CN207446433U - 一种研磨分散设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种研磨分散设备，涉及涂料生产设备领域，解决了现有研磨设备存在物料研磨效率低、出料粒度分布差的技术问题，其包括圆形筒体和支撑结构，圆形筒体的一端设置有进出料口，圆形筒体的内部设置有研磨组件，研磨组件包括一根主轴和围绕主轴的六根副轴，主轴和根副轴外侧均套设有轴套，轴套外侧均设置有环状磨环，圆形筒体的内壁上设置有与环状磨环配合的筒体内衬层。利用主轴、副轴同向自转，物料在环状磨环和筒体内衬层之间研磨的同时还在主轴套设的环状磨环和副轴套设的环状磨环之间受到挤压、剪切，可达到提高材料的研磨分散级别、提高工作效率、缩短研磨时间的效果；适于研磨纳米级物料的生产应用。

Description

一种研磨分散设备

技术领域

本实用新型涉及涂料生产设备领域，更具体的是涉及一种研磨分散设备。

背景技术

近年来，随着国内经济的快速发展，人民生活水平的不断提高，在纳米涂料生产领域，对涂料本身的质量要求也越来越高，人们为了提高纳米涂料的质量，对于纳米涂料的匀性、耐厚性、光泽度等指标要求非常严格，纳米涂料的生产过程就是把纳米粉体和填料粒子混入液体基料中，基料包括树脂或溶剂，以及其他液体，形成均匀微细的悬浮分散体，纳米粉末和填料粒子很细小，在混合和分散过程中聚集成大的二次粒子，此时就需要使用分散或研磨设备使之解除聚集,形成稳定的分子颗粒，并均匀地分散于基料中，纳米浆料或粉体品质的优劣取决于三大因素：分散研磨设备、配方、原材料优劣，其中分散和研磨装备是关键因素之一。

现有的研磨机的种类众多，包括砂磨机，珠磨机，雷蒙磨机，桩磨机，球盘磨机，胶体磨机，气流磨机，超声波磨机，搅拌磨机，辊磨机等类似的研磨机。但现有的砂磨机在能耗、所得产品粒度及粒度分布方面都显示出一定的缺陷，物料在研磨腔内沉积，得不到很好的研磨，研磨效率较低，效果不太理想。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：为了解决现有技术中存在的物料研磨效率低、出料粒度分布差的技术问题，本实用新型提供一种研磨分散设备。

本实用新型为了实现上述目的具体采用以下技术方案：

一种研磨分散设备,包括圆形筒体和支撑结构，所述圆形筒体的一端设置有进出料口，所述圆形筒体的内部设置有研磨组件，所述研磨组件包括一根主轴和围绕主轴的六根副轴，所述主轴和六根副轴外侧均套设有轴套，所述轴套外侧均设置有环状磨环，所述圆形筒体的内壁上设置有与环状磨环相配合的筒体内衬层。主轴、副轴同向自转，物料在环状磨环和筒体内衬层之间研磨的同时还在主轴套设的环状磨环和副轴套设的环状磨环之间受到挤压、剪切，可达到提高材料的研磨分散级别、提高工作效率、缩短研磨时间的效果。

所述研磨组件还包括齿环、承重齿轮和翻料电机，所述齿环设置在圆形筒体外壁上，所述承重齿轮设置在底座上，所述翻料电机设置在底座上，所述齿环与所述承重齿轮啮合。

为了提高分散级别，所述研磨组件还包括主研磨电机和六个副研磨电机，所述主研磨电机设置在圆形筒体外部，并且与主轴连接，所述六个副研磨电机设置在圆形筒体外部，并且与六根副轴连接。设备运行时，主研磨电机和副研磨电机分别给主轴和副轴提供动力，沿相同方向运动，使相邻环状磨环的接触面反向运动，接触面的微小间隙对物料产生挤压和剪切，提高研磨效率。

为了快速交换多余热量，所述圆形筒体和筒体内衬层之间设置有夹层。圆形筒体和筒体内衬层之间设置换热夹层，及时交换出多余热量，避免圆形筒体内部温度过高对研磨组件及筒体内衬层造成损坏。

