CN206337062U - 一体化电絮凝全自动*** - Google Patents

Abstract

本实用新型属于废污水处理领域，一种一体化电絮凝全自动***，包括箱体和虹吸反冲机构，箱体底部由一侧至另一侧依次设置有沉淀区、电絮凝区和过滤区，电絮凝区和沉淀区的上部设置有沉淀机构，沉淀机构上部设置有集水槽，过滤区上部设置有清水区；电絮凝区内设置有电絮凝装置，箱体上设置有与电絮凝装置连通的进水口和与沉淀区连通的排泥口；集水槽通过U型配水管与过滤区连通，过滤区内设置过滤填料，且U型配水管底部位于过滤区底部，其末端与虹吸反冲机构连接，箱体上设置有与清水区连通的出水口。该***将电絮凝、混凝沉淀分离和自动反洗过滤多种手段融合在一个装置内实现，采用电絮凝技术替代了化学加药技术，避免了药剂二次污染问题。

Description

一体化电絮凝全自动***

技术领域

本实用新型属于废污水处理领域，适用于浊度废水、电镀废水、印染废水等处理，特别是一体化电絮凝全自动过滤***。

背景技术

近年来大量工业废水的排放导致水污染的范围越来越大，水污染问题也日趋严重，水资源短缺已经威胁到人类的生存和发展。目前废水处理装置大多是采用物化法，在废污水处理混凝沉淀阶段投加化学药剂，使废水中的杂质形成大的絮凝体，然后利用沉淀分离及过滤设备进行去除，此类工艺不但需要投加大量化学药剂而且容易造成水质二次污染；处理工艺涉及加药装置、沉淀池、中间水箱、过滤器等，工艺流程复杂，动力消耗高，不仅运行费用高，且操作维护复杂。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服现有技术存在的化学药剂容易造成水体二次污染的缺陷，提供一种一体化电絮凝自动***。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种一体化电絮凝全自动***，包括箱体和虹吸反冲机构，所述箱体底部由一侧至另一侧依次设置有沉淀区、电絮凝区和过滤区，所述电絮凝区和沉淀区的上部设置有沉淀机构，所述沉淀机构上部设置有集水槽，所述过滤区上部设置有清水区；所述电絮凝区内设置有电絮凝装置，所述箱体上设置有与所述电絮凝装置连通的进水口和与所述沉淀区连通的排泥口；

所述集水槽通过U型配水管与所述过滤区连通，所述过滤区内设置过滤填料，且所述U型配水管底部位于所述过滤区底部，其末端与所述虹吸反冲机构连接，所述箱体上设置有与所述清水区连通的出水口。

进一步地，所述的电絮凝装置包括框架廊道和通过绝缘支架设置在所述框架廊道内的若干平行设置的电极板，所述框架廊道一端设置有回流廊道，所述回流廊道设置有与所述电絮凝区连通的配水孔眼。由进水口进入的污水经电极板进行电絮凝，最终由回流廊道的的配水孔眼排至电絮凝区，进行后续操作。

作为优选，所述的电极板数量为10个以上，所述电极板正负极间隔设置，相邻两个所述电极板间距在30mm以内，所述电极板通过导线与外部电源连接；所述配水孔孔径为30mm。

作为优选，所述电絮凝区与所述沉淀区上部连通，所述沉淀区设置有集泥斗。电絮凝区上升的絮凝物和水的混合物上升经沉淀机构沉淀后，到达沉淀区，在集泥斗作用下沉降在沉淀区底部，最终由排泥口排出。

作为优选，所述的沉淀机构由若干平行斜板组成，相邻两个斜板间间距为25mm，所述斜板倾斜角度为60°。平行斜板可由聚丙烯材料制成，厚度为1mm，板间采用支撑筋条焊接固定，斜板整体由槽钢型材支托固定，经过电絮凝的废污水在斜板作用下实现快速泥水分离进行沉淀。

作为优选，为便于过滤区、沉淀区以及絮凝区的放空，所述过滤区设置有过滤放空口，所述过滤区底部设置有过滤放空口，所述沉淀区底部设置有沉淀放空口，所述絮凝区底部设置有絮凝放空口。

作为优选，所述的集水槽上部设置有溢流堰，所述集水槽一侧设置有与所述溢流堰连通的集水箱，所述U型配水管与所述集水箱连通。集水槽内的水经溢流堰流出汇集至集水箱内，再有U型配水管输送至过滤区进行进一步过滤处理。

进一步地，所述的过滤填料底部设置有水帽，所述水帽连通有清水连通管，所述清水连通管上端由过滤填料底部延伸至所述清水区。经过过滤填料过滤后的水经水帽进行收集，然后由清水连通管汇流至清水区内。

