CN208151466U - 修正板、均匀修正装置及其镀膜机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了本实用新型提供了一种修正板，所述修正板呈弯折结构，所述弯折结构形成弧形面；本实用新型的修正板的结构简单的、便于形成厚度均匀；本实用新型还公开了一种具有上述修正板的均匀修正装置，其包括修正板及支撑机构，所述修正板如上所述，所述支撑机构包括支撑臂及辊轴，所述支撑臂的一端连接所述修正板，所述支撑臂的另一端连接所述辊轴，所述支撑臂以所述辊轴为轴心呈上下摆动的调节所述修正板的相对高度；本实用新型还公开了一种具有上述均匀修正装置的镀膜机。

Description

修正板、均匀修正装置及其镀膜机

技术领域

本实用新型涉及蒸发镀膜技术领域，尤其涉及一种修正板、均匀修正装置及其镀膜机。

背景技术

目前，光学薄膜行业内采用镀膜机制造光学薄膜，其原理是通过将光学薄膜材料气化成分子结构后的气体喷射至开设有镀膜单元的伞架，伞架通过不断的旋转以使得气化后的光学薄膜材料在镀膜单元固化生成光学薄膜。然而，由于伞架为伞状结构，气化后的光学薄膜材料喷出时具有初速度，气化后的光学薄膜材料到达伞架的各个点的距离不同，使得气化后的光学薄膜材料到达伞架的各个点的数量不同，造成同一镀膜单元及不同镀膜单元之间生成的光学薄膜的厚度不均匀，大大影响了光学薄膜的精度。现有技术中，生产过程也会采用平板结构的修正板以阻挡气化后的光学薄膜材料直接喷射到伞架，以降低因气化后光学薄膜材料喷射时具有不同的初速度造成的光学薄膜的厚度不均匀。但是，由于平板结构的修正板的各个点到伞架的各个点的距离不一致，依然会使得光学薄膜的厚度不均匀，仍然无法满足现有技术对高精度光学薄膜的要求，大大制约了光学薄膜行业的发展。

因此，亟需一种结构简单的、便于形成厚度均匀的薄膜的修正板、均匀修正装置及其镀膜机。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种结构简单的、便于形成厚度均匀的薄膜的修正板。

本实用新型的另一目的在于提供一种结构简单的、便于形成厚度均匀的薄膜的均匀修正装置。

本实用新型的又一目的在于提供一种结构简单的、便于形成厚度均匀的薄膜的镀膜机。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种修正板，所述修正板呈弯折结构，所述弯折结构形成弧形面。

较佳地，所述修正板设置有加强筋。

较佳地，所述加强筋与所述修正板一体成型。

较佳地，所述修正板呈两端窄中间宽的橄榄形结构。

相应地，本实用新型还提供了一种均匀修正装置，其包括修正板及支撑机构，所述修正板如上所述，所述支撑机构包括支撑臂及辊轴，所述支撑臂的一端连接所述修正板，所述支撑臂的另一端连接所述辊轴，所述支撑臂以所述辊轴为轴心呈上下摆动的调节所述修正板的相对高度。

较佳地，所述支撑机构还包括连接件，所述连接件连接于所述修正板与所述支撑臂之间。

较佳地，所述连接件垂直设置于所述支撑臂上。

相应地，本实用新型还提供了一种镀膜机，其包括壳体、伞架及如上所述的均匀修正装置，所述壳体呈中空结构形成蒸镀腔，所述伞架呈旋转的设置于所述蒸镀腔内，所述伞架呈伞状结构，所述伞状结构形成球形面，所述球形面呈镂空的形成若干镀膜单元，所述均匀修正装置的所述弧形面与所述球形面相对应，所述辊轴枢接于所述镀膜腔的侧壁上，镀膜时所述修正板阻挡伞架下方的蒸镀源形成的气体直接喷射于伞架上，所述气体藉由所述修正板于所述镀膜单元上形成厚度均匀的薄膜。