为了提高设备的整体稳定性，所述支撑结构包括托环、支撑架、底座和托轮，所述托环设置在圆形筒体外壁上，所述支撑架设置在圆形筒体的两侧，所述底座与支撑架的底端固定连接，所述托轮设置在底座的上表面，并且托轮位于所述托环的下方。圆形筒体两侧设置支撑架，支撑架与地面上的底座一体化设置，从而增加设备与地面的及接触面积，增强设备的整体稳定性；在主研磨电机和副研磨电机的驱动下，圆形筒体会因作用力产生相应的转动，为此，在圆形筒体外壁上设置托环，并在底座上表面设置与托环相接的托轮，当圆形筒体绕主轴旋转时，托轮在托环的摩擦作用下反向转动，托轮为圆形筒体在托环位置提供支撑、确保设备稳定性，且通过反向转动减小与圆形筒体之间的摩擦。

为了提高研磨效率、增大摩擦，所述研磨组件还包括齿环、承重齿轮和翻料电机，所述齿环设置在圆形筒体外壁上，所述承重齿轮设置在底座上，所述翻料电机设置在底座上，所述齿环与所述承重齿轮啮合。翻料电机驱动承重齿轮，承重齿轮与圆形筒体外壁上的齿环啮合，从而带动圆形筒体沿筒体的中心轴自转，自转方向与主轴和副轴的转动方向相反，增加环状磨环与筒体内衬层的相对速度，提高研磨效率、增大摩擦，缩短研磨时间。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

整体而言主轴、副轴同向自转，物料在环状磨环和筒体内衬层之间研磨的同时还在主轴套设的环状磨环和副轴套设的环状磨环之间受到挤压、剪切，可达到提高材料的研磨分散级别、提高工作效率、缩短研磨时间的效果。

1.设备运行时，主研磨电机和副研磨电机分别给主轴和副轴提供动力，沿相同方向运动，使相邻环状磨环的接触面反向运动，接触面的微小间隙对物料产生挤压和剪切，提高研磨效率。

2.圆形筒体和筒体内衬层之间设置换热夹层，及时交换出多余热量，避免圆形筒体内部温度过高对研磨组件及筒体内衬层造成损坏。

3.在圆形筒体外壁上设置托环，并在底座上表面设置与托环相接的托轮，当圆形筒体绕主轴旋转时，托轮在托环的摩擦作用下反向转动，托轮为圆形筒体在托环位置提供支撑、确保设备稳定性，且通过反向转动减小与圆形筒体之间的摩擦。

4.翻料电机驱动承重齿轮，承重齿轮与圆形筒体外壁上的齿环啮合，从而带动圆形筒体沿筒体的中心轴自转，自转方向与主轴和副轴的转动方向相反，增加环状磨环与筒体内衬层的相对速度，提高研磨效率、增大摩擦，缩短研磨时间。

附图说明

本实用新型将通过例子并参照附图的方式说明，其中：

图1是本实用新型一种研磨分散设备的结构示意图；

图2是圆形筒体的截面图；

图3是环状磨环与圆形筒体的接触面的局部放大图；

附图标记：1—圆形筒体，2—托环，3—齿环，4—进出料口，5—主研磨电机，6—副研磨电机，7—副轴，8—主轴，9—轴套，10—环状磨环，11—夹层，12—筒体内衬层，13—翻料电机，14—承重齿轮，15—托轮，16—底座，17—支撑架。

具体实施方式

为了本技术领域的人员更好的理解本实用新型，下面结合附图和以下实施例对本实用新型作进一步详细描述、

实施例1

如图1到图3所示，

一种研磨分散设备,包括圆形筒体1和支撑结构，所述圆形筒体1的一端设置有进出料口4，所述圆形筒体1的内部设置有研磨组件，所述研磨组件包括一根主轴8和围绕主轴8的六根副轴7，所述主轴8和六根副轴7外侧均套设有轴套9，所述轴套9外侧均设置有环状磨环10，所述圆形筒体1的内壁上设置有与环状磨环10相配合的筒体内衬层12。主轴8、副轴7同向自转，物料在环状磨环10和筒体内衬层12之间研磨的同时还在主轴8套设的环状磨环10和副轴7套设的环状磨环10之间受到挤压、剪切，可达到提高材料的研磨分散级别、提高工作效率、缩短研磨时间的效果。

