CN205966350U - 一种涂胶表面处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种涂胶表面处理装置，包括平行布置的上辊和下辊，以及用于定位上辊、下辊的机架，所述的机架上设有可沿下辊轴向转动的主支架，所述的主支架上设有与下辊配合的刮刀，所述的主支架的一侧设有副支架，所述副支架的上设有风刀以及调节风刀与上辊间距的平移架，所述的副支架上设有与平移架滑动配合的导轨，所述的平移架上设有带动风刀回转的转架。本实用新型旨在提供一种将多余的胶水去除、保证胶层平整的涂胶表面处理装置。

Description

一种涂胶表面处理装置

技术领域

本实用新型属于转印纸生产领域，尤其涉及一种涂胶表面处理装置。

背景技术

转印纸在生产过程中，需要在纸张表面涂胶，然后进入到后续的干燥和彩印环节。常见的一种涂胶机如中国专利公告号：CN2822795Y，公开了一种单面涂胶机，本实用新型涉及无纺布的上胶设备技术。主要由机架、电机、变速器、主动辊、从动辊、胶槽、刮刀组成，主动辊、从动辊分别通过轴承支撑在机架上，主动辊的一端通过变速器与电机连接，从动辊布置在主动辊的下方，从动辊和主动辊的轴向相互平行，在主动辊的前方设置胶槽。然而在涂胶的过程中，辊子的转动、纸张厚度差异以及胶槽的位置等因素都会对涂胶造成影响，因此在涂胶过程中难免会出现涂胶不均匀的现象。

实用新型内容

本实用新型是为了克服现有技术中的上述不足，提供了一种将多余的胶水去除、保证胶层平整的涂胶表面处理装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种涂胶表面处理装置，包括平行布置的上辊和下辊，以及用于定位上辊、下辊的机架，所述的机架上设有可沿下辊轴向转动的主支架，所述的主支架上设有与下辊配合的刮刀，所述的主支架的一侧设有副支架，所述副支架上设有风刀以及调节风刀与上辊间距的平移架，所述的副支架上设有与平移架滑动配合的导轨，所述的平移架上设有带动风刀回转的转架。这样，当涂胶之后的纸张从上辊输送到下辊的过程中，经过上辊时，风刀的高速气流将会吹平纸张表面的胶水，而在经过下辊时，刮刀对表面的胶层进行刮平处理，经过风刀和刮刀处理之后的胶层厚度均匀一致，保证了产品的质量。

作为优选，所述平移架包括顶板和底板，所述底板的底面上设有与导轨配合的导向槽，所述顶板靠近上辊的一边与底板转动连接，顶板的相对边上设有与底板上表面相抵的调节螺栓，所述的副支架上设有带动平移架移动的平移气缸。这样，风刀和上辊之间的相对距离可通过平移气缸推动平移架来实现，从而便于维修和调试。

作为优选，所述平移架上设有定位风刀的轴承座，风刀与轴承座转动连接，风刀的端部设有转架，所述平移架和转架之间设有推动风刀回转的风刀气缸。风刀气缸作用于转架，可推动转架转动，从而在较大范围内调整风刀角度，提高了适应性。

作为优选，所述的主支架上设有用于定位刮刀的刮刀支架，所述的刮刀与下辊的轴向平行布置，所述的机架上设有带动主支架围绕下辊轴向转动的刮刀气缸。刮刀气缸作用于主支架，使得刮刀可相对下辊转动，从而调节刮刀与下辊的相对位置。

作为优选，所述主支架上设有与下辊轴向平行的限位杆，所述的机架上设有与限位杆配合的转角限位孔。限位孔与限位杆作用，从而对主支架的转动角度进行限位。

本实用新型的有益效果是：保证表面胶层厚度均匀一致，提高了产品质量。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图中：副支架1，导轨1a，平移架2，底板2a，顶板2b，平移气缸3，风刀气缸4，调节螺栓5，转架6，风刀7，刮刀8，上辊9，刮刀支架10，下辊11，限位杆12，主支架13，机架14，转角限位孔14a，刮刀气缸15。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步的描述。

如图1所示的实施例中，一种涂胶表面处理装置，包括平行布置的上辊9和下辊11，以及用于定位上辊、下辊的机架14，机架上设有相应的支撑座，从而对上辊和下辊进行定位，并且上辊、下辊可以围绕自身轴线回转。机架上设有可沿下辊轴向转动的主支架13，主支架上设有与下辊配合的刮刀8。主支架上设有用于定位刮刀的刮刀支架10，刮刀支架设置在刮刀的两个端部，刮刀与下辊的轴向平行布置，刮刀与下辊的轴向平行布置，机架上设有带动主支架围绕下辊轴向转动的刮刀气缸15。此外，主支架上设有与下辊轴向平行的限位杆12，机架上设有与限位杆配合的转角限位孔14a。

主支架的一侧设有副支架1，副支架上设有风刀7以及调节风刀与上辊间距的平移架2，平移架上设有定位风刀的轴承座，风刀与轴承座转动连接，风刀的端部设有转架6，平移架和转架之间设有推动风刀回转的风刀气缸4。副支架上设有与平移架滑动配合的导轨1a，平移架上设有带动风刀回转的转架。平移架包括顶板2b和底板2a，底板的底面上设有与导轨配合的导向槽，顶板靠近上辊的一边与底板转动连接，相对边上设有与底板上表面相抵的调节螺栓5，副支架上设有带动平移架移动的平移气缸3。

在实际运行过程中，可通过风刀气缸来调节转架的角度，从而调整风刀的出风角度，并且可利用调节螺栓调节顶架的角度从而微调风刀角度。通过刮刀气缸可使主支架围绕下辊轴线转动，调节刮刀与下辊的相对位置。

Claims (4)

1.一种涂胶表面处理装置，其特征是，包括平行布置的上辊（9）和下辊（11），以及用于定位上辊（9）、下辊（11）的机架（14），所述的机架（14）上设有可沿下辊（11）轴向转动的主支架（13），所述的主支架（13）上设有与下辊（11）配合的刮刀（8），所述的主支架（13）的一侧设有副支架（1），所述副支架（1）上设有风刀（7）以及调节风刀（7）与上辊（9）间距的平移架（2），所述的副支架（1）上设有与平移架（2）滑动配合的导轨（1a），所述的平移架（2）上设有带动风刀（7）回转的转架（6），所述平移架（2）包括顶板（2b）和底板（2a），所述底板（2a）的底面上设有与导轨（1a）配合的导向槽，所述顶板（2b）靠近上辊（9）的一边与底板（2a）转动连接，顶板（2b）的相对边上设有与底板（2a）上表面相抵的调节螺栓（5），所述的副支架（1）上设有带动平移架（2）移动的平移气缸（3）。

2.根据权利要求1所述的一种涂胶表面处理装置，其特征是，所述平移架（2）上设有定位风刀（7）的轴承座，风刀（7）与轴承座转动连接，风刀（7）的端部设有转架（6），所述平移架（2）和转架（6）之间设有推动风刀（7）回转的风刀气缸（4）。

3.根据权利要求1或2所述的一种涂胶表面处理装置，其特征是，所述的主支架（13）上设有用于定位刮刀（8）的刮刀支架（10），所述的刮刀（8）与下辊（11）的轴向平行布置，所述的机架（14）上设有带动主支架（13）围绕下辊（11）轴向转动的刮刀气缸（15）。

4.根据权利要求1或2所述的一种涂胶表面处理装置，其特征是，所述主支架（13）上设有与下辊（11）轴向平行的限位杆（12），所述的机架（14）上设有与限位杆（12）配合的转角限位孔（14a）。