CN110158026A - 掩膜版和掩膜版的张网方法 - Google Patents

掩膜版和掩膜版的张网方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种掩膜版和掩膜版的张网方法,掩膜版包括相互贴合的第一掩膜版和第二掩膜版,第一掩膜版上具有至少一个呈镂空状的第一蒸镀区以及与异形屏的异形区对应的遮挡区,第二掩膜版上具有至少一个第二蒸镀区,每个所述第二蒸镀区上开设多个蒸镀孔,且所述第一蒸镀区与所述第二蒸镀区相对应,本发明提供的掩膜版,实现了掩膜版在张网过程中不易发生褶皱的目的,解决了现有掩膜版在张网过程中易在与异形屏的异形区对应的位置出现褶皱的问题。

Description

掩膜版和掩膜版的张网方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜版和掩膜版的张网方法。
背景技术
显示屏已被广泛用于便携式电子器件(例如可以用于移动通讯终端、平板电脑、电子书以及导航设备)以及大屏化电子装置等诸多领域,其中,有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode,简称:OLED)因具有低功耗、高色饱和度、广视角、薄厚度、能实现柔性化等优异性逐渐被应用到显示屏中。
目前,显示屏的制作过程中,往往会使用到精细金属掩模版(Fine Metal Mask,简称:FMM),其中,精细金属掩模版在使用时首先需要张网,具体将一张掩膜版(mask)在框架上进行定位并将掩膜版固定在框架上,完成张网,张网结束后开始蒸镀,在基板上形成对应的膜层。
然而,上述掩膜版在张网过程中,对于刘海屏等其他的异形屏而言,掩膜版上与异形屏的异形区对应的位置易出现褶皱。
发明内容
为了解决背景技术中提到的至少一个问题,本发明提供一种掩膜版和掩膜版的张网方法,解决了现有掩膜版在张网过程中易在与异形屏的异形区对应的位置出现褶皱的问题。
为了实现上述目的,本发明提供一种掩膜版,包括相互贴合的第一掩膜版和第二掩膜版,第一掩膜版上具有至少一个呈镂空状的第一蒸镀区以及与异形屏的异形区对应的遮挡区,第二掩膜版上具有至少一个第二蒸镀区,每个所述第二蒸镀区上开设多个蒸镀孔,且所述第一蒸镀区与所述第二蒸镀区相对应。
本发明提供的掩膜版,通过包括相互贴合的第一掩膜版和第二掩膜版,第一掩膜版上具有至少一个呈镂空状的第一蒸镀区以及与异形屏的异形区对应的遮挡区,第二掩膜版上具有至少一个第二蒸镀区,每个所述第二蒸镀区上开设多个蒸镀孔,且所述第一蒸镀区与所述第二蒸镀区相对应,这样第一掩膜版和第二掩膜版相互层叠贴合为一个整体结构,张网过程中,即使第一掩膜版上第一蒸镀区由于遮挡区不对称,但是在第二掩膜版的作用下,使得第一掩膜版和第二掩膜版组成整体结构,而第二掩膜版上不存在受力不均匀的区域,这样第一掩膜版在张网过程中不易出现受力不均匀的情况,避免了第一掩膜版上与异形屏的异形区对应的位置在张网过程中易出现褶皱的问题,因此,本实施例提供的掩膜版,实现了掩膜版在张网过程中不易在与异形屏的异形区对应的位置发生褶皱的目的,解决了现有掩膜版在张网过程中易在与异形屏的异形区对应的位置出现褶皱的问题。
在上述的掩膜版中,可选的是,所述遮挡区位于所述第一蒸镀区内,且所述遮挡区与所述第一蒸镀区的边缘相连。
在上述的掩膜版中,可选的是,所述第一掩膜版上的部分区域朝向所述第一蒸镀区内延伸形成所述遮挡区。
在上述的掩膜版中,可选的是,所述第一掩膜版设在所述第二掩膜版上,或者所述第二掩膜版设在所述第一掩膜版上。
在上述的掩膜版中,可选的是,所述第二蒸镀区的面积大于等于所述第一蒸镀区的面积。
在上述的掩膜版中,可选的是,所述第一掩膜版和所述第二掩膜版之间通过卡合或粘合固定相连。
在上述的掩膜版中,可选的是,所述第一蒸镀区和所述第二蒸镀区为形状相同的方形。
在上述的掩膜版中,可选的是,所述蒸镀孔为圆孔或方孔。
本发明还提供一种掩膜版的张网方法,所述方法包括:提供第一掩膜版和第二掩膜版,其中,第一掩膜版上具有至少一个呈镂空的第一蒸镀区以及与异形屏的异形区对应的遮挡区,第二掩膜版上具有至少一个第二蒸镀区,每个所述第二蒸镀区上开设多个蒸镀孔;