较佳地，所述弧形面的曲率等于所述球形面的曲率。

较佳地，所述镀膜机包括两呈对称设置的所述均匀修正装置，所述修正板的两端分别位于所述伞架的中心及边缘的正下方。

与现有技术相比，本实用新型的镀膜机包括伞架及均匀修正装置，均匀修正装置包括修正板及支撑机构，修正板呈弯折结构以形成弧形面，该弧形面与伞架的球形面相匹配，当气体朝伞架喷射时，藉由修正板的弧形面与伞架的球形面的匹配而有效阻挡气体直接喷射于伞架，从而使得气体能够均匀的在修正板的镀膜单元上形成厚度均匀的薄膜，避免了气体朝伞架喷射时，由于气体喷出时距离伞架的球形面的各个部分的距离不同，同一初速度的气体到达伞架的球形面的各个部分的时间不同，导致同一镀膜单元及不同镀膜单元之间的薄膜厚度不均匀，有效提高了薄膜的光学精度；支撑机构的支撑臂的一端连接修正板，另一端连接辊轴，以辊轴为轴心上下摆动支撑臂以带动修正板的上下摆动，调整修正板的弧形面到伞架的球形面的距离，便于根据实际生产需求合理修正弧形面的相对高度以最优化形成厚度均匀的薄膜。

附图说明

图1是本实用新型的镀膜机的结构框图。

图2是本实用新型的均匀修正装置的结构框图。

图3是图2的正视图。

图4是呈橄榄形的修正板的结构示意图。

具体实施方式

现在参考附图描述本实用新型的实施例，附图中类似的元件标号代表类似的元件。

请参阅图1所示，本实用新型提供了一种镀膜机100，其制造出来的薄膜的厚度均匀，可以用于制造诸如高清摄像头等光学仪器中的光学薄膜，为光学仪器提供高质量的光学薄膜。其中，该镀膜机100包括壳体10、伞架30及均匀修正装置40。具体的，壳体10呈中空结构形成蒸镀腔11，该蒸镀腔11为一真空腔，为薄膜的生成提供真空的可靠工作环境，避免薄膜在生成过程中受到灰尘等杂质的污染干扰。伞架30呈旋转的设置于蒸镀腔11内，伞架30呈伞状结构，伞状结构形成球形面31，球形面31呈镂空的形成若干供薄膜形成的镀膜单元32。伞架30正下方为蒸镀源，该蒸镀源为用于制作镀膜的材料经高温气化为分子结构后的气体，蒸镀源被气化成分子结构的气体后朝向伞架30喷射。需要说明的是，本实施例蒸镀源的高温分解通过于蒸镀腔11内放置一位于伞架30正下方的气化设备20，该气化设备20高温分解蒸镀源，并将气化为气体的蒸镀源朝向伞架30喷射，当然，气化设备20还可以外置于蒸镀腔11外，在蒸镀腔11位于伞架30的正下方开一与气化设备连通的喷嘴，通过喷嘴直接将外置生成额气体朝向伞架30喷射，在此不做赘述。蒸镀腔11呈对称设置有两个均匀修正装置40，以为伞架30提供全方位的阻挡保护。工作时，气化设备20朝伞架30喷射气体时，伞架30在蒸镀腔22上方匀速旋转时，气化设备20呈同步的朝向伞架30喷射气体，气体于镀膜单元32上固化形成薄膜，而均匀修正装置40阻挡气体直接喷射于伞架30上，避免因气体到达同一镀膜单元32和不同镀膜单元32的距离不同而造成薄膜的厚度不均匀。需要说明的是，本实施例的均匀修正装置40的数量设置为两个，当然，均匀修正装置40的数量也可以设置为一个、三个或四个等，根据实际薄膜均匀的精度要求设置均匀修正装置40的数量，在此不做赘述。下面将详细描述本实施例的均匀修正装置40的具体结构。

请参阅图1-图4所示，本实施例的均匀修正装置40包括修正板41及支撑机构42，其中，修正板41呈弯折结构，该弯折结构形成弧形面411，优选的，该弧形面411的曲率等于球形面31的曲率，以保证弧形面411与球形面31之间的距离相等，从而使得气体被修正板41阻挡后，被阻挡后的气体能够均匀的分布于球形面31，从而成均匀的在镀膜单元32上固化形成薄膜。修正板41设置有加强筋412，该加强筋412一体成型于修正板41以提升加强修正板41的硬度，防止修正板41因受热变形而影响弧形面411的曲率，影响本实施例的镀膜机100的工作精度。进一步的，修正板41设置为如图4所示的呈两端窄中间宽的橄榄形结构，由于气体从气化设备20喷射出来时是呈伞状结构的，该橄榄形结构的修正板41在实践中能够更有效的阻挡气体直接喷射于伞架30上，使得镀膜单元32上形成的薄膜的厚度的均匀性更好。更进一步的，修正板41的两端分别位于伞架30的中心及边缘的正下方，使得呈对称分设于蒸镀腔11的两均匀修正装置40的两修正板41能够全方位的阻挡气体直接喷射于伞架30上，从而进一步提升薄膜的厚度的均匀性。

