CN201598329U - 一种配置气体离子源的对靶磁控溅射装置 - Google Patents
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103668092A (zh) * | 2012-09-24 | 2014-03-26 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种等离子体辅助磁控溅射沉积方法 |
CN103668095A (zh) * | 2013-12-26 | 2014-03-26 | 广东工业大学 | 一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置及其使用方法 |
CN103695839A (zh) * | 2013-12-07 | 2014-04-02 | 深圳市金凯新瑞光电有限公司 | 一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置 |
CN108914060A (zh) * | 2018-07-10 | 2018-11-30 | 深圳森丰真空镀膜有限公司 | 一种燃料电池双极板表面防护涂层的制备方法 |
CN110066982A (zh) * | 2019-04-17 | 2019-07-30 | 厦门阿匹斯智能制造***有限公司 | 一种pvd镀膜产线磁控溅射的磁场分布方法 |
CN112281126A (zh) * | 2020-10-29 | 2021-01-29 | 河南卓金光电科技股份有限公司 | 一种反应磁控溅射分离式布气法 |
CN114196929A (zh) * | 2021-12-09 | 2022-03-18 | 无锡爱尔华光电科技有限公司 | 一种锂离子电池集电极膜的加工方法 |
CN114231932A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-03-25 | 北京大学深圳研究生院 | 一种新型磁控溅射镀膜设备及其控制方法 |
CN116005105A (zh) * | 2022-12-14 | 2023-04-25 | 广东汇成真空科技股份有限公司 | 离子轰击清洗工艺、装置及镀膜机和对现有机台的改造方法 |
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103668092A (zh) * | 2012-09-24 | 2014-03-26 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种等离子体辅助磁控溅射沉积方法 |
CN103668092B (zh) * | 2012-09-24 | 2016-03-02 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种等离子体辅助磁控溅射沉积方法 |
CN103695839A (zh) * | 2013-12-07 | 2014-04-02 | 深圳市金凯新瑞光电有限公司 | 一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置 |
CN103668095A (zh) * | 2013-12-26 | 2014-03-26 | 广东工业大学 | 一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置及其使用方法 |
CN103668095B (zh) * | 2013-12-26 | 2015-12-02 | 广东工业大学 | 一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置及其使用方法 |
CN108914060A (zh) * | 2018-07-10 | 2018-11-30 | 深圳森丰真空镀膜有限公司 | 一种燃料电池双极板表面防护涂层的制备方法 |
CN110066982A (zh) * | 2019-04-17 | 2019-07-30 | 厦门阿匹斯智能制造***有限公司 | 一种pvd镀膜产线磁控溅射的磁场分布方法 |
CN112281126A (zh) * | 2020-10-29 | 2021-01-29 | 河南卓金光电科技股份有限公司 | 一种反应磁控溅射分离式布气法 |
CN114196929A (zh) * | 2021-12-09 | 2022-03-18 | 无锡爱尔华光电科技有限公司 | 一种锂离子电池集电极膜的加工方法 |
CN114231932A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-03-25 | 北京大学深圳研究生院 | 一种新型磁控溅射镀膜设备及其控制方法 |
CN114231932B (zh) * | 2021-12-30 | 2024-04-19 | 北京大学深圳研究生院 | 一种磁控溅射镀膜设备及其控制方法 |
CN116005105A (zh) * | 2022-12-14 | 2023-04-25 | 广东汇成真空科技股份有限公司 | 离子轰击清洗工艺、装置及镀膜机和对现有机台的改造方法 |
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Owner name: TRITREE METAL (SHENZHEN) CO., LTD. Free format text: FORMER OWNER: SHENZHEN SENFUNG VACUUM PLATING CO., LTD. Effective date: 20110209 Free format text: FORMER OWNER: TRITREE METAL (SHENZHEN) CO., LTD. |
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C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
COR | Change of bibliographic data |
Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: 518101 8/F, IMPORT INDUSTRY BUILDING, LIUXIAN ROAD 1, ZONE 71, BAOAN DISTRICT, SHENZHEN CITY, GUANGDONG PROVINCE TO: 518106 BUILDING 7, SHIGUAN INDUSTRIAL PARK, GONGMING SUBDISTRICT, GUANGMING NEW DISTRICT, SHENZHEN CITY, GUANGDONG PROVINCE |
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TR01 | Transfer of patent right |
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Granted publication date: 20101006 |
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