将所述第一掩膜版和所述第二掩膜版相互贴合形成层叠设置的双层掩膜版,且所述第一蒸镀区与所述第二蒸镀区相对应;
将所述第一掩膜版和所述第二掩膜版层叠形成的所述双层掩膜版进行张网。
在上述的掩膜版中,可选的是,所述将所述第一掩膜版和所述第二掩膜版相互贴合形成层叠设置的双层掩膜版,包括:
在所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中其中一个的非开口区域上设置胶层;
所述第一掩膜版和所述第二掩膜版通过所述胶层贴合形成层叠设置的所述双层掩膜版。
本发明的构造以及它的其他发明目的及有益效果将会通过结合附图而对优选实施例的描述而更加明显易懂。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有掩膜版的结构示意图;
图2为本发明实施例一提供的掩膜版的剖面结构示意图;
图3为本发明实施例一提供的掩膜版中第一掩膜版的结构示意;
图4为本发明实施例一提供的掩膜版中第二掩膜版的结构示意;
图5为本发明实施例二提供的掩膜版的张网方法的流程示意图。
附图标记说明:
100-掩膜版; 10-第一掩膜版; 11-第一蒸镀区; 12-遮挡区;
20-第二掩膜版; 21-第二蒸镀区; 22-蒸镀孔。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明的优选实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行更加详细的描述。在附图中,自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。下面结合附图对本发明的实施例进行详细说明。
在本发明实施例的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应作广义理解,例如,可以使固定连接,也可以是通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或者两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
实施例一
图2为本发明实施例一提供的掩膜版的剖面结构示意图,图3为本发明实施例一提供的掩膜版中第一掩膜版的结构示意,图4为本发明实施例一提供的掩膜版中第二掩膜版的结构示意。
本发明的发明人在实际研究过程中发现,目前的掩膜版在张网过程中易在与异形屏的异形区对应的位置出现褶皱的问题,而发明人研究发现,产生该问题的原因在于:对于刘海屏等其他的异性屏而言,由于屏体异形区(即Notch区域)Notch区域的设置,这样使得掩膜版上存在与Notch区域对应的遮挡区3,具体的掩膜版(mask)的结构如图1所示,掩膜版1上具有蒸镀开口区2以及与异形区对应的遮挡区3,由于遮挡区3的设置使得掩膜版1上的蒸镀开口区2不对衬,这样在张网过程中,由于受力不均,使得掩膜版1在遮挡区3易出现褶皱。
基于上述的发现以及存在的技术问题,本发明实施例提供以下解决方案:参照图2、图3和图4所示,本实施例提供一种掩膜版100,掩膜版100包括相互贴合的第一掩膜版10和第二掩膜版20,即本实施例中,第一掩膜版10和第二掩膜版20相互贴合在一起,第一掩膜版10和第二掩膜版20为层叠设置的整体结构,其中,本实施例中,第一掩膜版10上具有至少一个呈镂空状的第一蒸镀区11以及与异形屏的异形区对应的遮挡区,即本实施例中,第一掩膜版10上具有一个或多个第一蒸镀区11,且该第一蒸镀区11的整个区域为镂空的,同时第一掩膜版10上还具有与异形屏的异形区(即Notch区域)对应的遮挡区12,需要说明的是,如图3所示,第一蒸镀区11与遮挡区12的数量一一对应,即第一蒸镀区11对应设置一个遮挡区12,或者,本实施例中,第一蒸镀区11也可以对应设置多个遮挡区12,本实施例中,第一蒸镀区11对应设置的遮挡区12的数量具体根据显示屏上的异形区的数量相对应。