请参阅图1-图3所示，本实施例的支撑机构42包括支撑臂421及辊轴422，支撑臂421的一端连接修正板41，支撑臂421的另一端连接辊轴422，支撑臂421以辊轴422为轴心呈上下摆动的调节修正板41的相对高度。其中，支撑机构42还包括连接件423，连接件423分别连接修正板41及支撑臂421，优选的，连接件423垂直设置于支撑臂421上。辊轴422枢接于镀膜腔的侧壁上，上下摆动支撑臂421，由于连接件423与支撑臂421垂直设置，使得支撑臂421能够带动修正板41呈上下的摆动，以调整修正板41到伞架30的距离。具体的，修正板41的弧形面411与伞架30的球形面31相对应，修正板41在上下摆动过程中，始终能够保证弧形面411到球形面31的各个点的距离相等，当气化设备20朝伞架30喷射气体时，修正板41能够阻挡气体直接喷射于伞架30，气体藉由修正板41于同一镀膜单元32及不同镀膜单元32上形成厚度均匀的薄膜。

结合图1-图4所示，本实用新型的镀膜机100包括伞架30及均匀修正装置40，均匀修正装置40包括修正板41及支撑机构42，修正板41呈弯折结构以形成弧形面411，该弧形面411与伞架30的球形面31相匹配，当气体朝伞架30喷射时，藉由修正板41的弧形面411与伞架30的球形面31的匹配而有效阻挡气体直接喷射于伞架30，从而使得气体能够均匀的在修正板41的镀膜单元32上形成厚度均匀的薄膜，避免了气体朝伞架30喷射时，由于气体喷出时距离伞架30的球形面31的各个部分的距离不同，同一初速度的气体到达伞架30的球形面31的各个部分的时间不同，导致同一镀膜单元32及不同镀膜单元32之间的薄膜厚度不均匀，有效提高了薄膜的光学精度；支撑机构42的支撑臂421的一端连接修正板41，另一端连接辊轴422，以辊轴422为轴心上下摆动支撑臂421以带动修正板41的上下摆动，调整修正板41的弧形面411到伞架30的球形面31的距离，便于根据实际生产需求合理修正弧形面411于球形面31的相对距离以最优化的形成厚度均匀的薄膜。

以上所揭露的仅为本实用新型的优选实施例而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，因此依本实用新型申请专利范围所作的等同变化，仍属本实用新型所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种修正板，其特征在于，所述修正板呈弯折结构，所述弯折结构形成弧形面。

2.如权利要求1所述的修正板，其特征在于，所述修正板设置有加强筋。

3.如权利要求2所述的修正板，其特征在于，所述加强筋与所述修正板一体成型。

4.如权利要求1所述的修正板，其特征在于，所述修正板呈两端窄中间宽的橄榄形结构。

5.一种均匀修正装置，其特征在于，包括修正板及支撑机构，所述修正板如权利要求1-4中任一项所述，所述支撑机构包括支撑臂及辊轴，所述支撑臂的一端连接所述修正板，所述支撑臂的另一端连接所述辊轴，所述支撑臂以所述辊轴为轴心呈上下摆动的调节所述修正板以调整所述弧形面的相对高度。

6.如权利要求5所述的均匀修正装置，其特征在于，所述支撑机构还包括连接件，所述连接件连接于所述修正板与所述支撑臂之间。

7.如权利要求6所述的均匀修正装置，其特征在于，所述连接件垂直设置于所述支撑臂上。

8.一种镀膜机，其包括壳体及伞架，所述壳体呈中空结构形成蒸镀腔，所述伞架呈旋转的设置于所述蒸镀腔内，所述伞架呈伞状结构，所述伞状结构形成球形面，所述球形面呈镂空的形成若干镀膜单元，其特征在于，所述镀膜机还包括均匀修正装置，所述均匀修正装置如权利要求5-7中任一项所述，所述弧形面与所述球形面相对应，所述辊轴枢接于所述镀膜腔的侧壁上，镀膜时所述修正板阻挡伞架下方的蒸镀源形成的气体直接喷射于伞架上，所述气体藉由所述修正板于所述镀膜单元上形成厚度均匀的薄膜。

9.如权利要求8所述的镀膜机，其特征在于，所述弧形面的曲率等于所述球形面的曲率。

10.如权利要求8所述的镀膜机，其特征在于，所述镀膜机包括两呈对称设置的所述均匀修正装置，所述修正板的两端分别位于所述伞架的中心及边缘的正下方。