CN207657301U - 一种陶瓷色的盖板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种陶瓷色的盖板,包括基板、光学介质膜层、DLC膜层以及油墨层;所述光学介质膜层覆盖在所述基板一侧表面,所述DLC膜层设置于所述光学介质膜层远离所述基板一侧的表面;所述光学介质膜层由至少两种氧化物材料膜层依次交替层叠形成,所述至少两种氧化物材料膜层具有不同的折射率;所述光学介质膜层和DLC膜层使入射光入射到所述盖板,经过各膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色***中满足:40≤L坐标值≤50,‑2≤a坐标值≤2,‑2≤b坐标值≤2;从而使所述盖板表现出陶瓷盖板的色泽效果。DLC膜层能够很大程度上提高盖板的强度,增加盖板表面的耐磨性能,提高其使用寿命。与陶瓷盖板相比,可降低成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及电子配件技术领域,尤其涉及一种陶瓷色的盖板。
背景技术
随着人们生活水平的提高,手机等电子产品已经成为人们必不可少的日常用品,近些年,消费者不仅对电子产品性能的要求越来越高,同时对其舒适度及外观的要求也在不断提高。因此,各厂家为了博得大众的眼球、获得消费者的青睐,不断的就电子产品的外观进行改进。
目前,陶瓷被广泛的应用到盖板行业,同时行业内对陶瓷盖板特性的研究也越来越多。陶瓷材质机械性能优异,尤其以陶瓷制作的盖板呈现出亮色,能达到具有良好的外观色泽效果,因而深受用户青睐。然而,陶瓷盖板制作工艺和流程控制要求高,其生产成本高,难以使产品具备较强的竞争力。
实用新型内容
为了解决上述现有技术的不足,本实用新型提供一种陶瓷色的盖板。
本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:
一种陶瓷色的盖板,包括基板、光学介质膜层、DLC膜层以及油墨层;所述光学介质膜层覆盖在所述基板一侧表面,所述DLC膜层设置于所述光学介质膜层远离所述基板一侧的表面;所述光学介质膜层由至少两种氧化物材料膜层依次交替层叠形成,所述至少两种氧化物材料膜层具有不同的折射率;所述光学介质膜层和DLC膜层使入射光入射到所述盖板,经过各膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色***中满足:40≤L坐标值≤50,-2≤a坐标值≤2,-2≤b坐标值≤2;所述油墨层覆盖在所述盖板背向观察一侧表面。
进一步地,所述DLC膜层的厚度是10-100nm。
进一步地,所述油墨层的厚度是1-20μm。
进一步地,所述光学介质膜层覆盖在所述基板朝向观察一侧的表面上。
进一步地,所述氧化物材料包括氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铌或者氧化钽。
进一步地,所述光学介质膜层包括按层依次覆盖在所述基板表面上的氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层和氧化硅膜层。
进一步地,各膜层的厚度依次为5nm-15nm、70nm-85nm、30nm-45nm、6nm-15nm、20nm- 35nm和125nm-135nm。
本实用新型具有如下有益效果:
基于光学介质膜层和DLC膜层对入射光的干涉作用,通过采用折射率满足要求的介质膜层,并调整膜层厚度和膜层数,使入射光入射到盖板,经过光学介质膜层和DLC膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色***中满足:40≤L坐 标值≤50,-2≤a坐标值≤2,-2≤b坐标值≤2,从而使所述盖板表现出陶瓷盖板的色泽效果。同时,DLC膜层能够很大程度上提高盖板的强度,增加盖板表面的耐磨性能,提高其使用寿命。与陶瓷盖板相比,本发明盖板能够达到陶瓷盖板的外观色泽效果,且相比可降低成本。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型中光学介质膜层的结构示意图。
图中:1、基板,2、光学介质膜层,3、DLC膜层以,4、油墨层,5、氧化钛膜层,6、氧化硅膜层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明。
参阅图1,一种陶瓷色的盖板,包括基板、光学介质膜层、DLC膜层以及油墨层。
所述基板可以是玻璃基板、塑胶基板或者金属基板,可以理解的是,也可以是其它种类的基板。
所述光学介质膜层覆盖在所述基板一侧表面,优选地,所述光学介质膜层覆盖在所述基板朝向观察一侧的表面上,即在将所述盖板安装 到电子设备时所称的正面。
所述DLC膜层设置于所述光学介质膜层远离所述基板一侧的表面。