其中,本实施例中,如图4所示,第二掩膜版20上具有至少一个第二蒸镀区21,每个第二蒸镀区21上开设多个蒸镀孔22,即本实施例中,第二蒸镀区21的部分区域开设蒸镀孔22,且各个蒸镀孔22之间间隔预设距离,第二蒸镀区21上不存在与异形屏的异形区对应的区域,且第一掩膜版10和第二掩膜版20相互贴合时,第一掩膜版10的第一蒸镀区11与第二掩膜版20的第二蒸镀区21相对应,这样张网时,由于第一掩膜版10和第二掩膜版20相互层叠贴合为一个整体结构,张网过程中,即使第一掩膜版10上第一蒸镀区11由于遮挡区12不对称,但是在第二掩膜版20的作用下,使得第一掩膜版10和第二掩膜版20组成整体结构,而第二掩膜版20上不存在受力不均匀的区域,这样第一掩膜版10在张网过程中不易出现受力不均匀的情况,避免了第一掩膜版10上与异形屏的异形区对应的位置在张网过程中易出现褶皱的问题。
其中,本实施例中,如图3所示,第一掩膜版10上具有三个第一蒸镀区11和三个遮挡区12,每个第一蒸镀区11之间间隔一定的距离,相应的,如图4所示,第二掩膜版20上也设有三个第二遮挡区12,每个第二遮挡区12上设有分布有6行5列的蒸镀孔22,需要说明的是,第一掩膜版10和第二掩膜版20上的第一蒸镀区11和第二蒸镀区21的数量包括但不限于三个,还可以为4个或6个等,本实施例中,第一掩膜版10和第二掩膜版20上的第一蒸镀区11和第二蒸镀区21的数量具体实际需求进行设定。
其中,本实施例中,第一掩膜版10和第二掩膜版20的大小可以相同,或者本实施例中,为了确保能形成异形屏,第二掩膜版20的尺寸大于第一掩膜版10的尺寸,这样确保第一掩膜版10上的第一蒸镀区11和遮挡区12不受第二掩膜版20的限制。
因此,本实施例提供的掩膜版,通过包括相互贴合的第一掩膜版10和第二掩膜版20,第一掩膜版10上具有至少一个呈镂空状的第一蒸镀区11以及与异形屏的异形区对应的遮挡区12,第二掩膜版20上具有至少一个第二蒸镀区21,每个第二蒸镀区21上开设多个蒸镀孔22,且第一蒸镀区11与第二蒸镀区21相对应,这样第一掩膜版10和第二掩膜版20相互层叠贴合为一个整体结构,张网过程中,即使第一掩膜版10上第一蒸镀区11由于遮挡区12不对称,但是在第二掩膜版20的作用下,使得第一掩膜版10和第二掩膜版20组成整体结构,而第二掩膜版20上不存在受力不均匀的区域,这样第一掩膜版10在张网过程中不易出现受力不均匀的情况,避免了第一掩膜版10上与异形屏的异形区对应的位置在张网过程中易出现褶皱的问题,因此,本实施例提供的掩膜版,实现了掩膜版在张网过程中不易在与异形屏的异形区对应的位置发生褶皱的目的,解决了现有掩膜版在张网过程中易在与异形屏的异形区对应的位置出现褶皱的问题。
进一步的,在上述实施例的基础上,本实施例中,遮挡区12位于第一蒸镀区11内,且遮挡区12与第一蒸镀区11的边缘相连,具体的,如图3所示,遮挡区12位于第一蒸镀区11的顶端,且位于第一蒸镀区11的顶端中间位置,需要说明的是,遮挡区12的位置还可以位于第一蒸镀区11的顶端且靠左边或右边设置,即本实施例中,遮挡区12位于第一蒸镀区11内的位置具体根据异形屏上异形区的位置进行设置。
其中,本实施例中,遮挡区12与第一蒸镀区11的边缘相连时,具体的,遮挡区12可以与第一蒸镀区11的边缘一体成型,或者遮挡区12与第一蒸镀区11的边缘之间通过焊接、卡接或粘合等方式进行连接。
进一步的,在上述实施例的基础上,本实施例中,如图3所示,第一掩膜版10上的部分区域朝向第一蒸镀区11内延伸形成遮挡区12,即本实施例中,遮挡区12与第一掩膜版10一体成型的,这样确保了遮挡区12在第一掩膜版10上不易脱落。
进一步的,在上述实施例的基础上,本实施例中,第一掩膜版10和第一掩膜版10相互贴合时,具体的,第一掩膜版10可以设在第二掩膜版20上,或者第二掩膜版20可以设在第一掩膜版10上,即第一掩膜版10和第二掩膜版20相互层叠设置时,第一掩膜版10和第二掩膜版20中的其中一个位于另一个之上。
进一步的,在上述实施例的基础上,本实施例中,第二蒸镀区21的面积大于等于第一蒸镀区11的面积,这样确保形成的显示屏与第一蒸镀区11和遮挡区12相对应,避免了由于第二蒸镀区21尺寸过小而导致第一蒸镀区11和遮挡区12的部分区域被第二掩膜版20遮挡的问题。
进一步的,在上述实施例的基础上,本实施例中,第一掩膜版10和第二掩膜版20相互贴合形成一个整体结构时,具体的,第一掩膜版10和第二掩膜版20之间通过卡合或粘合固定相连,即本实施例中,第一掩膜版10和第二掩膜版20之间通过卡合或粘合层叠贴合在一起,使得第一掩膜版10和第二掩膜版20形成整体结构,这样形成的掩膜版在张网过程中,由于对第一掩膜版10和第二掩膜版20形成的整体掩膜版进行张网,所以避免了第一掩膜版10上与异形屏的异形区对应的位置发生褶皱问题。
