述等离子固定块上设置有等离子喷枪高度调节器，因此可以根据不同的触摸屏清洗和镀膜需求进行等离子喷枪的高度调节，扩大了双等离子镀膜机工作适应范围。
最后说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
Claims (8)
1.一种双等离子镀膜机，包括机架、设置在机架上方的机罩，所述机罩上设置有进料口到出料口，所述机架上设置有物料传输装置，在所述机架上，从所述进料口到出料口方向依次设置有等离子清洗装置、喷涂装置、烘烤装置，其特征在于，所述等离子清洗装置包括两台或两台以上的等离子喷枪，所述喷涂装置包括两台或两台以上的喷涂枪，所述物料传输装置上设有物料传送带，所述物料传送带上分布有透气栅格，在所述机罩上对应设置排污风口。
2.根据权利要求1所述的双等离子镀膜机，其特征在于，还包括物料感应器，所述物料感应器可固定所述机架或者物料传输装置上。
3.根据权利要求1所述的双等离子镀膜机，其特征在于，所述等离子清洗装置和喷涂装置通过移动***在所述物料传送带的上方实现移动。
4.根据权利要求2所述的双等离子镀膜机，其特征在于，所述等离子清洗装置和喷涂装置通过移动***在所述物料传送带的上方实现移动。
5.根据权利要求3或4所述的双等离子镀膜机，其特征在于，所述移动***包括导轨，安装在导轨上的喷枪固定块，驱动所述喷枪固定块移动的伺服电机。
6.根据权利要求3或4所述的双等离子镀膜机，其特征在于，在所述等离子固定块上设置有等离子喷枪高度调节器。
7.根据权利要求1至4任意一项所述的双等离子镀膜机，其特征在于，所述机罩上还设置有控制***和触控屏，所述触控屏与控制***电连接，所述物料传输装置、等离子清洗装置、喷涂装置、烘烤装置均与控制***电连接。
8.根据权利要求7所述的双等离子镀膜机，其特征在于，所述机罩上的排污风口设置在与所述触控屏相对的另一侧。
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