作为优选，所述的虹吸反冲机构包括虹吸上升管、虹吸下降管和虹吸破坏管，所述U型配水管末端与所述虹吸上升管连接，所述虹吸下降管设置在所述虹吸上升管底部，所述清水区上部设置有虹吸破坏斗，所述虹吸破坏管一端延伸至所述虹吸破坏斗，另一端与所述虹吸上升管连接。当过滤区内的过滤填料截留杂质逐渐增多，导致过滤填料水阻逐渐增大，U型配水管进入过滤填料的废污水逐渐进入虹吸上升管，当阻力达到1.5m水柱时，虹吸上升管中的废污水全部进入虹吸下降管内排出，由于虹吸下降管内部水力的抽吸作用使得清水区的清水通过清水连通管从下而上反冲洗过滤填料，冲洗一定时间后清水区内水位下降，达到虹吸破坏斗以下时，空气通过虹吸破坏管进入虹吸上升管内，在佛年高破坏虹吸反洗状态，完成过滤填料的自动反冲洗过程。

作为优选，为实现快速过滤和自动水力反冲洗，所述的过滤填料由两种以上粒径的过滤填料组成。

有益效果：该***将电絮凝、混凝沉淀分离和自动反洗过滤多种手段融合在一个装置内实现，大大缩短了***流程，减少了占地面积，降低了动力消耗，运行维护简单。另外，采用电絮凝技术替代了现有化学加药技术，避免了药剂二次污染问题，且电絮凝产生的电解质在混凝反应中絮体吸附能力强，污泥产量少，处理效果稳定、优良。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

图1是本实用新型一体化电絮凝全自动***正视图；

图2是本实用新型一体化电絮凝全自动***内部结构示意图。

其中:1.箱体，11.进水口，12.排泥口，13.出水口，14.过滤放空口，15.沉淀放空口，16.絮凝放空口，2.沉淀区，21.集泥斗，3.电絮凝区，31.电絮凝装置，32.框架廊道，33.绝缘支架，34.电极板，35.回流廊道，4、过滤区，41.过滤填料，42.水帽，43.清水连通管，5.沉淀机构，6.集水槽，61.U型配水管，62.溢流堰，63.集水箱，7.清水区，8.虹吸上升管，81.虹吸破坏管，82.虹吸破坏斗，9.虹吸下降管。

具体实施方式

实施例

如图1和2所示，一种一体化电絮凝全自动***，包括箱体1和虹吸反冲机构，所述箱体1底部由一侧至另一侧依次设置有沉淀区2、电絮凝区3和过滤区4，所述电絮凝区3和沉淀区2的上部设置有沉淀机构5，具体地，所述的沉淀机构5由若干平行斜板组成，相邻两个斜板间间距为25mm，所述斜板倾斜角度为60°；所述电絮凝区3与所述沉淀区2上部连通，连通处位于所述沉淀机构5的底部，所述沉淀区2设置有集泥斗21，所述沉淀机构5上部设置有集水槽6，所述的集水槽6上部设置有溢流堰62，所述集水槽6一侧设置有与所述溢流堰62连通的集水箱63，所述过滤区4上部设置有清水区7；

所述电絮凝区3内设置有电絮凝装置31，具体地，所述的电絮凝装置31包括框架廊道32和通过绝缘支架33设置在所述框架廊道32内的若干平行设置的电极板34，所述框架廊道32一端设置有回流廊道35，所述回流廊道35设置有与所述电絮凝区3连通的配水孔眼，其中，所述的电极板34数量为10个以上，所述电极板34正负极间隔设置，相邻两个所述电极板34间距在30mm以内，所述电极板34通过导线与外部电源连接；所述配水孔孔径为30mm；

所述集水箱63通过U型配水管61与所述过滤区4连通，所述过滤区4内设置过滤填料41，且所述U型配水管61底部位于所述过滤区4底部，其末端与所述虹吸反冲机构连接；具体地，所述的过滤填料41由两种以上粒径的过滤填料41组成，所述的过滤填料41底部设置有水帽42，所述水帽42连通有清水连通管43，所述清水连通管43上端由过滤填料41底部延伸至所述清水区7，所述的虹吸反冲机构包括虹吸上升管8、虹吸下降管9和虹吸破坏管81，所述U型配水管61末端与所述虹吸上升管8连接，所述虹吸下降管9设置在所述虹吸上升管8底部，所述清水区7上部设置有虹吸破坏斗82，所述虹吸破坏管81一端延伸至所述虹吸破坏斗82，另一端与所述虹吸上升管8连接。

所述箱体1上设置有与所述清水区7连通的出水口13，所述箱体1上设置有与所述电絮凝装置31连通的进水口11和与所述沉淀区2连通的排泥口12，所述过滤区4底部设置有过滤放空口14，所述沉淀区2底部设置有沉淀放空口15，所述絮凝区底部设置有絮凝放空口16；