进一步的,在上述实施例的基础上,本实施例中,如图3和图4所示,第一蒸镀区11和第二蒸镀区21为形状相同的方形,即本实施例中,第一蒸镀区11为方形,第二蒸镀区21也为方形,需要说明的是,第二蒸镀区21还可以为其他形状,例如还可以为圆形,但是需确保第二蒸镀区21在第一掩膜版10上的投影面积大于第一蒸镀区11和遮挡区12的面积。
进一步的,在上述实施例的基础上,本实施例中,蒸镀孔22为圆孔或方孔,或者本实施例中,第二蒸镀区21上的部分蒸镀孔22为圆孔,部分蒸镀孔22还可以为方孔,需要说明的是,本实施例中,第二蒸镀上开设的蒸镀孔22的形状包括但不限于上述圆孔或方孔,还可以为其他形状的蒸镀孔22。
实施例二
图5为本发明实施例二提供的掩膜版的张网方法的流程示意图。
本实施例提供一种掩膜版的张网方法,张网方法如图5所示,包括如下步骤:
步骤101:提供第一掩膜版10和第二掩膜版20;
其中,本实施例中,第一掩膜版10和第二掩膜版20的结构可以参考图3和图4所示,具体的,第一掩膜版10上具有至少一个呈镂空的第一蒸镀区11以及与异形屏的异形区对应的遮挡区12,具体的,第一掩膜版10上具有一个或多个第一蒸镀区11,且该第一蒸镀区11的整个区域为镂空的,同时第一掩膜版10上还具有与异形屏的异形区(即Notch区域)对应的遮挡区12,需要说明的是,如图3所示,第一蒸镀区11与遮挡区12的数量一一对应,即第一蒸镀区11对应设置一个遮挡区12,或者,本实施例中,第一蒸镀区11也可以对应设置多个遮挡区12,本实施例中,第一蒸镀区11对应设置的遮挡区12的数量具体根据显示屏上的异形区的数量相对应,同时,第二掩膜版20上具有至少一个第二蒸镀区21,每个第二蒸镀区21上开设多个蒸镀孔22,具体的,第二蒸镀区21的部分区域开设蒸镀孔22,且各个蒸镀孔22之间间隔预设距离,第二蒸镀区21上不存在与异形屏的异形区对应的区域。
步骤102:将第一掩膜版10和第二掩膜版20相互贴合形成层叠设置的双层掩膜版,且第一蒸镀区11与第二蒸镀区21相对应。
其中,本实施例中,第一掩膜版10和第二掩膜版20相互贴合形成层叠设置的双层掩膜版,且第一掩膜版10和第二掩膜版20相互贴合时,第一掩膜版10的第一蒸镀区11与第二掩膜版20的第二蒸镀区21相对应,即本实施例中,第一掩膜版10和第二掩膜版20相互层叠贴合为一个整体结构,张网过程中,即使第一掩膜版10上第一蒸镀区11由于遮挡区12不对称,但是在第二掩膜版20的作用下,使得第一掩膜版10和第二掩膜版20组成整体结构,而第二掩膜版20上不存在受力不均匀的区域,这样第一掩膜版10在张网过程中不易出现受力不均匀的情况,避免了第一掩膜版10上与异形屏的异形区对应的位置在张网过程中易出现褶皱的问题。
步骤103:将第一掩膜版10和第二掩膜版20层叠形成的双层掩膜版进行张网。
既本实施例中,具体将第一掩膜版10和第二掩膜版20层叠形成的双层掩膜版进行张网,这样张网时,由于第一掩膜版10和第二掩膜版20相互层叠贴合为一个整体结构,张网过程中,第一掩膜版10在张网过程中不易出现受力不均匀的情况,避免了第一掩膜版10上与异形屏的异形区对应的位置在张网过程中易出现褶皱的问题。
其中,本实施例中,第一掩膜版10和第二掩膜版20层叠形成的双层掩膜版进行张网时,具体的,将第一掩膜版10和第二掩膜版20层叠形成的双层掩膜版的四个边角固定在张网机上进行张网,其中,本实施例中,张网机为现有的设备,张网机对掩膜版的固定可以参考现有张网方法,本实施例中,不再赘述。
本实施例提供的掩膜版的张网方法,通过提供第一掩膜版10和第二掩膜版20,将第一掩膜版10和第二掩膜版20相互贴合形成层叠设置的双层掩膜版,且第一掩膜版10的第一蒸镀区11与第二掩膜版20的第二蒸镀区21相对应,将将第一掩膜版10和第二掩膜版20层叠形成的双层掩膜版进行张网,这样第一掩膜版10和第二掩膜版20相互层叠贴合为一个整体结构,张网过程中,即使第一掩膜版10上第一蒸镀区11由于遮挡区12不对称,但是在第二掩膜版20的作用下,使得第一掩膜版10和第二掩膜版20组成整体结构,而第二掩膜版20上不存在受力不均匀的区域,这样第一掩膜版10在张网过程中不易出现受力不均匀的情况,避免了第一掩膜版10上与异形屏的异形区对应的位置在张网过程中易出现褶皱的问题,因此,本实施例提供的掩膜版的张网方法,实现了掩膜版在张网过程中不易在与异形屏的异形区对应的位置发生褶皱的目的,解决了现有掩膜版在张网过程中易在与异形屏的异形区对应的位置出现褶皱的问题。
