CN205934010U - 一种磁控溅射平面靶材屏蔽罩 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种磁控溅射平面靶材屏蔽罩，包括靶背板，四周侧挡板，盖板，所述盖板固定在四周侧挡板上，四周侧挡板固定在靶背板上，四周侧挡板中至少两个相对的侧挡板的上部位置之间的距离大于底部位置之间的距离。可减小在安装及实际镀膜加热过程中的形变，使其与靶材基座之间距离保持稳定，减少阴阳极之间距离过近而产生打火现象的发生频率。
Description
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射设备技术领域，特别是涉及一种改型磁控溅射平面靶材屏蔽罩，应用于磁控溅射薄膜沉积。
背景技术
在真空磁控溅射的工作过程中，电子受到电磁场的作用向阳极靠近，其运动轨迹为旋轮线，电子向阳极运动的过程中与Ar原子发生了电离碰撞，生成的 Ar 离子在电场力的作用下加速飞向阴极靶材，并以高能量轰击靶材，发生溅射效果。为确保在磁控溅射过程中沉积薄膜的纯度，需在平面靶材侧面四周及靶表面非靶材区域添加屏蔽罩，其中电子的旋轮线轨迹的旋轮半径为r=mE/(eB2)。屏蔽罩与阴极靶材之间的距离δ≤r，即δ≤mE/(eB2)=337U1/2/B (U是磁控溅射的电压，U=Eδ)，若U=400V，B=00.3T，则δ小于等于0.225cm。
在大型平面靶材的应用中传统的屏蔽罩为分体结构，靶材侧面四周为分离的四块挡板由螺钉直接固定在靶背板上，靶表面边缘四周非靶材区域由固定于侧挡板上的盖板遮罩，在大型平面靶的使用中，该种分离结构的侧挡板由于长度较长在生产过程中由于加热容易发生形变导致部分侧板距离与阴极靶材侧面过近，较容易出现打火或短路现象。
针对这种现象现有的改进技术方案是磁控溅射平面靶材屏蔽罩包括靶背板，四周侧挡板，固定螺钉组成，所述四周侧挡板为整体结构，所述四周侧挡板由螺钉固定于靶背板上，所述四周侧挡板安装后应保证其与其内部阴极靶侧面距离为2cm，虽然此技术能够达到产品质量的保证，但是产能低下，效率也较低。同时也带来了资源浪费，生产成本较高的问题。
实用新型内容
本实用新型所解决的内容是采用一种改进型磁控溅射平面靶材屏蔽罩，减少了在安装及实际镀膜加热过程中的形变，使其与靶材基座之间距离较为稳定，减少阴阳极之间距离过近而产生打火现象的发生频率。提高了产能，提高了效率，同时减少了资源浪费，降低了生产的成本。
本实用新型解决其技术问题的技术方案是：
一种磁控溅射靶材屏蔽罩，包括靶背板，四周侧挡板，盖板，所述盖板固定在四周侧挡板上，四周侧挡板固定在靶背板上，四周侧挡板中至少两个相对的侧挡板的上部位置之间的距离大于底部位置之间的距离。
进一步的，四周侧挡板中，两组相对的侧挡板的上部之间的距离大于底部之间的距离。
进一步的，所述的磁控溅射靶材屏蔽罩，两个相对侧挡板上部位置具体为侧挡板与阴极靶侧面相对应的位置。
进一步的，所述两个相对侧挡板底部位置为侧挡板与靶背板接触的位置。
进一步的，上部位置侧挡板与阴极靶侧面距离为0.3-1cm。
进一步的，侧挡板内侧上部位置的厚度小于底部位置的厚度，具体为侧挡板内侧厚度方向切除0.2-0.5mm。
进一步的，侧挡板内侧上部位置向外弯曲、倾斜。
进一步的，两个相对的侧挡板与靶背板、盖板形成截面积为梯形的形状。盖板的内侧边缘与阴极靶上表面靶材区域外沿对齐。盖板33与阴极靶上表面平行且距离保证为0.20cm。
本实用新型的有益效果在于：
本实用新型的改型磁控溅射平面靶材屏蔽罩，克服了现有技术的不足，可减小在安装及实际镀膜加热过程中的形变，使其与靶材基座之间距离保持稳定，减少阴阳极之间距离过近而产生打火现象的发生频率。
附图说明
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做进一步阐明。
图1为改型磁控溅射靶材屏蔽罩实施例一的主视图
图2为改型磁控溅射靶材屏蔽罩实施例二的主视图
图3为改型磁控溅射靶材屏蔽罩实施例三的主视图。
具体实施方式
结合图，本实用新型的改型磁控溅射靶材屏蔽罩：包括靶背板11，四周侧挡板12，盖板13，所述盖板13固定在四周侧挡板上，四周侧挡板固定在靶背板上，其特征在于，四周侧挡板12中至少两个相对的侧挡板的上部位置之间的距离大于底部位置之间的距离。
优选的，四周侧挡板中，两组相对的侧挡板的上部之间的距离大于底部之间的距离。
优选的，所述的磁控溅射靶材屏蔽罩，两个相对侧挡板上部位置具体为侧挡板与阴极靶侧面相对应的位置。
优选的，所述两个相对侧挡板底部位置为侧挡板与靶背板接触的位置。
优选的，上部位置侧挡板与阴极靶侧面距离为0.3-1cm。
优选的，侧挡板内侧上部位置的厚度小于底部位置的厚度，具体为侧挡板内侧厚度方向切除0.2-0.5mm。
优选的，侧挡板内侧上部位置向外弯曲、倾斜。
优选的，两个相对的侧挡板与靶背板、盖板形成截面积为梯形的形状。盖板的内侧边缘与阴极靶上表面靶材区域外沿对齐。盖板33与阴极靶上表面平行且距离保证为0.20cm。
实施例一：