所述研磨组件还包括主研磨电机5和六个副研磨电机6，所述主研磨电机5设置在圆形筒体1外部，并且与主轴8连接，所述六个副研磨电机6设置在圆形筒体1外部，并且与六根副轴7连接。设备运行时，主研磨电机5和副研磨电机6分别给主轴8和副轴7提供动力，沿相同方向运动，使相邻环状磨环10的接触面反向运动，接触面的微小间隙对物料产生挤压和剪切，提高研磨效率。

所述圆形筒体1和筒体内衬层12之间设置有夹层11。圆形筒体1和筒体内衬层12之间设置换热夹层，及时交换出多余热量，避免圆形筒体1内部温度过高对研磨组件及筒体内衬层12造成损坏。

所述支撑结构包括托环2、支撑架17、底座16和托轮15，所述托环2设置在圆形筒体1外壁上，所述支撑架17设置在圆形筒体1的两侧，所述底座16与支撑架17的底端固定连接，所述托轮15设置在底座16的上表面，并且托轮15位于所述托环2的下方。圆形筒体1两侧设置支撑架17，支撑架17与地面上的底座16一体化设置，从而增加设备与地面的及接触面积，增强设备的整体稳定性；在主研磨电机5和副研磨电机6的驱动下，圆形筒体1会因作用力产生相应的转动，为此，在圆形筒体1外壁上设置托环2，并在底座16上表面设置与托环2相接的托轮3，当圆形筒体1绕主轴8旋转时，托轮3在托环2的摩擦作用下反向转动，托轮3为圆形筒体1在托环2位置提供支撑、确保设备稳定性，且通过反向转动减小与圆形筒体1之间的摩擦。

实施例2

如图1到图3所示，在实施例1的基础上，所述研磨组件还包括齿环3、承重齿轮14和翻料电机13，所述齿环3设置在圆形筒体1外壁上，所述承重齿轮14设置在底座16上，所述翻料电机13设置在底座16上，所述齿环3与所述承重齿轮14啮合。翻料电机13驱动承重齿轮14，承重齿轮14与圆形筒体1外壁上的齿环啮合，从而带动圆形筒体1沿筒体的中心轴自转，自转方向与主轴8和副轴7的转动方向相反，增加环状磨环10与筒体内衬层12的相对速度，提高研磨效率、增大摩擦，缩短研磨时间。

以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，本实用新型的专利保护范围以权利要求书为准，凡是运用本实用新型的说明书及附图内容所作的等同结构变化，同理均应包含在本实用新型的保护范围内。

Claims (5)

1.一种研磨分散设备,包括圆形筒体(1)和支撑结构，其特征在于：所述圆形筒体(1)的一端设置有进出料口(4)，所述圆形筒体(1)的内部设置有研磨组件，所述研磨组件包括一根主轴(8)和围绕主轴(8)的六根副轴(7)，所述主轴(8)和六根副轴(7)外侧均套设有轴套(9)，所述轴套(9)外侧均设置有环状磨环(10)，所述圆形筒体(1)的内壁上设置有与环状磨环(10)相配合的筒体内衬层(12)。

2.根据权利要求1所述的一种研磨分散设备，其特征在于：所述研磨组件还包括主研磨电机(5)和六个副研磨电机(6)，所述主研磨电机(5)设置在圆形筒体(1)外部，并且与主轴(8)连接，所述六个副研磨电机(6)设置在圆形筒体(1)外部，并且与六根副轴(7)连接。

3.根据权利要求1所述的一种研磨分散设备，其特征在于：所述圆形筒体(1)和筒体内衬层(12)之间设置有夹层(11)。

4.根据权利要求1到3任意一项所述的一种研磨分散设备，其特征在于：所述支撑结构包括托环(2)、支撑架(17)、底座(16)和托轮(15)，所述托环(2)设置在圆形筒体(1)外壁上，所述支撑架(17)设置在圆形筒体(1)的两侧，所述底座(16)与支撑架(17)的底端固定连接，所述托轮(15)设置在底座(16)的上表面，并且托轮(15)位于所述托环(2)的下方。

5.根据权利要求4所述的一种研磨分散设备，其特征在于：所述研磨组件还包括齿环(3)、承重齿轮(14)和翻料电机(13)，所述齿环(3)设置在圆形筒体(1)外壁上，所述承重齿轮(14)设置在底座(16)上，所述翻料电机(13)设置在底座(16)上，所述齿环(3)与所述承重齿轮(14)啮合。