进一步的,在上述实施例的基础上,本实施例中,上述步骤102中,将第一掩膜版10和第二掩膜版20相互贴合形成层叠设置的双层掩膜版,具体包括如下步骤:
步骤a:在第一掩膜版10和第二掩膜版20中其中一个的非开口区域上设置胶层;
即本实施例中,可以在第一掩膜版10的非开口区域上设置胶层,例如第一掩膜版10除第一蒸镀区11之外的区域上设置胶层,或者可以在第二掩膜版20的非开口区域上设置胶层,例如,在第二掩膜版20上除蒸镀孔22之外的区域设置胶层,胶层用于将第一掩膜版10和第二掩膜版20进行粘合。
步骤b:第一掩膜版10和第二掩膜版20通过胶层贴合形成层叠设置的双层掩膜版。
即本实施例中,第一掩膜版10和第二掩膜版20之间通过胶层粘合形成双层结构的掩膜版,需要说明的是,本实施例中,第一掩膜版10和第二掩膜版20之间除了胶层粘合外,还可以通过其他方式例如卡合等方式贴合在一起。
在本发明实施例的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非是另有精确具体地规定。
本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等(如果存在)是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施例例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、***、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种掩膜版,其特征在于,包括相互贴合的第一掩膜版和第二掩膜版,第一掩膜版上具有至少一个呈镂空状的第一蒸镀区以及与异形屏的异形区对应的遮挡区,第二掩膜版上具有至少一个第二蒸镀区,每个所述第二蒸镀区上开设多个蒸镀孔,且所述第一蒸镀区与所述第二蒸镀区相对应。
2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述遮挡区位于所述第一蒸镀区内,且所述遮挡区与所述第一蒸镀区的边缘相连。
3.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第一掩膜版上的部分区域朝向所述第一蒸镀区内延伸形成所述遮挡区。
4.根据权利要求1-3任一所述的掩膜版,其特征在于,所述第一掩膜版设在所述第二掩膜版上,或者所述第二掩膜版设在所述第一掩膜版上。
5.根据权利要求1-3任一所述的掩膜版,其特征在于,所述第二蒸镀区的面积大于等于所述第一蒸镀区的面积。
6.根据权利要求1-3任一所述的掩膜版,其特征在于,所述第一掩膜版和所述第二掩膜版之间通过卡合或粘合固定相连。
7.根据权利要求1-3任一所述的掩膜版,其特征在于,所述第一蒸镀区和所述第二蒸镀区为形状相同的方形。
8.根据权利要求1-3任一所述的掩膜版,其特征在于,所述蒸镀孔为圆孔或方孔。
9.一种掩膜版的张网方法,其特征在于,所述方法包括:
提供第一掩膜版和第二掩膜版,其中,第一掩膜版上具有至少一个呈镂空的第一蒸镀区以及与异形屏的异形区对应的遮挡区,第二掩膜版上具有至少一个第二蒸镀区,每个所述第二蒸镀区上开设多个蒸镀孔;
将所述第一掩膜版和所述第二掩膜版相互贴合形成层叠设置的双层掩膜版,且所述第一蒸镀区与所述第二蒸镀区相对应;
将所述第一掩膜版和所述第二掩膜版层叠形成的所述双层掩膜版进行张网。
10.根据权利要求9所述的掩膜版的张网方法,其特征在于,所述将所述第一掩膜版和所述第二掩膜版相互贴合形成层叠设置的双层掩膜版,包括:
在所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中其中一个的非开口区域上设置胶层;