结合附图1，所述磁控溅射平面靶材屏蔽罩，包括靶背板11，屏蔽罩，四周侧挡板12，上方盖板13，固定螺钉组成。所述四周侧挡板12为整体结构，上方盖板13也为整体结构。所述四周侧挡板12由螺钉固定于靶背板11上，所述四周侧挡板12上侧留有缺口，保证溅射过程中产生的颗粒杂质通过缺口漏掉。所述缺口下沿与位于四周侧挡板12内部的阴极靶上表面保持同一高度，所述四周侧挡板12安装后应保证其与其内部阴极靶侧面距离为0.1-0.5cm，优选0.2cm。上部位置侧挡板与阴极靶侧面距离为0.3-1cm。侧挡板内侧上部位置的厚度小于底部位置的厚度，具体为侧挡板内侧厚度方向切除0.2-0.5mm。所述上方盖板13由螺钉固定于四周侧挡板12上，上方盖板13与位于四周侧挡板12内部的阴极靶上表面平行且距离保证为0.1-0.5cm，优选0.2cm。上盖板的内侧边缘与阴极靶上表面靶材区域外沿对齐，保证非靶材区域被完全遮挡屏蔽。
实施例二：
结合附图2，所述磁控溅射平面靶材屏蔽罩，包括靶背板21，屏蔽罩，四周侧挡板22，上方盖板23，固定螺钉组成。所述四周侧挡板22为整体结构，上方盖板23也为整体结构。所述四周侧挡板22由螺钉固定于靶背板21上，所述四周侧挡板22上侧留有缺口，保证溅射过程中产生的颗粒杂质通过缺口漏掉。所述缺口下沿与位于四周侧挡板22内部的阴极靶上表面保持同一高度，所述四周侧挡板22安装后应保证其与其内部阴极靶侧面距离为0.1-0.5cm，优选0.2cm。上部位置侧挡板与阴极靶侧面距离为0.3-1cm。侧挡板内侧上部位置向外弯曲、倾斜。所述上方盖板23由螺钉固定于四周侧挡板22上，上方盖板23与位于四周侧挡板22内部的阴极靶上表面平行且距离保证为0.1-0.5cm，优选0.2cm。上盖板的内侧边缘与阴极靶上表面靶材区域外沿对齐，保证非靶材区域被完全遮挡屏蔽。
实施例三：
结合附图3，所述磁控溅射平面靶材屏蔽罩，包括靶背板31，屏蔽罩，四周侧挡板32，上方盖板33，固定螺钉组成。所述四周侧挡板32为整体结构，上方盖板33也为整体结构。所述四周侧挡板32由螺钉固定于靶背板31上，所述四周侧挡板32上侧留有缺口，保证溅射过程中产生的颗粒杂质通过缺口漏掉。所述缺口下沿与位于四周侧挡板32内部的阴极靶上表面保持同一高度，所述四周侧挡板32安装后应保证其与其内部阴极靶侧面距离为0.1-0.5cm，优选0.2cm。上部位置侧挡板与阴极靶侧面距离为0.3-1cm。两个相对的侧挡板与靶背板、盖板形成截面积为梯形的形状。盖板的内侧边缘与阴极靶上表面靶材区域外沿对齐。盖板33与阴极靶上表面平行且距离保证为0.20cm。所述上方盖板33由螺钉固定于四周侧挡板32上，上方盖板33与位于四周侧挡板32内部的阴极靶上表面平行且距离保证为0.1-0.5cm，优选0.2cm。上盖板的内侧边缘与阴极靶上表面靶材区域外沿对齐，保证非靶材区域被完全遮挡屏蔽。
在以上的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是以上描述仅是本实用新型的较佳实施例而已，本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，因此本实用新型不受上面公开的具体实施的限制。同时任何熟悉本领域技术人员在不脱离本实用新型技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。
Claims (8)
1.一种磁控溅射平面靶材屏蔽罩，包括靶背板(11)，四周侧挡板(12)，盖板(13)，所述盖板(13)固定在四周侧挡板上，四周侧挡板固定在靶背板上，其特征在于，四周侧挡板(12)中至少两个相对的侧挡板的上部位置之间的距离大于底部位置之间的距离。
2.如权利要求1所述的磁控溅射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，四周侧挡板中，两组相对的侧挡板的上部之间的距离大于底部之间的距离。
3.如权利要求1所述的磁控溅射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，两个相对侧挡板上部位置具体为侧挡板与阴极靶侧面相对应的位置。
4.如权利要求1所述的磁控溅射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，所述两个相对侧挡板底部位置为侧挡板与靶背板接触的位置。
5.如权利要求1所述的磁控溅射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，上部位置侧挡板与阴极靶侧面距离为0.3-1cm。
6.如权利要求1所述的磁控溅射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，侧挡板内侧上部位置的厚度小于底部位置的厚度，具体为侧挡板内侧厚度方向切除0.2-0.5mm。
7.如权利要求1所述的磁控溅射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，侧挡板内侧上部位置向外弯曲、倾斜。
8.如权利要求1所述的磁控溅射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，两个相对的侧挡板与靶背板、盖板形成截面积为梯形的形状，盖板的内侧边缘与阴极靶上表面靶材区域外沿对齐，盖板(33)与阴极靶上表面平行且距离保证为0.20cm。
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| CN106011770A (zh) * | 2016-08-02 | 2016-10-12 | 江苏宇天港玻新材料有限公司 | 一种磁控溅射平面靶材屏蔽罩 |
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