CN206109216U - 一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于一种单银低辐射镀膜玻璃，提出一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃。提出的可钢化的金色低辐射镀膜玻璃具有玻璃基片（1）；玻璃基片（1）上镀有银膜层（5）；在所述的玻璃基片（1）与银膜层（5）之间由玻璃基片（1）向外依次镀有氮化硅膜层Ⅰ（2）、氧化钛膜层（3）和镍铬膜层Ⅰ（4）；银膜层（5）的外层还镀有镍铬膜层Ⅱ（6）和氮化硅膜层Ⅱ（7）；氮化硅膜层Ⅱ（7）位于最外层；镀膜玻璃的颜色为金色。本实用新型既有效保护了受热过程中的银膜层不受氧化，又有效调节了最终产品的反射色为金色，六层膜结构组成的低辐射镀膜玻璃能够耐650°C左右高温，并能阻挡外界氧气、玻璃内的钠离子等对银膜层侵蚀的膜层组合。

Description

一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃

技术领域

本实用新型属于一种单银低辐射镀膜玻璃，主要涉及一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃。

背景技术

低辐射镀膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉积一层金属银作为功能层，对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用，从而降低玻璃对红外线的吸收和辐射率，所以称之为低辐射镀膜玻璃；此种玻璃既可用于家庭窗户，也可用于商店、写字楼和高档宾馆的玻璃幕墙及其它需要的场所。

一般的低辐射镀膜玻璃产品生产出来后，不能再进行钢化或热弯处理，否则银层会被氧化或侵蚀，从而限制了镀膜玻璃的使用范围，尤其是在某些有造型设计的工程订单中。而现在可钢化的低辐射镀膜玻璃通过工艺的改进，能够做到镀膜后可再进行切、磨、洗、钢化或热弯、中空等工序。

但是，现在市场上可钢化的低辐射镀膜玻璃反射颜色比较局限，多以蓝紫、蓝灰为主，而具有金色外观色调的可钢化低辐射镀膜玻璃还比较少见，下游厂家及客户的选择性比较单一。随着人们对玻璃幕墙色彩的不断追求，常规的反射色可钢化低辐射镀膜玻璃已无法满足市场需求。而金色可钢化低辐射镀膜玻璃不仅具有辐射率低、美观、色泽纯正、感官极具震撼抢眼效果等优点，而且还可异地加工，降低了下游厂家的生产成本等特点。

现同类生产厂家多以加入铜靶或金靶沉积的薄膜，来达到金色的反色效果，但生产成本较高。我司则采用常规靶材，通过膜层厚度、气体比例等调整，则可生产出具有金色色调的可钢化低辐射镀膜玻璃。不仅降低了生产成本，而且为公司开拓了新的市场领域。

因此，研发出具有金色反射色的低辐射镀膜玻璃产品对市场的推广、提升公司及加工企业效率及效益具有重要意义。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型目的是提出一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃。

本实用新型的目的可采用如下技术方案来实现：

一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃，所述的镀膜玻璃具有玻璃基片；所述的玻璃基片上镀有银膜层；在所述的玻璃基片与银膜层之间镀有氮化硅膜层Ⅰ、氧化钛膜层和镍铬膜层Ⅰ；所述的氮化硅膜层Ⅰ、氧化钛膜层和镍铬膜层Ⅰ由玻璃基片向外依次设置；所述银膜层的外层还镀有镍铬膜层Ⅱ和氮化硅膜层Ⅱ；所述的氮化硅膜层Ⅱ位于最外层；镀在所述玻璃基片上的氮化硅膜层Ⅰ、氧化钛膜层、镍铬膜层Ⅰ、银膜层、镍铬膜层Ⅱ和氮化硅膜层Ⅱ构成由六层膜结构组成的低辐射镀膜玻璃；所述镀膜玻璃的颜色为金色。

所述氮化硅膜层Ⅰ的厚度为176.0nm～193.5nm。

所述氧化钛膜层的厚度为88nm～95nm。

所述镍铬膜层Ⅰ的厚度为5.0nm～8.2nm。

所述银膜层的厚度为96.0nm～103.6nm。

所述镍铬膜层Ⅱ的厚度为5.0nm～10.5nm。

所述氮化硅膜层Ⅱ的厚度为198nm～217.7nm。

本实用新型提出的一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃，在所述玻璃基片上涂覆六层膜层，构成一种由六层膜结构组成的低辐射镀膜玻璃，由六层膜结构组成的低辐射镀膜玻璃通过靶材控制膜层的厚度，既有效保护了受热过程中的银膜层不受氧化，又有效调节了最终产品的反射色为金色，六层膜结构组成的低辐射镀膜玻璃能够耐650°C左右高温，并能阻挡外界氧气、玻璃内的钠离子等对银膜层侵蚀的膜层组合，该产品具有金色外观色调且可镀膜后再钢化的特点。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图中：1、玻璃基片，2、氮化硅膜层Ⅰ，3、氧化钛膜层，4、镍铬膜层Ⅰ，5、银膜层，6、镍铬膜层Ⅱ，7、氮化硅膜层Ⅱ。