类金刚石碳(DLC)主要由碳原子和氢原子构成。DLC分子结构稳定,具有良好的刚性、耐磨性和耐腐蚀性。本实用新型通过设置DLC膜层能够很大程度上提高盖板的强度,增加盖板表面的耐磨性能,提高其使用寿命。所述DLC膜层的厚度优选是10-100nm,更优选是30-60nm。
所述光学介质膜层由至少两种氧化物材料膜层依次交替层叠形成,所述至少两种氧化物材料膜层具有不同的折射率;所述光学介质膜层和DLC膜层使入射光入射到所述盖板,经过各膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色***中满足:40≤L坐标值≤50,-2≤a坐标值≤2,-2≤b坐标值≤2。
所述氧化物材料膜层可以是金属氧化物材料膜层或者非金属氧化物材料膜层。可选的,所述氧化物材料包括氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铌或者氧化钽,或者也可以采用其它种类的氧化物介质材料。
优选地,参阅图2,所述光学介质膜层包括按层依次覆盖在所述基板表面上的氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层和氧化硅膜层,其中,各膜层的厚度依次为5nm-15nm、70nm-85nm、30nm-45nm、6nm-15nm、20nm- 35nm和125nm-135nm。
所述油墨层覆盖在所述盖板背向观察一侧表面,即在将所述盖板安装到电子设备时所称的背面。所述油墨层用于遮蔽背面光线,避免干扰主体陶瓷色。所述油墨层的厚度优选是1-20μm,更优选的,厚度为5-15μm。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制,但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案,均应落在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种陶瓷色的盖板,包括基板、光学介质膜层、DLC膜层以及油墨层;所述光学介质膜层覆盖在所述基板一侧表面,所述DLC膜层设置于所述光学介质膜层远离所述基板一侧的表面;所述光学介质膜层由至少两种氧化物材料膜层依次交替层叠形成,所述至少两种氧化物材料膜层具有不同的折射率;所述光学介质膜层和DLC膜层使入射光入射到所述盖板,经过各膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色***中满足:40≤L坐标值≤50,-2≤a坐标值≤2,-2≤b坐标值≤2;所述油墨层覆盖在所述盖板背向观察一侧表面。
2.如权利要求1所述陶瓷色的盖板,其特征在于,所述DLC膜层的厚度是10-100nm。
3.如权利要求1所述陶瓷色的盖板,其特征在于,所述油墨层的厚度是1-20μm。
4.如权利要求1所述陶瓷色的盖板,其特征在于,所述光学介质膜层覆盖在所述基板朝向观察一侧的表面上。
5.如权利要求1所述陶瓷色的盖板,其特征在于,所述氧化物材料包括氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铌或者氧化钽。
6.如权利要求1所述陶瓷色的盖板,其特征在于,所述光学介质膜层包括按层依次覆盖在所述基板表面上的氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层和氧化硅膜层。
7.如权利要求6所述陶瓷色的盖板,其特征在于,各膜层的厚度依次为5nm-15nm、70nm-85nm、30nm-45nm、6nm-15nm、20nm- 35nm和125nm-135nm。
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CN201721770622.8U CN207657301U (zh) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | 一种陶瓷色的盖板 |
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CN113087408A (zh) * | 2021-04-01 | 2021-07-09 | 江西省亚华电子材料有限公司 | 一种仿陶瓷玻璃板及其制备方法 |
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- 2017-12-18 CN CN201721770622.8U patent/CN207657301U/zh active Active
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