工作原理如下，由进水口11进入的污水经电极板34进行电絮凝处理，最终由回流廊道35的的配水孔眼排至电絮凝区3，电絮凝区3的絮凝物和水的混合物上升经沉淀机构5沉淀后，到达沉淀区2，在集泥斗21作用下沉降在沉淀区2底部，最终由排泥口12排出；通过沉淀机构5的水达到集水槽6内，集水槽6内的水经溢流堰62流出汇集至集水箱63内，再有U型配水管61输送至过滤区4过滤处理，经过过滤填料41过滤后的水经水帽42进行收集，然后由清水连通管43汇流至清水区7内，其内清水由排水管排出。过滤区4内的过滤填料41截留杂质逐渐增多，导致过滤填料41水阻逐渐增大，U型配水管61进入过滤填料41的废污水逐渐进入虹吸上升管8，当阻力达到1.5m水柱时，虹吸上升管8中的废污水全部进入虹吸下降管9内排出，由于虹吸下降管9内部水力的抽吸作用使得清水区7的清水通过清水连通管43从下而上反冲洗过滤填料41，冲洗一定时间后清水区7内水位下降，达到虹吸破坏斗82以下时，空气通过虹吸破坏管81进入虹吸上升管8内，在佛年高破坏虹吸反洗状态，完成过滤填料41的自动反冲洗过程。

应当理解，以上所描述的具体实施例仅用于解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。由本实用新型的精神所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种一体化电絮凝全自动***，其特征在于：包括箱体(1)和虹吸反冲机构，所述箱体(1)底部由一侧至另一侧依次设置有沉淀区(2)、电絮凝区(3)和过滤区(4)，所述电絮凝区(3)和沉淀区(2)的上部设置有沉淀机构(5)，所述沉淀机构(5)上部设置有集水槽(6)，所述过滤区(4)上部设置有清水区(7)；所述电絮凝区(3)内设置有电絮凝装置(31)，所述箱体(1)上设置有与所述电絮凝装置(31)连通的进水口(11)和与所述沉淀区(2)连通的排泥口(12)；

所述集水槽(6)通过U型配水管(61)与所述过滤区(4)连通，所述过滤区(4)内设置过滤填料(41)，且所述U型配水管(61)底部位于所述过滤区(4)底部，其末端与所述虹吸反冲机构连接，所述箱体(1)上设置有与所述清水区(7)连通的出水口(13)。

2.根据权利要求1所述的一体化电絮凝全自动***，其特征在于：所述的电絮凝装置(31)包括框架廊道(32)和通过绝缘支架(33)设置在所述框架廊道(32)内的若干平行设置的电极板(34)，所述框架廊道(32)一端设置有回流廊道(35)，所述回流廊道(35)设置有与所述电絮凝区(3)连通的配水孔眼。

3.根据权利要求2所述的一体化电絮凝全自动***，其特征在于：所述的电极板(34)数量为10个以上，所述电极板(34)正负极间隔设置，相邻两个所述电极板(34)间距在30mm以内，所述电极板(34)通过导线与外部电源连接；所述配水孔孔径为30mm。

4.根据权利要求1所述的一体化电絮凝全自动***，其特征在于：所述电絮凝区(3)与所述沉淀区(2)上部连通，所述沉淀区(2)设置有集泥斗(21)。

5.根据权利要求1所述的一体化电絮凝全自动***，其特征在于：所述的沉淀机构(5)由若干平行斜板组成，相邻两个斜板间间距为25mm，所述斜板倾斜角度为60°。

6.根据权利要求1所述的一体化电絮凝全自动***，其特征在于：所述过滤区(4)底部设置有过滤放空口(14)，所述沉淀区(2)底部设置有沉淀放空口(15)，所述絮凝区底部设置有絮凝放空口(16)。

7.根据权利要求1所述的一体化电絮凝全自动***，其特征在于：所述的集水槽(6)上部设置有溢流堰(62)，所述集水槽(6)一侧设置有与所述溢流堰(62)连通的集水箱(63)，所述U型配水管(61)与所述集水箱(63)连通。

8.根据权利要求1所述的一体化电絮凝全自动***，其特征在于：所述的过滤填料(41)底部设置有水帽(42)，所述水帽(42)连通有清水连通管(43)，所述清水连通管(43)上端由过滤填料(41)底部延伸至所述清水区(7)。

9.根据权利要求8所述的一体化电絮凝全自动***，其特征在于：所述的虹吸反冲机构包括虹吸上升管(8)、虹吸下降管(9)和虹吸破坏管(81)，所述U型配水管(61)末端与所述虹吸上升管(8)连接，所述虹吸下降管(9)设置在所述虹吸上升管(8)底部，所述清水区(7)上部设置有虹吸破坏斗(82)，所述虹吸破坏管(81)一端延伸至所述虹吸破坏斗(82)，另一端与所述虹吸上升管(8)连接。

10.根据权利要求1所述的一体化电絮凝全自动***，其特征在于：所述的过滤填料(41)由两种以上粒径的过滤填料(41)组成。