具体实施方式

结合附图和具体实施例对本实用新型加以说明；

如图1所示，一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃，所述的镀膜玻璃具有玻璃基片1；所述的玻璃基片1上镀有银膜层5；在所述的玻璃基片1与银膜层5之间镀有氮化硅膜层Ⅰ2、氧化钛膜层3和镍铬膜层Ⅰ4；所述的氮化硅膜层Ⅰ2、氧化钛膜层3和镍铬膜层Ⅰ4由玻璃基片1向外依次设置；所述银膜层5的外层还镀有镍铬膜层Ⅱ6和氮化硅膜层Ⅱ7；所述的氮化硅膜层Ⅱ7位于最外层；镀在所述玻璃基片上的氮化硅膜层Ⅰ2、氧化钛膜层3、镍铬膜层Ⅰ4、银膜层5、镍铬膜层Ⅱ6和氮化硅膜层Ⅱ7构成由六层膜结构组成的低辐射镀膜玻璃；所述镀膜玻璃的颜色为金色。

所述氮化硅膜层Ⅰ2的厚度为176.0nm～193.5nm。

所述氧化钛膜层3的厚度为88nm～95nm。

所述镍铬膜层Ⅰ4的厚度为5.0nm～8.2nm。

所述银膜层5的厚度为96.0nm～103.6nm。

所述镍铬膜层Ⅱ6的厚度为5.0nm～10.5nm。

所述氮化硅膜层Ⅱ7的厚度为198nm～217.7nm。

本实用新型是在高真空环境下，用磁控溅射镀膜机在浮法玻璃表面上镀制六层纳米材料膜的方法，生产一种具有金色反射色的低辐射镀膜玻璃。

所述的可钢化金色低辐射镀膜玻璃是在工厂镀膜机设备上按如下方法完成：首先镀膜室抽真空至本底真空度5×10^﹣4Pa以下，充入工艺气体（氩气、氮气、氧气），使镀膜室内工艺气体压力稳定在2.5×10^﹣1Pa左右，接通溅射电源，靶材开始溅射，新鲜的玻璃基片经清洗机清洗合格后进入真空室，经过靶材时，靶材原子或其化合物就会沉积到玻璃表面。

第一个靶靶材为非金属硅，工艺气体为氮气，将氮化硅薄膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度176.0至193.5纳米；第二个靶靶材为陶瓷钛，工艺气体为氧气，将氧化钛薄膜沉积到氮化硅表面为第二层膜，厚度88至95纳米；第三个靶靶材为镍铬合金，工艺气体为氩气，将镍铬薄膜沉积到氧化钛表面为第三层膜，厚度5.0至8.2纳米；第四个靶靶材金属银，工艺气体为氩气，将银薄膜沉积到镍铬表面为第四层膜，厚度96.0至103.6纳米；第五个靶靶材为镍铬合金，工艺气体为氩气，将镍铬薄膜沉积到银表面为第五层膜，厚度5.0至10.5纳米；第六个靶靶材为硅，工艺气体为氮气，将氮化硅薄膜沉积到镍铬表面为第六层膜，厚度198至217.7纳米。

Claims (7)

1.一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃，所述的镀膜玻璃具有玻璃基片（1）；所述的玻璃基片（1）上镀有银膜层（5）；其特征在于：在所述的玻璃基片（1）与银膜层（5）之间镀有氮化硅膜层Ⅰ（2）、氧化钛膜层（3）和镍铬膜层Ⅰ（4）；所述的氮化硅膜层Ⅰ（2）、氧化钛膜层（3）和镍铬膜层Ⅰ（4）由玻璃基片（1）向外依次设置；所述银膜层（5）的外层还镀有镍铬膜层Ⅱ（6）和氮化硅膜层Ⅱ（7）；所述的氮化硅膜层Ⅱ（7）位于最外层；镀在所述玻璃基片上的氮化硅膜层Ⅰ（2）、氧化钛膜层（3）、镍铬膜层Ⅰ（4）、银膜层（5）、镍铬膜层Ⅱ（6）和氮化硅膜层Ⅱ（7）构成由六层膜结构组成的低辐射镀膜玻璃；所述低辐射镀膜玻璃的颜色为金色。

2.如权利要求1所述的一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述氮化硅膜层Ⅰ（2）的厚度为176.0nm～193.5nm。

3.如权利要求1所述的一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述氧化钛膜层（3）的厚度为88nm～95nm。

4.如权利要求1所述的一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述镍铬薄膜层Ⅰ（4）的厚度为5.0nm～8.2nm。

5.如权利要求1所述的一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述银膜层（5）的厚度为96.0nm～103.6nm。

6.如权利要求1所述的一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述镍铬膜层Ⅱ（6）的厚度为5.0nm～10.5nm。

7.如权利要求1所述的一种可钢化的金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述氮化硅膜层Ⅱ（7）的厚度为198nm～217.7nm。