所述第一掩膜版和所述第二掩膜版通过所述胶层贴合形成层叠设置的所述双层掩膜版。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115627444A (zh) * 2022-11-02 2023-01-20 合肥维信诺科技有限公司 掩膜版组件及掩膜版组件的搬运方法
CN115685661A (zh) * 2022-09-21 2023-02-03 惠科股份有限公司 光罩组件及基板的制备方法
CN116162894A (zh) * 2023-02-28 2023-05-26 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制作方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107699854A (zh) * 2017-11-10 2018-02-16 京东方科技集团股份有限公司 掩膜组件及其制造方法
CN108461379A (zh) * 2017-02-21 2018-08-28 上海和辉光电有限公司 掩模装置及显示面板的制作方法
CN108559946A (zh) * 2018-05-14 2018-09-21 昆山国显光电有限公司 掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板
CN108588641A (zh) * 2018-05-03 2018-09-28 京东方科技集团股份有限公司 一种掩模组件及其制备方法
CN208266253U (zh) * 2018-05-14 2018-12-21 昆山国显光电有限公司 掩膜板
CN109371361A (zh) * 2018-12-15 2019-02-22 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板组件和显示面板及其制作方法
CN109628881A (zh) * 2019-01-17 2019-04-16 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108461379A (zh) * 2017-02-21 2018-08-28 上海和辉光电有限公司 掩模装置及显示面板的制作方法
CN107699854A (zh) * 2017-11-10 2018-02-16 京东方科技集团股份有限公司 掩膜组件及其制造方法
CN108588641A (zh) * 2018-05-03 2018-09-28 京东方科技集团股份有限公司 一种掩模组件及其制备方法
CN108559946A (zh) * 2018-05-14 2018-09-21 昆山国显光电有限公司 掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板
CN208266253U (zh) * 2018-05-14 2018-12-21 昆山国显光电有限公司 掩膜板
CN109371361A (zh) * 2018-12-15 2019-02-22 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板组件和显示面板及其制作方法
CN109628881A (zh) * 2019-01-17 2019-04-16 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115685661A (zh) * 2022-09-21 2023-02-03 惠科股份有限公司 光罩组件及基板的制备方法
CN115627444A (zh) * 2022-11-02 2023-01-20 合肥维信诺科技有限公司 掩膜版组件及掩膜版组件的搬运方法
CN116162894A (zh) * 2023-02-28 2023-05-26 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制作方法

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